一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法技术

本发明专利技术公开了一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法，将硅源化合物加入到还原性化合物的水溶液中，再加入配体化合物配成前体溶液，在紫外光下辐射，得到水溶性的荧光硅纳米颗粒。本发明专利技术的方法完全在水相中进行，操作安全，快速简便，毒性小，原料安全易得。所得的荧光硅纳米颗粒有很好的单分散性，荧光性质和量子产率高，稳定性好，具有良好的水溶性，可以作为荧光标记物广泛用于生物检测和分析，有望用于相关光学的工业生产上。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法，其特征在于，包括下述步骤：（1）将硅源化合物加入到还原性化合物的水溶液中，再加入配体化合物配成前体溶液；所述的硅源化合物、还原性化合物、配体化合物的摩尔比为1: （0.1~100）: （0.1~100）；（2）将步骤（1）所得的前体溶液在紫外光下辐射至少10min，得到水溶性的荧光硅纳米颗粒。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何耀，钟旖菱，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32