密封设备和利用其制造显示装置的方法制造方法及图纸

提供了一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备以及一种利用该密封设备制造显示设备的方法，所述密封设备包括：工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上，其中，第一基板和第二基板通过照射到密封剂上的光而固定在一起，从而密封被第一基板和第二基板之间的密封剂包围的空间。

【技术实现步骤摘要】
本申请要求于2013年7月9日提交的第10-2013-0080269号韩国专利申请的优先权和通过其产生的所有权益，该申请的内容通过引用全部包含于此。
本专利技术的示例性实施例涉及一种密封设备和一种利用该密封设备通过将光照射到显示装置上以密封显示装置的制造显示装置的方法。
技术介绍
通常，有机发光显示器包括被限定有像素区域和非像素区域的基板和设置成与基板相对以密封基板的像素区域并通过密封剂结合到基板的容器或密封基板。 包括以矩阵形式布置并连接到扫描线和数据线的多个像素的像素阵列设置在基板的像素区域中。每个像素包括具有阳极、阴极和设置在阳极和阴极之间的有机薄膜层的有机发光二极管。有机薄膜层可以包括空穴传输层、有机发射层和电子传输层。 当湿气或氧渗透到包括有机材料的有机发光二极管中时，在有机发光二级管中可能出现诸如发射效率降低或发射颜色改变的故障，有机发光二极管的通常包括金属的阴极可能被氧化或被剥落。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例提供了一种能够防止密封剂与基板之间结合缺陷的密封设备。 本专利技术的示例性实施例还提供了一种用于制造显示装置的方法，在该方法中可以通过密封剂和基板之间的稳定结合来改善显示装置的密封效果和可靠性。 根据本专利技术的不例性实施例，一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备包括:工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上，其中，第一基板和第二基板通过照射到密封剂上的光而固定在一起，从而密封被第一基板和第二基板之间的密封剂包围的空间。 在示例性实施例中，凹部可以具有内侧壁和外侧壁，多个通风口可以被限定在外侧壁中。 在示例性实施例中，凹部可以为具有开口侧的阶梯形状。 在示例性实施例中，密封剂包括与第一基板和第二基板的四个边相对应的四个部分，凹部的与密封剂的两个相对的部分相对应的一部分包括内侧壁和外侧壁，以及凹部的与密封剂的另外两个相对的部分相对应的一部分为具有开口侧的阶梯形状。 在示例性实施例中，多个通风口可以被限定在凹部的与密封剂的所述两个相对的部分相对应的部分的外侧壁中。 在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括被构造成使光学头沿着密封剂移动的移动单元。 在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括被构造成向光学头提供光的光学振荡器。 在示例性实施例中，所述密封设备还可以包括:掩模，设置在工作台和光学头之间，其中，掩模包括被限定在掩模中以与密封剂相对应的透射部分。 在示例性实施例中，密封剂可以包括玻璃料。 在示例性实施例中，光可以是激光或红外光。 根据本专利技术的另一示例性实施例，提供了一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括:将像素阵列设置在第一基板上；将密封剂设置在第二基板的侧部分上；将第二基板设置在第一基板上；将第一基板和第二基板设置在包括被限定为与密封剂相对应的凹部的工作台上；以及在使发射光的光学头在工作台上方沿着密封剂移动的同时，通过使光照射到密封剂上将密封剂与第一基板和第二基板结合。 在示例性实施例中，像素阵列可以包括有机材料。 在示例性实施例中，光可以是激光或红外光。 在示例性实施例中，设置密封剂的步骤可以包括:沿着第二基板的边缘涂覆膏状态的玻璃料；以及通过烧结膏状态的玻璃料来去除膏糊状态的玻璃料中的湿气。 【附图说明】 通过参照附图详细描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述和其他特征将变得更清楚，在附图中: 图1A是示出根据本专利技术的显示装置的示例性实施例的平面图； 图1B是沿图1A中的线11-12截取的剖视图； 图2是示出根据本专利技术的密封设备的示例性实施例的截面图； 图3A是示出根据本专利技术的密封设备中的工作台的示例性实施例的平面图； 图3B是沿图3A中的线111-112截取的剖视图； 图4A是示出根据本专利技术的密封设备中的工作台的可选择的示例性实施例的平面图； 图4B是沿图4A中的线121-122截取的剖视图； 图5A是示出根据本专利技术的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图； 图5B是沿图5A中的线131-132截取的剖视图； 图6是示出根据本专利技术的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图； 图7是示出根据本专利技术的密封设备中的工作台的另一可选择的示例性实施例的平面图； 图8和图9是示出根据本专利技术的密封设备的示例性实施例的截面图；以及 图1OA至图1OD是示出根据本专利技术的利用密封设备制造显示装置的方法的示例性实施例的截面图。 【具体实施方式】 在下文中将参照附图更充分地描述本专利技术，在附图中示出了本专利技术的实施例。然而，该专利技术可以以许多不同形式来实施，并且不应被解释为限制于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得该公开将是彻底的和完全的，并将向本领域技术人员充分传达本专利技术的范围。相同的标号始终表示相同的元件。 将理解的是，当元件或层被称作“在另一元件或层上”、“与另一元件或层连接”或“与另一元件或层结合”时，该元件或层可直接在另一元件或层上、直接与另一元件或层连接、直接与另一元件或层结合，或者可存在中间元件或层。相反，当元件被称作“直接在另一元件或层上”、“直接与另一元件或层连接”或“直接与另一元件或层结合”时，不存在中间元件或层。相同的标号始终表示相同的元件。如这里所用的，术语“和/或”包括相关的所列项的一个或更多个的任意组合和全部组合。 将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二等来描述不同的元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应被这些术语所限制。这些术语仅用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区别开来。因此，在不脱离本专利技术教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被称为第二元件、组件、区域、层或部分。 为了易于描述，在这里可使用诸如“在…之下”、“在…下方”、“下面的”、“在…上方”、“上面的”等空间相对术语以描述如附图中示出的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果将附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件或特征“下方”或“下面”的元件将随后位于其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在…下方”可包含“在…上方”和“在…下方”两种方位。该装置可被另外定位(旋转90度或在其它方位)并相应地解释这里使用的空间相对描述符。 这里所用的术语仅是出于描述具体的实施例的目的，而不意图来限制本专利技术。如这里所用的，除非上下文另外明确地指明，否则单数形式也意图包括复数形式。将进一步理解的是，术语“包含”和/或“包括”用在本说明书中时说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在或添加。 考虑到测量的问题和与特定量的测量相关的误差(B卩，测量系统的局限性)，如这里所使用的“大约”或“近似”包括陈述的值并意味着在如本领域普通技术人员所确定的具体值的可接受的偏差范围内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备，所述密封设备包括：工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上。

【技术特征摘要】
2013.07.09 KR 10-2013-00802691.一种通过密封剂密封第一基板和第二基板的密封设备，所述密封设备包括: 工作台，支撑第一基板和第二基板，其中，密封剂沿着第一基板和第二基板的边缘置于第一基板和第二基板之间，工作台包括被限定为与密封剂相对应的凹部；以及光学头，被构造成将光照射到密封剂上。2.如权利要求1所述的密封设备，其中， 凹部包括内侧壁和外侧壁，以及 多个通风口被限定在外侧壁中。3.如权利要求1所述的密封设备，其中，凹部为具有开口侧的阶梯形状。4.如权利要求1所述的密封设备，其中， 密封剂包括与第一基板和第二基板的四个边相对应的四个部分， 凹部的与密封剂的两个相对的部分相对应的一部分包括内侧壁和外侧壁，以及 凹部的与密封剂的另外两个相对的部分相对应的一部分为具有开口侧的阶梯形状。5.如权利要求4所述的密封设备，其中，多个通风口被限定在凹部的与密封剂的所述两个相对的部分相对应的部分的外侧壁中。6.如权利要求1所述的密封设备，所述密封设备还包括: 移动单元，被构造成...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩政洹，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR