合金材料用清洗剂及合金材料的制造方法技术

本发明专利技术提供合金材料用清洗剂，其含有具有SO3M基(其中，M表示抗衡离子)的阴离子性表面活性剂，并且具有1.5以上且4以下的范围的pH。优选的是，合金材料用清洗剂还含有有机酸。另外，提供合金材料的制造方法，其包括使用该合金材料用清洗剂来清洗合金材料的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】合金材料用清洗剂及合金材料的制造方法
本专利技术涉及合金材料用清洗剂及合金材料的制造方法。
技术介绍
合金材料由于具有比纯金属材料优异的机械强度、耐化学药品性、耐腐蚀性、或耐 热性等这样的优点而用于各种用途。对于合金材料，实施例如研磨等加工（参见专利文献 1、2)。在要求清洁性的用途中应用的合金材料使用清洗液来进行清洗。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :特开平01-246068号公报 专利文献2 :特开平11-010492号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问是页 对于合金材料所应用的合金材料用清洗剂，从去除合金材料的表面上附着的异物 和抑制合金材料的表面的腐蚀的观点出发，尚有改善的余地。例如，对于合金材料用清洗 齐U，若提高去除合金材料的表面上附着的异物的性能，则存在合金材料的表面变得容易被 腐蚀的担心。 本专利技术的目的在于提供可得到合金材料的表面的高清洁性、并且能够抑制合金材 料的表面的腐蚀所导致的品质降低的合金材料用清洗剂及合金材料的制造方法。 用于解决问题的方案 为了达成上述目的，本专利技术的一个方式提供一种合金材料用清洗剂，其含有具有 S03M基的阴离子性表面活性剂，并且具有1. 5以上且4以下的范围的pH，其中，M表示抗衡 离子。 优选的是，合金材料用清洗剂还含有有机酸。 另外，本专利技术的另一个方式提供一种合金材料的制造方法，其包括使用上述合金 材料用清洗剂来清洗合金材料的清洗工序。 优选的是，前述清洗工序中，前述合金材料用清洗剂的温度为60°C以下。 优选的是，合金材料的制造方法还具备在前述清洗工序之前实施的研磨工序，前 述研磨工序中使用研磨用组合物来研磨合金材料。 优选的是，前述清洗工序中，在前述研磨工序后的合金材料上附着的前述研磨用 组合物干燥之前，使合金材料与前述合金材料用清洗剂进行接触。 专利技术的效果 根据本专利技术，可得到合金材料的表面的高清洁性，并且能够抑制合金材料的表面 的腐蚀所导致的品质降低。 【具体实施方式】 以下，说明本专利技术的一个实施方式。 合金材料用清洗剂含有阴离子性表面活性剂，并且具有1. 5以上且4以下的范围 的pH。应用本实施方式的合金材料用清洗剂的合金材料的表面的至少一部分是由使用研磨 用组合物研磨得到的镜面构成的。 合金材料用清洗剂中使用的阴离子性表面活性剂具有30#基（其中，M表示抗衡 离子）。以下，在没有特别说明的情况下，阴离子性表面活性剂这一术语表示具有30#基 的阴离子性表面活性剂。 作为阴离子性表面活性剂的具体例，例如可列举出烷基磺酸系化合物、烷基苯磺 酸系化合物、烷基萘磺酸系化合物、甲基牛磺酸系化合物、烷基二苯基醚二磺酸系化合物、 a-烯烃磺酸系化合物、萘磺酸缩合物、磺基琥珀酸二酯系化合物等。作为阴离子性表面活 性剂，也可以使用侧链具有S03M基的聚合物或共聚物等。作为S03M基中的M所示的抗衡 离子的具体例，可列举出氢离子、碱金属离子、铵离子、链烷醇胺离子等。作为碱金属离子的 具体例，例如可列举出锂离子、钠离子、钾离子等。 在阴离子性表面活性剂中，从对合金材料的清洗性高且腐蚀性低的观点出发，优 选烷基苯磺酸或其盐。烷基苯磺酸中的烷基的碳数优选为8?20、更优选为10?15。作 为烷基苯磺酸或其盐，例如可适宜地使用十二烷基苯磺酸或其盐。 在阴离子性表面活性剂中，通过使用S03M基中的M所示的抗衡离子为氢离子的 磺酸型的阴离子性表面活性剂，能够降低合金材料用清洗剂的pH。因此，变得容易将合金材 料用清洗剂的pH调节至4以下。 合金材料用清洗剂中的阴离子性表面活性剂的含量优选为170质量ppm(170mg/ kg)以上、更优选为300质量ppm(300mg/kg)以上。随着合金材料用清洗剂中的阴离子性表 面活性剂的含量的增加，清洗性提高。合金材料用清洗剂中的阴离子性表面活性剂的含量 优选为15000质量ppm(15000mg/kg)以下、更优选为5000质量ppm(5000mg/kg)以下、进一 步优选为2000质量ppm(2000mg/kg)以下。随着合金材料用清洗剂中的阴离子性表面活性 剂的含量的减少，对合金材料的腐蚀性降低。 关于合金材料用清洗剂，例如以提高清洗性、控制起泡为目的，也可以含有上述阴 离子性表面活性剂以外的阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂、水溶性高分子、螯合 剂等。作为上述阴离子性表面活性剂以外的阴离子性表面活性剂的具体例，例如可列举出 多元羧酸系表面活性剂、烷基苯硫酸酯系表面活性剂等。作为非离子性表面活性剂的具体 例，例如可列举出聚氧乙烯烷基醚、山梨糖醇酐单油酸酯、具有一种或多种氧亚烷基单元的 氧亚烷基系聚合物等。作为水溶性高分子的具体例，例如可列举出聚乙二醇、聚乙烯醇、聚 乙烯基吡咯烷酮、羟乙基纤维素等。作为螯合剂的具体例，例如可列举出胺、氨基酸、有机膦 酸、酚衍生物、多氨基膦酸、1，3_二酮等。 从抑制合金材料的腐蚀的观点出发，合金材料用清洗剂也可以含有防腐剂。对防 腐剂没有特别限定，优选为杂环式化合物。对杂环式化合物中的杂环的元数没有特别限定。 另外，杂环式化合物可以为单环化合物、也可以为具有稠环的多环化合物。 例如从抑制因阴离子性表面活性剂而产生的发泡的观点出发，合金材料用清洗剂 也可以含有消泡剂。作为消泡剂的具体例，例如可列举出硅油系消泡剂、矿物油系消泡剂 等。 将合金材料用清洗剂应用于使用含有胶体二氧化硅作为磨粒的研磨用组合物进 行了研磨的合金材料时，合金材料用清洗剂的pH优选处于1. 6以上且3. 5以下的范围内。 合金材料用清洗剂可以含有公知的酸、碱、或盐作为pH调节剂。作为酸的具体例， 可列举出无机酸和有机酸。作为无机酸的具体例，例如可列举出盐酸、硫酸、硝酸、氢氟酸、 硼酸、碳酸、次磷酸、亚磷酸、磷酸等。作为有机酸的具体例，例如可列举出甲酸、乙酸、丙酸、 丁酸、戊酸、2-甲基丁酸、正己酸、3, 3-二甲基丁酸、2-乙基丁酸、4-甲基戊酸、正庚酸、2-甲 基己酸、正辛酸、2-乙基己酸、苯甲酸、乙醇酸、水杨酸、甘油酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二 酸、己二酸、庚二酸、马来酸、邻苯二甲酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸、乳酸、二甘醇酸、2-呋喃 羧酸、2, 5-呋喃二羧酸、3-呋喃羧酸、2-四氢呋喃羧酸、甲氧基乙酸、甲氧基苯基乙酸、苯氧 基乙酸、羟基乙叉二膦酸、次氮基三（亚甲基膦酸）、膦酰基丁烷三羧酸、亚乙基二胺四（亚 甲基膦酸）等。pH调节剂优选为有机酸，更优选为选自乙醇酸、琥珀酸、马来酸、柠檬酸、酒 石酸、苹果酸、葡萄糖酸和衣康酸中的至少一种，最优选为柠檬酸。 作为碱的具体例，例如可列举出胺、氢氧化季铵等有机碱、碱金属的氢氧化物、碱 土金属的氢氧化物、氨等。作为盐的具体例，例如可列举出酸的铵盐、酸的碱金属盐等。pH 调节剂可以单独使用一种，也可以组合两种以上来使用。例如，通过组合弱酸和强碱、强酸 和弱碱、或弱酸和弱碱来发挥pH的缓冲作用。 作为应用合金材料用清洗剂的合金材料的具体例，可列举出铝合金、钛合金、镁合 金、不锈钢、镍合金、铜合金等。铝合金优选为例如日本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种合金材料用清洗剂，其特征在于，其包含具有SO3M基的阴离子性表面活性剂，并且具有1.5以上且4以下的范围的pH，其中，M表示抗衡离子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.04.27 JP 2012-1032521. 一种合金材料用清洗剂，其特征在于，其包含具有so3M基的阴离子性表面活性剂，并 且具有1. 5以上且4以下的范围的pH，其中，Μ表示抗衡离子。2. 根据权利要求1所述的合金材料用清洗剂，其还含有有机酸。3. -种合金材料的制造方法，其特征在于，其包括使用权利要求1或权利要求2所述的 合金材料用清洗剂来清洗合金材料的清洗工序。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：森永均，浅井舞子，伊藤友一，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP