本实用新型专利技术公开了一种四维EUV反射镜装调装置，包括真空腔体、反射镜片、镜片支撑架、滑动系统、第一调节系统和第二调节系统，反射镜片位于真空腔体内，镜片支撑架安装反射镜片，滑动系统包括滑动通道和滑动体，滑动体置于滑动通道上并能够在滑动通道上滑动；镜片支撑架的底部开有球窝，以使镜片支撑架通过球窝与滑动体的配合装配在该滑动系统上；第一调节系统从真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶镜片支撑架，以使该镜片支撑架绕穿过滑动体的中心的两两之间相互垂直的三条轴线转动；第二调节系统从真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶滑动体，使滑动体沿着滑动通道滑动。本实用新型专利技术能够实现反射镜片和镜片支撑架的一维平动和三维转动的调节。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种四维EUV反射镜装调装置，包括真空腔体、反射镜片、镜片支撑架、滑动系统、第一调节系统和第二调节系统，反射镜片位于真空腔体内，镜片支撑架安装反射镜片，滑动系统包括滑动通道和滑动体，滑动体置于滑动通道上并能够在滑动通道上滑动；镜片支撑架的底部开有球窝，以使镜片支撑架通过球窝与滑动体的配合装配在该滑动系统上；第一调节系统从真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶镜片支撑架，以使该镜片支撑架绕穿过滑动体的中心的两两之间相互垂直的三条轴线转动；第二调节系统从真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶滑动体，使滑动体沿着滑动通道滑动。本技术能够实现反射镜片和镜片支撑架的一维平动和三维转动的调节。【专利说明】四维EUV反射镜装调装置
本技术属于光刻设备
，具体涉及极紫外（Extreme ultraviolet，简 写为EUV)光刻设备中的反射镜装调装置。
技术介绍
极紫外（Extreme ultraviolet,简写为EUV)光刻技术是继193nm浸没式光刻技术 之后的下一代光刻机技术，由于极紫外辐射被几乎所有物质（包括空气）强烈吸收，EUV光 刻机系统必须置于真空环境中。而且，EUV光刻机的光学系统为反射式光学系统。 EUV反射式光学系统由多组极紫外反射镜片组成。针对每块极紫外反射镜片，在封 闭的真空环境中要求稳定的安装；而且在安装完毕后通入EUV辐射调试时，整个系统要求 维持在真空环境中，并实现多维可靠的调节。这就对极紫外反射镜片的装调装置提出了较 高的要求。 同时，对于能用到极紫外反射镜片的其他系统，如极紫外辐照材料测试系统（参 考专利技术专利CN201310319441或技术专利CN201320454021，主要研究在模拟EUV光刻机 环境的EUV辐照和真空条件下，不同材料的损伤情况），也需要实现极紫外反射镜片在封闭 真空环境中的稳定安装和多维调节。
技术实现思路
(一）要解决的技术问题 本技术提出了一种新型四维EUV反射镜装调装置，以保护反射镜片并实现极 紫外反射镜片在封闭真空环境中的稳定安装和多维调节。 (二）技术方案 为解决上述技术问题，本技术提出一种四维EUV反射镜装调装置，包括真空 腔体、反射镜片、镜片支撑架，反射镜片位于真空腔体内，镜片支撑架安装所述反射镜片，所 述装调装置还包括滑动系统、第一调节系统和第二调节系统，其中，所述滑动系统也固定于 真空腔体内，包括一个滑动通道、一个滑动体和一个滑道板（52)，滑动体置于滑动通道上并 能够在滑动通道上滑动；所述滑动通道（521)开在所述滑道板上；；所述镜片支撑架的底部 开有球窝，以使镜片支撑架通过所述球窝与滑动体的配合装配在该滑动系统上；所述第一 调节系统从所述真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶所述镜片支撑架，以使该镜片支撑架 绕穿过所述滑动体的中心的两两之间相互垂直的三条轴线转动；所述第二调节系统从所述 真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶所述滑动体，使所述滑动体沿着所述滑动通道滑动。 根据本技术的【具体实施方式】，所述滑动体是球体或圆柱体。 根据本技术的【具体实施方式】，所述第一调节系统至少有三个，且其在伸入所 述真空腔体时穿过该真空腔体的壁的位置与所述第二调节系统在伸入所述真空腔体时穿 过该真空腔体的壁的位置不在同一直线上，它们所抵顶的位置与所述滑动体的中心在该镜 片支撑架的背面上的投影位置不在同一直线上。 toon] 根据本技术的【具体实施方式】，每个所述第一调节系统包括两个球铰。 根据本技术的【具体实施方式】，装调装置还包括卡压系统，其用于将所述反射 镜片固定于所述镜片支撑架上。 根据本技术的【具体实施方式】，所述卡压系统包括卡压杆和两个离心压头，其 中，所述离心压头包括离心压头轴和端盖，离心压头轴呈长圆柱形，端盖为扁圆柱形并固定 于离心压头轴的一个端面，所述离心压头轴和端盖的中心轴在一条直线上；在平行于离心 压头轴和端盖的中心轴的方向上，穿过离心压头轴和端盖开设一个通孔，所述通孔的中心 轴与离心压头轴和端盖的中心轴不在同一直线上，且所述通孔的直径与所述卡压杆的直径 一致，以使所述卡压杆的两端分别穿入所述两个离心压头的通孔。 根据本技术的【具体实施方式】，所述镜片支撑架的两个侧面设置有卡压孔，所 述反射镜片的侧面开有卡槽，其中，所述卡压杆先由所述镜片支撑架的一个侧面的卡压孔 依次穿入所述镜片支撑架并穿过所述反射镜片的卡槽到达所述镜片支撑架的另一侧面的 卡压孔。 根据本技术的【具体实施方式】，所述滑动体为滑动球，其切去一部分形成一个 端面，该端面用于与所述第二调节系统相连。 根据本技术的【具体实施方式】，所述滑动系统还包括两个连接板，其中所述连 接板用于固定所述镜片支撑架，每个连接板的下表面有两个限位球头；所述滑动通道的两 侧分别开有一个轴向与该滑动通道的轴向平行的限位通道，所述两个限位通道分别用于承 接所述限位球头。 根据本技术的【具体实施方式】，所述滑动系统还包括限位块，其固定在所述限 位通道的两端。 (三）有益效果 本技术通过引入镜片支撑架，使用卡压系统将反射镜片牢固安装在镜片支撑 架上。 本技术通过滑动系统和调节系统将镜片支撑架安放在真空腔体上，能够支撑 反射镜片和镜片支撑架的重量、实现反射镜片和镜片支撑架的定位；同时通过调整调节系 统，能够实现反射镜片和镜片支撑架的四维调节（一维平动和三维转动）。 【专利附图】【附图说明】 图1是本技术提出的极紫外反射镜片的四维装调装置的一个实施例的结构 示意图； 图2和图3是图1所示的实施例中的镜片支撑架的示意图，其中图2是正面斜视 图，图3是背面斜视图； 图4是图1所示的实施例中的镜片支撑架的反射镜片的示意图； 图5和图6是图1所示的实施例中的镜片支撑架的卡压系统的示意图，其中图5 是正面剖视图，图6是侧面剖视图； 图7是图1所示的实施例中的镜片支撑架的离心压头的示意图； 图8是图1所示的实施例中的镜片支撑架的滑动系统示意图； 图9图1所示的实施例中的镜片支撑架的第一调节系统示意图； 图10是图1所示的实施例中的镜片支撑架的第二调节系统的示意图； 图11是图1所示的实施例中的镜片支撑架的运动简图。 【具体实施方式】 本技术提出的四维EUV反射镜装调装置，包括真空腔体、反射镜片、镜片支撑 架、滑动系统、第一调节系统和第二调节系统。本技术所述的"四维"装调是指一维方 向上的平动和三维方向上的转动。 本技术的反射镜片位于真空腔体内，镜片支撑架安装所述反射镜片，滑动系 统也固定于真空腔体内，包括滑动通道和滑动体，滑动体置于滑动通道上并能够在滑动通 道上滑动；镜片支撑架的底部开有球窝，以使镜片支撑架通过所述球窝与滑动体的配合装 配在该滑动系统上。 第一调节系统从所述真空腔体外伸入真空腔体内并抵顶所述镜片支撑架使之绕 穿过所述滑动体的中心的两两之间相互垂直的三条轴线在三维方向上转动，第二调节系统 从所述真空腔体外伸入真空腔体内并抵顶所述滑动体，使所述滑动本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种四维EUV反射镜装调装置，包括真空腔体、反射镜片、镜片支撑架，反射镜片位于真空腔体内，镜片支撑架安装所述反射镜片，其特征在于：所述装调装置还包括滑动系统、第一调节系统和第二调节系统，其中， 所述滑动系统也固定于真空腔体内，包括一个滑动通道、一个滑动体和一个滑道板(52)，滑动体置于滑动通道上并能够在滑动通道上滑动；所述滑动通道(521)开在所述滑道板上； 所述镜片支撑架的底部开有球窝，以使镜片支撑架通过所述球窝与滑动体的配合装配在该滑动系统上； 所述第一调节系统从所述真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶所述镜片支撑架，以使该镜片支撑架绕穿过所述滑动体的中心的两两之间相互垂直的三条轴线转动； 所述第二调节系统从所述真空腔体外伸入真空腔体内，并抵顶所述滑动体，使所述滑动体沿着所述滑动通道滑动。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈进新，王宇，吴晓斌，谢婉露，王魁波，崔惠绒，
申请(专利权)人：中国科学院光电研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11
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