分光传感器制造技术

分光传感器(1A)包括干涉滤光部(20A)、光检测基板(30A)和隔板(15)。干涉滤光部(20A)具有腔层(21)以及隔着腔层(21)相对的第1和第2镜层(22、23)，根据入射位置选择性地使规定的波长范围的光从第1镜层(22)侧透过至第2镜层(23)侧。光检测基板(30A)具有透过了干涉滤光部(20A)的光进行入射的受光面(32a)，对入射到受光面(32a)的光进行检测。隔板(15)从腔层(21)到达第1和第2镜层(22、23)的至少一方，在从与受光面(32a)交叉的规定的方向观察的情况下将干涉滤光部(20A)光学性地分离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种分光传感器。
技术介绍
作为现有的分光传感器，已知有具有根据入射位置使规定的波长范围的光选择性地透过的光学滤光部和对透过了光学滤光部的光进行检测的光检测基板的分光传感器。例如，在专利文献1所记载的分光传感器中，在光学滤光部和光检测基板之间、或者相对于光学滤光部的光的入射侧配置FOP(Fiber Optic Plate(光纤板))。另外，在专利文献2所记载的分光传感器中，在光学滤光部和光检测基板之间设置有限制光的入射角的角度限制滤光器。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平6-129908号公报专利文献2：日本特开2011-203247号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题在专利文献1所记载的分光传感器中，在光学滤光部和光检测基板之间配置有FOP的分光传感器或专利文献2所记载的分光传感器中，能够谋求光学滤光部和光检测基板之间的区域中的光的串扰的抑制。另外，在专利文献1所记载的分光传感器中，在相对于光学滤光部的光的入射侧配置有FOP的分光传感器中，通过限制入射到光学滤光部的光的入射角，从而能够谋求光学滤光部中的光的串扰的抑制。但是，对于这些分光传感器而言，光学滤光部中的光的串扰的抑制不充分，其结果，存在在光检测基板的受光面的规定的位置上所检测的光的波长范围变宽或杂散光成分变多等、滤光特性劣化的问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种能够谋求滤光特性的提高的分光传感器。解决问题的技术手段本专利技术的分光传感器包括：干涉滤光部，其具有腔层以及隔着腔层相对的第1和第2镜层，根据入射位置选择性地使规定的波长范围的光从第1镜层侧透过至第2镜层侧；光检测基板，其具有透过了干涉滤光部的光进行入射的受光面，对入射到受光面的光进行检测；以及隔板，其从腔层到达第1和第2镜层的至少一方，在从与受光面交叉的规定的方向观察的情况下，将干涉滤光部光学性地分离。在该分光传感器中，在从与受光面交叉的规定的方向观察的情况下，干涉滤光部被隔板光学性地分离，该隔板从腔层到达第1和第2镜层的至少一方。由此，例如，即使不与隔板分开地采用用于限制入射到干涉滤光部的光的入射角的结构，在腔层中，也抑制了光向与受光面平行的方向的传播，所以能够充分地谋求干涉滤光部中的光的串扰的抑制。而且，通过隔板限制了入射到光检测基板的受光面的光的入射角，所以，能够使光精度良好地入射到与干涉滤光部的入射位置对应的受光面的规定的位置。因此，根据该分光传感器，能够谋求滤光特性的提高。在此，隔板也可以从腔层至少到达第2镜层。根据该结构，能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生，能够谋求滤光特性的进一步的提高。再有，隔板也可以从腔层到达第1和第2镜层的双方。根据该结构，能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生，除此之外，由于腔层通过隔板而被可靠地分离，所以，能够更加充分地谋求干渉滤光部中的光的串扰的抑制。另外，分光传感器也可以还具备：第1耦合层，其配置在干涉滤光部和光检测基板之间，使从干涉滤光部行进至光检测基板的光透过，隔板经由第2镜层而到达第1耦合层。根据该结构，能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生，除此之外，入射到光检测基板的受光面的光的入射角通过隔板而被更进一步限制，所以，能够使光更加精度良好地入射到与干涉滤光部的入射位置对应的受光面的规定的位置。另外，分光传感器也可以还包括使入射到干涉滤光部的光透过的光透过基板、以及配置在光透过基板和干涉滤光部之间并使从光透过基板行进至干涉滤光部的光透过的第2耦合层，隔板经由第1镜层而到达第2耦合层。根据该结构，通过隔板限制入射到干涉滤光部的光的入射角，所以能够更加充分地谋求干涉滤光部中的光的串扰的抑制。此时，腔层和第2耦合层也可以由相同材料构成。根据该结构，能够容易地实现腔层和第2耦合层的层叠工序。另外，在例如通过干式蚀刻设置隔板的情况下，能够使蚀刻气体等的条件相同，因此，能够实现形状精度高的隔板。另外，折射率相同，所以也能够获得稳定的滤光特性。再有，能够谋求用于限制光的入射角的隔板的准直特性的均匀化。此外，所谓相同，是指不仅包括完全相同的情况而且包括在制造误差等的范围内大致相同的情况。另外，第1镜层和第2镜层之间的规定的方向上的距离也可以进行变化，隔板的受光面侧的端部和受光面之间的规定的方向上的距离固定，隔板的与受光面相反侧的端部和受光面之间的规定的方向上的距离固定。根据该结构，能够谋求用于限制光的入射角的隔板的准直特性的均匀化。此外，所谓固定，是指不仅包括完全固定的情况而且包括在制造误差等的范围内大致固定的情况。另外，在从规定的方向观察的情况下，隔板也可以以横穿过受光面的方式延伸。根据该结构，能够在受光面的整个区域中检测被适当地分光了的光(即，波长范围狭窄且杂散光成分少的光)。另外，分光传感器也可以还具备：反射防止膜，其配置在干涉滤光部和光检测基板之间，防止入射到受光面的光的反射。或者，在光检测基板的干涉滤光部侧的表面上也可以实施防止入射到受光面的光的反射的反射防止处理。根据这些结构，能够抑制第2镜层和光检测基板的受光面之间的光的多重反射和干渉所引起的杂散光的产生，能够谋求滤光特性的进一步的提高。另外，规定的方向也可以为与受光面垂直的方向。根据该结构，能够使分光传感器的构造简化。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供一种能够谋求滤光特性的提高的分光传感器。附图说明图1是本专利技术的第1实施方式的分光传感器的纵截面图。图2是沿图1的II－II线的部分截面图。图3是图1的分光传感器的垫片部的周边部分的放大纵截面图。图4是图1的分光传感器的干涉滤光部的中央部分的放大纵截面图。图5是表示图1的分光传感器中的受光部的像素和隔板的关系的图。图6是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图7是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图8是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图9是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图10是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图11是用于说明图1的分光传感器的制造方法的纵截面图。图12是图1的分光传感器的变形例的纵截面图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分光传感器，其特征在于，包括：干涉滤光部，其具有腔层以及隔着所述腔层相对的第1和第2镜层，根据入射位置选择性地使规定的波长范围的光从所述第1镜层侧透过至所述第2镜层侧；光检测基板，其具有透过了所述干涉滤光部的光进行入射的受光面，对入射到所述受光面的光进行检测；以及隔板，其从所述腔层到达所述第1和所述第2镜层的至少一方，在从与所述受光面交叉的规定的方向观察的情况下将所述干涉滤光部光学性地分离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.05.18 JP 2012-1143411.一种分光传感器，其特征在于，
包括：
干涉滤光部，其具有腔层以及隔着所述腔层相对的第1和第2镜
层，根据入射位置选择性地使规定的波长范围的光从所述第1镜层侧
透过至所述第2镜层侧；
光检测基板，其具有透过了所述干涉滤光部的光进行入射的受光
面，对入射到所述受光面的光进行检测；以及
隔板，其从所述腔层到达所述第1和所述第2镜层的至少一方，
在从与所述受光面交叉的规定的方向观察的情况下将所述干涉滤光部
光学性地分离。
2.如权利要求1所述的分光传感器，其特征在于，
所述隔板从所述腔层至少到达所述第2镜层。
3.如权利要求2所述的分光传感器，其特征在于，
所述隔板从所述腔层到达所述第1和所述第2镜层的双方。
4.如权利要求1～3中任一项所述的分光传感器，其特征在于，
还具备：
第1耦合层，其配置在所述干涉滤光部和所述光检测基板之间，
使从所述干涉滤光部行进至所述光检测基板的光透过，
所述隔板经由所述第2镜层而到达所述第1耦合层。
5.如权利要求1～4中任一项所述的分光传感器，其特征在于，
还具备：
光透过基板，使入射到所述干涉滤光部的光透过；以及
第2耦合层，配置在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴山胜己，笠原隆，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP