制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体技术

本发明专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体。本发明专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体，如下列反应路线所示∶其中符号如本说明书所定义。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体。本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体，如下列反应路线所示∶其中符号如本说明书所定义。【专利说明】制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体 本申请是申请号为201180052521.6(国际申请日为2011年9月7日）、专利技术名称为"制 备哒嗪酮化合物的方法和其中间体"的进入国家阶段的PCT申请的分案申请。
本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的方法和其中间体。
技术介绍
某些哒嗪酮化合物在药物或杀虫剂中是有用的已知活性组分，或用作药物或杀虫 剂的中间体（参见专利文献1-10)。 引用文献列表 专利文献 专利文献 I :W0 2007-119434 专利文献 2 :W0 2009-035150 专利文献 3 :W0 2009-086041 专利文献 4 :W0 2007-080720 专利文献 5 :W0 2009-090039 专利文献6 :EP 835865A 专利文献 7 :W0 2004-058729 专利文献 8 :W0 2005-007632 专利文献 9 :W0 2005-077915 专利文献 10 JP-A-2009-215312。 专利技术概述 技术问题 本专利技术提供了制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体。 问题的解决方案 本专利技术涉及制备哒嗪酮化合物的新方法和其中间体。下面给出了概述： 【权利要求】1.制备式（2)的化合物的方法该方法包括：式（4)的化合物 与碱反应；其中式（2)和（4)中的符号定义如下： R2代表氢，C1-C6烷基，（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环 烷基，（C1-C6烷硫基）C1-C6烷基，（C1-C6烷基亚磺酰基）C1-C6烷基，（C1-C6烷基磺酰基） C1-C6烷基，苯基，或5或6元杂芳基； 其中C1-C6烷基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、 (C1-C6烷硫基）C1-C6烷基、（C1-C6烷基亚磺酰基）C1-C6烷基和（C1-C6烷基磺酰基）C1-C6 烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可 以相同或不同；和 苯基和5或6元杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团2组的取代基，条件是，当它 们具有两个或更多个取代基时，该取代基可以相同或不同； 基团2组由下述组成：齒素，氰基，硝基，甲酰基，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，（C1-C6烷 氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰 基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6烷基氨基，二（C1-C6烷基）氨基，C3-C6环烷基氨基，（C1-C6烷 基）羰基，（C3-C6环烷基）羰基，（C1-C6烷氧基）羰基，（C1-C6烷基氨基）羰基，二（C1-C6 烷基）氨基羰基，（C3-C6环烷基氨基）羰基和三（C1-C6烷基）甲硅烷基； 在基团2组中，C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、（C1-C6 烷基）羰基、（C3-C6环烷基）羰基和（C1-C6烷氧基）羰基可以任选被一个或多个齒素取 代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； R3代表氢，C1-C6烷基，（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环 烷基，（C1-C6烷硫基）C1-C6烷基，C1-C6烷基磺酰基，（C1-C6烷基）羰基，（C1-C6烷氧基） 羰基，（C1-C6烷基氨基）羰基，二（C1-C6烷基）氨基羰基，（C3-C6环烷基氨基）羰基，苯 基，苄基或苯磺酰基； 其中C1-C6烷基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、 (C1-C6烷硫基）C1-C6烷基、C1-C6烷基磺酰基、（C1-C6烷基）羰基和（C1-C6烷氧基）羰 基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以 相同或不同；苯基、苄基和苯磺酰基可以任选具有一个或多个选自基团3组的取代基，条件 是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同； 基团3组由下述组成：卤素，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基和（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基； 在基团3组中，C1-C6烷基、C1-C6烷氧基和（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基可以任选被一 个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； R5代表C1-C6烷基或苯基； 其中C1-C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它被两个或更多个卤素 取代时，卤素可以相同或不同；苯基可以任选具有一个或多个选自基团5组的取代基，条件 是，当它具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同； 基团5组由下述组成：齒素，C1-C6烷基和C1-C6烷氧基； 在基团5组中，C1-C6烷基和C1-C6烷氧基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是， 当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同； G代表C6-C10芳基，5或6元杂芳基或8至10元稠合杂芳基； 其中C6-C10芳基、5或6元杂芳基和8至10元稠合杂芳基可以任选具有一个或多个选 自基团R4的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同； 基团R4由下述组成：卤素，氰基，硝基，甲酰基，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，（C1-C6烷氧 基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰基， C1-C6烷基磺酰基，C1-C6烷基氨基，二（C1-C6烷基）氨基，C3-C6环烷基氨基，（C1-C6烷 基）羰基，（C3-C6环烷基）羰基，（C1-C6烷氧基）羰基，（C1-C6烷基氨基）羰基，二（C1-C6 烷基）氨基羰基，（C3-C6环烷基氨基）羰基，三（C1-C6烷基）甲硅烷基，C6-C10芳基和5 或6元杂芳基； 在基团R4中，C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、（C1-C6烷氧基）C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6 炔基、C3-C6环烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、（C1-C6烷基） 羰基、（C3-C6环烷基）羰基和（C1-C6烷氧基）羰基可以任选被一个或多个卤素取代，条件 是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；C6-C10芳基和5或6元杂芳 基可以任选具有一个或多个选自基团4组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取 代基时，取代基可以相同或不同； 基团4组由下述组成：齒素，氰基，硝基，甲酰基，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，（C1-C6烷 氧基）C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰 基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6烷基氨基，二（C1-本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备式(2)的化合物的方法该方法包括：式(4)的化合物与碱反应；其中式(2)和(4)中的符号定义如下：R2代表氢，C1‑C6烷基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基，(C1‑C6烷基亚磺酰基)C1‑C6烷基，(C1‑C6烷基磺酰基)C1‑C6烷基，苯基，或5或6元杂芳基；其中C1‑C6烷基、(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基、(C1‑C6烷基亚磺酰基)C1‑C6烷基和(C1‑C6烷基磺酰基)C1‑C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；和苯基和5或6元杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团2组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，该取代基可以相同或不同；基团2组由下述组成：卤素，氰基，硝基，甲酰基，C1‑C6烷基，C1‑C6烷氧基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，C1‑C6烷硫基，C1‑C6烷基亚磺酰基，C1‑C6烷基磺酰基，C1‑C6烷基氨基，二(C1‑C6烷基)氨基，C3‑C6环烷基氨基，(C1‑C6烷基)羰基，(C3‑C6环烷基)羰基，(C1‑C6烷氧基)羰基，(C1‑C6烷基氨基)羰基，二(C1‑C6烷基)氨基羰基，(C3‑C6环烷基氨基)羰基和三(C1‑C6烷基)甲硅烷基；在基团2组中，C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基、(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、C1‑C6烷硫基、C1‑C6烷基亚磺酰基、C1‑C6烷基磺酰基、(C1‑C6烷基)羰基、(C3‑C6环烷基)羰基和(C1‑C6烷氧基)羰基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；R3代表氢，C1‑C6烷基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基，C1‑C6烷基磺酰基，(C1‑C6烷基)羰基，(C1‑C6烷氧基)羰基，(C1‑C6烷基氨基)羰基，二(C1‑C6烷基)氨基羰基，(C3‑C6环烷基氨基)羰基，苯基，苄基或苯磺酰基；其中C1‑C6烷基、(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、(C1‑C6烷硫基)C1‑C6烷基、C1‑C6烷基磺酰基、(C1‑C6烷基)羰基和(C1‑C6烷氧基)羰基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；苯基、苄基和苯磺酰基可以任选具有一个或多个选自基团3组的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团3组由下述组成：卤素，C1‑C6烷基，C1‑C6烷氧基和(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基；在基团3组中，C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基和(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；R5代表C1‑C6烷基或苯基；其中C1‑C6烷基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；苯基可以任选具有一个或多个选自基团5组的取代基，条件是，当它具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团5组由下述组成：卤素，C1‑C6烷基和C1‑C6烷氧基；在基团5组中，C1‑C6烷基和C1‑C6烷氧基可以任选被一个或多个卤素取代，条件是，当它们被两个或更多个卤素取代时，卤素可以相同或不同；G代表C6‑C10芳基，5或6元杂芳基或8至10元稠合杂芳基；其中C6‑C10芳基、5或6元杂芳基和8至10元稠合杂芳基可以任选具有一个或多个选自基团R4的取代基，条件是，当它们具有两个或更多个取代基时，取代基可以相同或不同；基团R4由下述组成：卤素，氰基，硝基，甲酰基，C1‑C6烷基，C1‑C6烷氧基，(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基，C2‑C6烯基，C2‑C6炔基，C3‑C6环烷基，C1‑C6烷硫基，C1‑C6烷基亚磺酰基，C1‑C6烷基磺酰基，C1‑C6烷基氨基，二(C1‑C6烷基)氨基，C3‑C6环烷基氨基，(C1‑C6烷基)羰基，(C3‑C6环烷基)羰基，(C1‑C6烷氧基)羰基，(C1‑C6烷基氨基)羰基，二(C1‑C6烷基)氨基羰基，(C3‑C6环烷基氨基)羰基，三(C1‑C6烷基)甲硅烷基，C6‑C10芳基和5或6元杂芳基；在基团R4中，C1‑C6烷基、C1‑C6烷氧基、(C1‑C6烷氧基)C1‑C6烷基、C2‑C6烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：M贾奇曼恩，若松孝行，安立光晴，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP