绕过流动控制装置的设备、系统和方法制造方法及图纸

一种用于井下工具的旁通组件包括：腔室；与腔室流体连通的第一流体端口；与腔室流体连通的第二流体端口；流动限制器，设置在第一流体端口与第二流体端口之间的第一流动路径中；活塞，能够通过第一流体压力的施加而沿第一方向移动；偏置构件；以及抑制构件，设置为靠近活塞。偏置构件使活塞偏置，以沿与第一方向相反的第二方向移动，且抑制构件由活塞响应预定流体压力而沿第一方向的移动进行驱动。活塞沿第二方向到预定位置的移动构造旁通组件，从而使流体流动沿着第二流动路径围绕流动限制器转向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
概括而言，本专利技术涉及与地下井一同使用的设备和执行的操作，本专利技术尤其涉及用于管理流入和流出管体的流体的流动控制装置的应用。
技术介绍
在不限制本专利技术范围的前提下，以下将参照从含烃地层生产流体作为示例而描述本专利技术的背景。 在从地下井中生产烃类期间，需要大体减少或排除从井中生产的水的生产。例如，可能期望从井中生产的流体具有相对较高的烃类的比例，和相对较低的水的比例。在一些情况下，还期望限制来自井中的烃类气体的生产。 另外，在从被井眼穿透的地层的长区段(interval)中生产流体时，已知的是，沿区段平衡流体的生产可导致减少的水和气体“锥进”，和更多的受控制的一致性，从而增大从区段中生产的油的比例和总量。在过去，为了沿区段平衡生产，流入控制装置(KDs)已经被使用以限制通过ICDs的生产的流体的流动。例如，在长水平井眼中，在井眼的“脚跟部”附近流动的流体可比在井眼的“脚趾部”附近流动的流体受到更多的限制，以抵消水平井的倾向(tendency)从而使在井的“脚跟部”生产的流量大于在井的“脚趾部”生产的流量。
技术实现思路
在一个实施例中，一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在井下工具中使用的旁通组件，包括：腔室；与所述腔室流体连通的第一流体端口；与所述腔室流体连通的第二流体端口；流动限制器，设置在所述第一流体端口与所述第二流体端口之间的第一流动路径中；活塞，能够通过施加第一流体压力而沿第一方向移动；偏置构件，其中所述偏置构件偏置所述活塞，使所述活塞沿与所述第一方向相反的第二方向移动；以及抑制构件，设置为靠近所述活塞，其中所述抑制构件由所述活塞响应于预定流体压力沿所述第一方向的移动而被驱动；其中，通过所述活塞沿所述第二方向到预定位置的移动来构造所述旁通组件，从而使流体流动沿第二流动路径围绕所述流动限制器转向。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种在井下工具中使用的旁通组件，包括: 腔室； 与所述腔室流体连通的第一流体端口； 与所述腔室流体连通的第二流体端口； 流动限制器，设置在所述第一流体端口与所述第二流体端口之间的第一流动路径中； 活塞，能够通过施加第一流体压力而沿第一方向移动； 偏置构件，其中所述偏置构件偏置所述活塞，使所述活塞沿与所述第一方向相反的第二方向移动；以及 抑制构件，设置为靠近所述活塞，其中所述抑制构件由所述活塞响应于预定流体压力沿所述第一方向的移动而被驱动； 其中，通过所述活塞沿所述第二方向到预定位置的移动来构造所述旁通组件，从而使流体流动沿第二流动路径围绕所述流动限制器转向。2.如权利要求1所述的旁通组件，其中，所述流动限制器在流经所述第一端口与所述第二端口之间的所述流动限制器的流体中产生第一压降。3.如权利要求2所述的旁通组件，其中，所述流动限制器和所述活塞密封接合，且构造为产生所述第一压降。4.如权利要求2所述的旁通组件，其中，所述活塞到所述预定位置的移动在所述第一端口和所述第二端口之间的流体流动中产生第二压降，且其中所述第二压降小于所述第一压降。5.如权利要求2所述的旁通组件，其中，在所述活塞沿所述第一方向的移动期间，所述第一压降被维持。6.如权利要求1所述的旁通组件，其中，所述活塞能够响应从所述第二端口施加的较低的第二压力而沿所述第二方向移动。7.一种在井下工具中使用的流动控制装置，包括: 流动限制件，设置在第一端口与第二端口之间的第一流动路径中；以及 旁通机构，构造为能够响应第一压力而在第一位置与第二位置之间移动， 其中，当所述旁通机构在所述第一位置时，所述第一端口与所述第二端口之间的所述第一流动路径被建立，并且 其中，当所述旁通机构在所述第二位置时，所述第一端口与第二端口之间的第二流动路径被建立。8.如权利要求7所述的流动控制装置，其中，所述流动限制件包括构造为产生螺旋流动路径的流动限制器。9.如权利要求7所述的流动控制装置，其中，所述流动限制件包括喷嘴。10.如权利要求7所述的流动控制装置，其中，所述第二流动路径构造为提供比...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢克·霍尔德曼，大卫·斯马特，
申请(专利权)人：哈利伯顿能源服务公司，
类型：发明
国别省市：美国;US