【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了，采用偏振像差的物理光瞳表征方式，并对不同的像差成分进行不同的泽尼克分解方法，最终通过测试不同测试掩模的图形偏移、焦面平移和特征尺寸误差，可实时、准确地获取成像系统偏振像差的全部信息，适用于用于任意高NA成像系统偏振像差的测量；该方法可以检测出成像系统整个光瞳的偏振像差所包含的全部信息，不需要进行额外的测量，具有检测精度高、检测速度快的优点；采用成像系统中常用的测试掩模作为测试标记，不需要设计专门的检测元件，具有结构简单、检测成本低的优点。【专利说明】
本专利技术涉及高分辨率成像系统像差检测
，尤其涉及一种高数值孔径成像 系统偏振像差的检测方法。
技术介绍
当前高分辨显微镜、望远镜和用于制备超大规模集成电路的光刻系统，均采用高 数值孔径（NA)成像技术。为了提高成像系统分辨力，需要利用浸没式（NA > 1)成像系统。 研究表明，在高NA和偏振照明条件下，成像系统的偏振像差已经成为影响成像质量的重要 因素。快速、准确地检测成像系统的偏振像差是有效控制偏振像差的重要前提，对于提高成 像质量具有重要...
【技术保护点】
一种高数值孔径成像系统偏振像差的检测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、设置高数值孔径成像系统中的测试掩模：所述测试掩模中包括三组测试标记：第一组为光栅结构的二元掩模，第二组为相移90°的交替相移掩模，第三组为相移180°的交替相移掩模；三组测试掩模均为密集线条结构，不透明线条与透明线条的占空比为1∶1；步骤2、将高数值孔径成像系统中的照明光源的偏振照明方式设置成45°线偏振光，并采用四极照明方式，得到第一组测试掩模的理想焦面处的空间像分布，进而得到理想焦面处的一阶强度分布的相移量，然后建立相移量与波像差奇项的泽尼克系数和双向延迟奇项的取向泽尼克系数之间的关系式：其中，...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李艳秋，董立松，戴学兵，刘昊，刘克，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：北京;11
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