本实用新型专利技术公开了一种复合基板结构及触控装置，包含一透明基板、一抗反射层及一抗眩光层。抗反射层设置于透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，该第一抗反射膜的折射率大于透明基板。抗眩光层设置于抗反射层，并与透明基板分别位于抗反射层的两相反侧。该抗眩光层的折射率小于该第一抗反射膜，且具有一远离该抗反射层的粗糙表面。藉此，本实用新型专利技术复合基板结构兼具抗反射、抗眩光、防污、抗磨损等功效。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种复合基板结构及触控装置，包含一透明基板、一抗反射层及一抗眩光层。抗反射层设置于透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，该第一抗反射膜的折射率大于透明基板。抗眩光层设置于抗反射层，并与透明基板分别位于抗反射层的两相反侧。该抗眩光层的折射率小于该第一抗反射膜，且具有一远离该抗反射层的粗糙表面。藉此，本技术复合基板结构兼具抗反射、抗眩光、防污、抗磨损等功效。【专利说明】复合基板结构及触控装置
本技术是有关于一种复合基板结构及触控装置，特别是指一种具有抗反射、抗眩光、防污、耐磨损特性的复合基板结构及触控装置。
技术介绍
触控屏幕是目前智能型手机、平板计算机、笔记计算机等各种电子产品常采用的显示、输入配备。在显示功能部份，根据不同触控屏幕的结构设计，用户观看屏幕时可能会因为屏幕的反光、眩光等问题，而影响使用质量。在输入功能部分，用户常会藉由手指或触控笔等方式，在屏幕表面进行讯息输入，但如此的操作方式可能会导致屏幕表面遭受污损。
技术实现思路
因此，本技术之其中一目的，即在提供一种【改善先前技術的】解决上述问题的复合基板结构。 于是，本技术复合基板结构，包含一透明基板、一抗反射层及一抗眩光层。该抗反射层设置于该透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，该第一抗反射膜的折射率大于该透明基板。该抗眩光层设置于该抗反射层，并与该透明基板分别位于该抗反射层的两相反侧。该抗眩光层的折射率小于该第一抗反射膜，且具有一远离该抗反射层的粗糙表面。 在部分实施态样中，该复合基板结构还包含一具有疏水性且厚度小于该抗眩光层的抗污层。该抗污层设置于该抗眩光层的粗糙表面，并与该抗反射层分别位于该抗眩光层的两相反侧。 较佳地，该抗污层的主要材质为有机硅氧烷或有机全氟聚醚，其厚度介于18奈米至25奈米之间，接触角大于90度，并以喷涂技术、蒸镀技术或溅镀技术制作。 在部分实施态样中，该抗反射层还包括一第二抗反射膜，该第二抗反射膜设置于该第一抗反射膜与该抗眩光层之间，其折射率小于该第一抗反射膜且不大于该抗眩光层。 在部分实施态样中，该第一抗反射膜的数量为多层，且该抗反射层还包括至少一层第二抗反射膜；该第二抗反射膜的数量比该等第一抗反射膜的数量少一层，且该第二抗反射膜系与该等第一抗反射膜交错层迭地夹设于该等第一抗反射膜之间；该第二抗反射膜的折射率小于该第一抗反射膜的折射率并且不大于该抗眩光层的折射率。 在部分实施态样中，该第一抗反射膜的数量为多层，且该抗反射层还包括层数对应该等第一抗反射膜的第二抗反射膜；该等第一抗反射膜与该等第二抗反射膜系交错层迭，且该抗反射层是由其中一第一抗反射膜邻接于该透明基板，并由其中一第二抗反射膜邻接于该抗眩光层；该等第二抗反射膜的折射率小于该等第一抗反射膜的折射率并且不大于该抗眩光层的折射率。 较佳地，该第一抗反射膜的主要材质为氧化铌、氧化钛、氧化钽、氮氧化硅或氮化硅，该第二抗反射膜的主要材质为氧化硅或氟化镁。 较佳地，该第一抗反射膜的折射率大于1.8,该第二抗反射膜的折射率小于1.5。 较佳地，该第一抗反射膜的厚度介于115奈米至245奈米之间，该第二抗反射膜的厚度介于10奈米至110奈米之间。较佳地，该第一抗反射膜与该第二抗反射膜是藉由蒸镀技术或溅镀技术制作。 较佳地，该抗反射层的厚度介于225奈米至255奈米之间。 较佳地，该抗眩光层的主要材质为二氧化硅，其厚度不大于100奈米，表面粗糙度不大于100奈米且该表面粗糙度的数值不大于该抗眩光层的厚度，而且该抗眩光层是藉由喷涂技术并配合蚀刻技术制作。 本技术之其中另一目的，即在提供另一种【改善先前技術的】复合基板结构，该复合基板结构包含一透明基板、一抗反射层、一抗眩光层及一抗污层。该抗反射层设置于该透明基板，其包括交错迭置的至少一第一抗反射膜及至少一第二抗反射膜，并由该第一抗反射膜与该透明基板相接。该抗眩光层具有一远离该抗反射层的粗糙表面，并与透明基板分别位于该抗反射层的两相反侧。该抗污层具有疏水性，其设置于该抗眩光层，并与该抗反射层分别位于该抗眩光层的两相反侧。其中，该第一抗反射膜的折射率系分别大于该第二抗反射膜与该透明基板的折射率，且该第二抗反射膜的折射率不大于该抗眩光层的折射率。 本技术之其中再一目的，在提供一种【改善先前技術的】触控装置，该触控装置包含一个如前述的复合基板结构及一个触控感测单元，该触控感测单元设置于该透明基板未设置该抗反射层与该抗眩光层的另一侧。 本技术之功效在于:复合基板结构透过抗反射层、抗眩光层的设置，能提供抗反射及抗眩光的功效。而藉由抗污层的设置，则能增进抗污及抗磨损的效果。 【专利附图】【附图说明】 本技术之其他的特征及功效，将于参照图式的实施例详细说明中清楚地呈现，其中: 图1是一示意图，说明本技术触控装置的第一实施例； 图2是一示意图，说明本技术触控装置的第二实施例； 图3是一示意图，说明本技术触控装置的第三实施例； 图4是一示意图，说明本技术触控装置的第四实施例；及 图5是一示意图，说明本技术触控装置的第五实施例。 【具体实施方式】 在本技术被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的组件是以相同的编号来表不。【註:若僅有一個實施例或多個實施例皆採用不同的編號系統，貝?此段落刪除】 第一实施例: 参阅图1，为本技术触控装置I的第一实施例，该触控装置I可以应用于智能型手机、平板计算机、笔记计算机、显示器等电子装置，但不以此等应用方式为限。 具体来说，本实施例的触控装置I系包含一复合基板结构2及一触控感测单元3。复合基板结构2系供触控感测单元3设置其下，并包括一透明基板21、一抗反射层22及一抗眩光层23。 透明基板21可采用玻璃制作，以作为触控装置I的保护玻璃(cover glass)结构。但是，在不同的实施态样中，透明基板21还可采用乙烯对苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯等硬质或软质材料制作，而不以特定材质为限。 抗反射层22设置于透明基板21上，其包括一第一抗反射膜221，该第一抗反射膜221的折射率(index of refract1n)大于透明基板21,且较佳的厚度范围介于225奈米至255奈米之间，因此能藉由此折射率特性及厚度设定让反射光线形成破坏性干涉，有效降低反射光线的强度，而提供抗反射之效果。 进一步来说,本实施例中第一抗反射膜221是以氧化银、氧化钛、氧化钽、氮氧化硅或氮化硅等材质，藉由蒸镀技术或溅镀技术进行制作。根据此等材质的选用，第一抗反射膜221的折射率范围系大于1.8，如此能获得较佳的抗反射效果。然而，在不同的实施态样中，第一抗反射膜221的材质、折射率、厚度及制作方式，都可视需要而调整，不以此处揭露的内容为限。 抗眩光层23设置于抗反射层22上，并与透明基板21分别位于抗反射层22的两相反侧，其具有一粗糙表面231，且折射率小于第一抗反射膜221，并具有不大于100奈米的厚度。 本实施例中，抗眩光层23是以氧化硅等材质，藉由喷涂技术配合蚀刻技术制作本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种复合基板结构，其特征在于，包含：一透明基板；一抗反射层，设置于该透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，该第一抗反射膜的折射率大于该透明基板；及一抗眩光层，设置于该抗反射层，并与该透明基板分别位于该抗反射层的两相反侧，该抗眩光层的折射率小于该第一抗反射膜，且具有一远离该抗反射层的粗糙表面。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：许毅中，徐国书，张春勇，
申请(专利权)人：宸鸿科技厦门有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。