本发明专利技术提供一种表面处理剂与其制造方法及经该表面处理剂进行了处理的物品。本发明专利技术的表面处理剂含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或该聚合物的部分水解缩合物，并且含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有-(OCF2)p(OCF2CF2)q-所表示的氟氧亚烷基结构(式中，p、q分别独立地为5～80的整数，且p+q＝10～100，括弧内所示的各单元也可无规键合)，且在至少一个末端具有至少一个下述式(1)所表示的基团，以及含氟氧亚烷基的聚合物在0.1Pa以下的压力下以2℃/min升温时，自150℃起至350℃为止的范围内的相对于该聚合物的总重量的重量减少为75％以上。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种表面处理剂与其制造方法及经该表面处理剂进行了处理的物品。本专利技术的表面处理剂含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或该聚合物的部分水解缩合物，并且含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有-(OCF2)p(OCF2CF2)q-所表示的氟氧亚烷基结构(式中，p、q分别独立地为5～80的整数，且p+q＝10～100，括弧内所示的各单元也可无规键合)，且在至少一个末端具有至少一个下述式(1)所表示的基团，以及含氟氧亚烷基的聚合物在0.1Pa以下的压力下以2℃/min升温时，自150℃起至350℃为止的范围内的相对于该聚合物的总重量的重量减少为75％以上。【专利说明】氟系表面处理剂与其制造方法及经该表面处理剂进行了处 理的物品
本专利技术涉及一种氟系表面处理剂及经该表面处理剂进行了处理的物品。
技术介绍
通常，含全氟氧亚烷基的化合物由于其表面自由能量非常小，因此具有拨水拨油 性、耐化学品性、润滑性、脱模性、防污性等。利用该性质，在工业上广泛用作纸?纤维等的 拨水拨油防污剂、磁记录媒体的润滑剂、精密设备的防油剂、脱模剂、化妆品、保护膜等。最 近，为了使外观或视认性良好，在显示器的表面上不易附着指纹的技术、或容易去掉污垢的 技术的要求逐年提高，正使用全氟氧亚烷基化合物来作为能应对这些要求的材料。其中，合 适的是润滑性优异的含有（CF 2O)单元的全氟聚醚，作为含有（CF2O)单元的全氟聚醚，市售 有氟必琳（FOMBLIN)Z型。但是，氟必琳（FOMBLIN)Z型的分子量分布 广，使用这种全氟聚醚所合成的聚合物产生以下问题：由于气化的温度范围广，因此膜的性 能视真空蒸镀的条件而不同。另外产生以下问题：难以控制真空度及处理剂的升温速度，即 便使用同一装置，各批次的性能也不同。 在专利文献1?专利文献3中记载了一种含有如下组合物的表面处理剂，组合物 包含以-(OC 2F4) e (OCF2) f0-作为主链结构且在单末端具有水解性基的含氟氧亚烷基的聚合 物、与在两末端具有水解性基的含氟氧亚烷基的聚合物的混合物，并且组合物控制了在两 末端具有水解性基的含氟氧亚烷基的聚合物的含量。专利文献1?专利文献3中记载有该 表面处理剂可以形成具有优异的耐擦伤性及低动摩擦系数的拨水拨油层。 日本专利特开2011-116947号公报 日本专利特开2012-233157号公报 日本专利特开2012-72272号公报
技术实现思路
然而，在通过蒸镀处理将专利文献1?专利文献3中记载的表面处理剂涂敷在物 品表面上的情况下，存在由处理条件导致所得的层的拨水拨油性能或耐擦伤性能差的问 题。另外，专利文献1?专利文献3均在740°C下对表面处理剂进行真空蒸镀。但是，若在 740°C的高温下蒸镀，则有时因急剧加热而表面处理剂突沸，容易产生涂布不均。因此，在 平稳的条件（例如350°C左右）下缓缓蒸镀可以获得均匀的膜，因此优选。然而，专利文献 1?专利文献3中记载的表面处理剂若在350°C左右的平缓的温度条件下蒸镀，则有耐钢丝 绒（steel wool)性差的问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种表面处理剂，其不受蒸镀 处理条件的影响，尤其即便在平缓的温度条件下也能稳定地形成具有高的拨水拨油性能及 耐擦伤性能的膜。 本【专利技术者】等人进行了努力研究，结果发现，通过控制表面处理剂所含的含氟氧亚 烷基的聚合物气化的温度范围，不依赖于真空蒸镀的条件，尤其即便在350°C左右的平缓的 温度条件下进行蒸镀，也能稳定地形成具有高的拨水拨油性能及耐擦伤性能的膜。 即，本专利技术提供一种表面处理剂，其含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或该聚合物 的部分水解缩合物；并且含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有-(OCF 2) p (OCF2CF2)所表示 的氟氧亚烷基结构（式中，P、q分别独立地为5?80的整数，且p+q= 10?100,括弧内所 示的各单元也可无规键合），且在至少一个末端具有至少一个下述式（1)所表示的基团， 【权利要求】1. 一种表面处理剂，其特征在于，含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或所述聚合物的部 分水解缩合物；并且 所述含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有_(〇CF2)p(OCF2CF 2)q-所表示的氟氧亚烷基结 构，且在至少一个末端具有至少一个下述式（1)所表示的基团，式_(0CF2)p(0CF 2CF2)q-中， P、q分别独立地为5?80的整数，且p+q=10?100,括弧内所示的各单元也可无规键合， 式⑴中，R为碳数1?4的烷基或苯基，X为水解性基，a为2或3, c为1?10的整 数；以及 所述含氟氧亚烷基的聚合物在〇. IPa以下的压力下以2°C /min升温时，自150°C起至 350 °C为止的范围内的相对于所述聚合物的总重量的重量减少为75 %以上。2. 根据权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于，所述含氟氧亚烷基的聚合物是由 下述式（2)所表示， 式中，Rf 基为 _ (CF2) d- (OCF2) p (OCF2CF2) q (OCF2CF2CF2) r (OCF2CF2CF2CF2) s-0 (CF2) d-，A 为 F、H或者末端为-CF3基或-CF2H基的一价含氟基团，Q为二价有机基，Z为具有硅氧烷键的 2价?8价的有机聚娃氧烧残基，R、X、a及c如所述式（1), b为1?7的整数，a为〇或 1，d为0或1?5的整数，p、q分别独立地为5?80的整数，r、s分别独立地为0?80的 整数，且P+q+r+s = 10?100,括弧内所示的各单元也可无规键合。3. -种表面处理剂，其特征在于，含有含氟氧亚烷基的聚合物组合物，并且所述含氟氧 亚烷基的聚合物组合物含有： 含氟氧亚烷基的聚合物及/或所述聚合物的部分水解缩合物，其分子中具有-(〇cf2)p(OCF2CF2)q-所表示的氟氧亚烷基结构，且在至少一个末端具有至少一个下述式（1)所表示 的基团，式_(〇CF2)p(OCF2CF2) q-中，p、q分别独立地为5?80的整数，且p+q = 10?100， 括弧内所示的各单元也可无规键合， 式⑴中，R为碳数1?4的烷基或苯基，X为水解性基，a为2或3, c为1?10的整 数；以及 下述式（3)所表示的聚合物， A-Rf-A (3) 式（3)中，Rf 基为-(cf2) d- (OCF2) p (OCF2CF2) q (OCF2CF2CF2) r (ocf2cf2cf2cf2) s-o (cf2) d-， d为0或1?5的整数，p、q分别独立地为5?80的整数，r、s分别独立地为0?80的整 数，且p+q+r+s = 10?100,及A为F、H或者末端为_CF3基或_CF2H基的一价含氟基团；并 且 所述含氟氧亚烷基的聚合物组合物在〇. IPa以下的压力下以2°C /min升温时，自 150°C起至350°C为止的范围内的相对于所述聚合物组合物的总重量的重量减少为75%以 上。4. 根据权利要求3所述的表面处理剂，其特征在于，所述含氟氧亚烷基的聚合物为下 述式（2)所表示的聚合物及/或下述式（4)所表示的聚合物， 式（2)中，Rf 基为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种表面处理剂，其特征在于，含有含氟氧亚烷基的聚合物及/或所述聚合物的部分水解缩合物；并且所述含氟氧亚烷基的聚合物在分子中具有‑(OCF2)p(OCF2CF2)q‑所表示的氟氧亚烷基结构，且在至少一个末端具有至少一个下述式(1)所表示的基团，式‑(OCF2)p(OCF2CF2)q‑中，p、q分别独立地为5～80的整数，且p+q=10～100，括弧内所示的各单元也可无规键合，[化1]式(1)中，R为碳数1～4的烷基或苯基，X为水解性基，a为2或3，c为1～10的整数；以及所述含氟氧亚烷基的聚合物在0.1Pa以下的压力下以2℃/min升温时，自150℃起至350℃为止的范围内的相对于所述聚合物的总重量的重量减少为75％以上。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山根祐治，小池则之，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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