【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】半导体陶瓷组合物、其制造方法及PTC元件
本专利技术涉及用于PTC(电阻率的正温度系数,Positive Temperature Coefficient of resistivity)加热器、PTC热敏电阻、PTC开关、和温度探测器等的半导体陶瓷组合物及 其制造方法,和PTC元件。
技术介绍
常规上,已提出将通过添加各种半导体化元素 (semiconducting element)至 BaTi03系氧化物制备的半导体陶瓷组合物用作示出PTC特性的材料。所述半导体陶瓷组合 物可用作在其上设置电极的PTC元件。 大部分由8&1103系氧化物组成的半导体陶瓷组合物具有大约120°C的居里温 度。这些半导体组合物中,居里温度需要根据用途进行变换(shift)。例如,已提出通过将 SrTi03系氧化物添加至BaTi03系氧化物中来变换居里温度,但在这种情况下,居里温度只 负向变换而不正向变换。目前在实践中使用的材料中,已知能够正向变换居里温度的添加 剂的材料为PbTi0 3。然而,由于铅是引起环境污染的元素,所以需要不包含铅的无铅半导体 陶瓷材料。 作为用于无铅半导体陶瓷组合物的制造方法,已提出用于制造 BaTi03系氧化物半 导体陶瓷组合物的方法,其中将Nb、Ta和稀土元素的至少一种添加至其中BaTi0 3系氧化 物中的一部分Ba被Bi-Na置换的由组成式Β&1_2Χ(Β?Ν &)χ--03表示的组合物中,其中X满足 0〈χ < 0. 15,随后使组合物在氮气中进行煅烧,然后在氧化性气氛下烧结(专利 ...
【技术保护点】
一种半导体陶瓷组合物,所述半导体陶瓷组合物为其中BaTiO3系氧化物中一部分Ba被Bi和A(其中A为Na、Li和K的至少一种)置换的无铅半导体陶瓷组合物,所述半导体陶瓷组合物具有晶粒内的中心部分和外壳部分之间的区域,其中当沿所述晶粒内的径向测量Bi浓度时,所述区域的Bi浓度高于所述中心部分的Bi浓度和所述外壳部分的Bi浓度二者。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.04.20 JP 2012-096546;2012.05.24 JP 2012-118121. 一种半导体陶瓷组合物,所述半导体陶瓷组合物为其中BaTi03系氧化物中一部分 Ba被Bi和A (其中A为Na、Li和K的至少一种)置换的无铅半导体陶瓷组合物,所述半导 体陶瓷组合物具有晶粒内的中心部分和外壳部分之间的区域,其中当沿所述晶粒内的径向 测量Bi浓度时,所述区域的Bi浓度高于所述中心部分的Bi浓度和所述外壳部分的Bi浓 度二者。2. 根据权利要求1所述的半导体陶瓷组合物,所述晶粒内所述Bi浓度的最大值为 0. 4mol% 以上。3. 根据权利要求1或2所述的半导体陶瓷组合物,其中通过将每1mm厚的耐电压\ (V) 除以室温电阻率R25(Qcm)得到的值(标准化耐电压')为3.0以上。4. 根据权利要求1至3任一项所述的半导体陶瓷组合物,所述半导体陶瓷组合物具有 由组成式[(BiAUBaiH] [1^_具]03(其中A为Na、Li和K的至少一种,R为包含Y的 稀土元素的至少一种,且Μ为Nb、Ta和Sb的至少一种)表示的晶粒,其中X、y和z满足 0〈x彡0· 2,0彡y彡0· 02和0彡z彡0· 01 (条件是y+z>0)。5. 根据权利要求1至4任一项所述的半导体陶瓷组合物,所述半导体陶瓷组合物具有 包括下述的结构: 由组成式[(BiA) x (Bai_yRy) J [IVA] 03 (其中A为Na、Li和K的至少一种,R为包含Y 的稀土元素的至少一种,且Μ为Nb、Ta和Sb的至少一种)表示的晶粒,在所述组成式中X、 y和z满足0〈x彡0· 2,0彡y彡0· 02,和0彡z彡0· 01 (条件是y+z>0); 包含Y的二次相;和 不包含Y的二次相, 其中在所述包含Y的二次相中,远离所述晶粒的部分的Y量大于邻接所述晶粒的部分 的Y量。6. 根据权利要求5所述的半导体陶瓷组合物,其中所述晶粒内所述外壳部分的Y浓度 高于所述中心部分的Y浓度。7. -种PTC元件,其包括: 根据权利要求1至6任一项所述的半导体陶瓷组合物;和 设置在所述半导体陶瓷组合物上的电极。8. -种半导体陶瓷组合物的制造方法,所述半导体陶瓷组合物为其中BaTi03系氧化物...
【专利技术属性】
技术研发人员:岛田武司,上田到,猪野健太郎,
申请(专利权)人:日立金属株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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