像差修正方法、使用其的激光加工方法、激光照射方法和像差修正装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及像差修正方法、使用其的激光加工方法、激光照射方法、像差修正装置和像差修正程序。本发明专利技术的一个实施方式所涉及的像差修正方法中，在将激光聚光于具有光透过性的介质(60)内部的激光照射装置(1)的像差修正方法中，以使激光的聚光点位于在所述介质内部所产生的像差范围之间的方式，修正激光的像差。若将介质(60)的折射率设为n，将自介质(60)的入射面至透镜(50)的焦点为止的深度设为d，将通过介质(60)而产生的像差设为Δs，则该像差范围为自介质(60)的入射面起n×d以上且n×d+Δs以下。

【技术实现步骤摘要】
像差修正方法、使用其的激光加工方法、激光照射方法和像差修正装置本申请是申请日为2009年08月27日、申请号为200980134183.3、专利技术名称为像差修正方法、使用其的激光加工方法、激光照射方法、像差修正装置和像差修正程序的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及修正激光照射装置的像差的像差修正方法、使用该像差修正方法的激光加工方法、使用该像差修正方法的激光照射方法、像差修正装置和像差修正程序。
技术介绍
激光照射装置用于激光加工装置或显微镜等的各种光学装置中。在使用该激光照射装置的激光加工装置中，具备空间光调制器(以下称为SLM)。下述专利文献1～5中公开有具备SLM的激光加工装置。专利文献1以及2中所记载的激光加工装置使用SLM，控制激光对加工对象物的照射位置，专利文献3中所记载的激光加工装置使用SLM控制激光。另外，专利文献4中所记载的激光加工装置具备测量激光的波阵面的畸变的单元，并使用SLM修正测量出的波阵面畸变。然而，在该方法中，需要测量波阵面的畸变的单元，光学系统变得复杂，因而存在无法适用于激光加工等无法测量波阵面的畸变的应用中的问题。另外，在专利文献5中，记载有在将本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像差修正方法，其特征在于，是将激光聚光于具有光透过性的介质内部的激光照射装置的像差修正方法，在所述像差修正方法中，以所述激光的聚光点位于在所述介质内部所产生的像差范围之间的方式，修正所述激光的像差。

【技术特征摘要】
2008.09.01 JP 2008-223582;2009.05.25 JP 2009-125751.一种激光加工方法，其特征在于，是使用了将激光聚光于具有光透过性的加工对象物内部的激光加工装置的所述加工对象物的激光加工方法，该激光加工装置具备用于将激光聚光于所述加工对象物内部的聚光单元以及用于修正所述激光的像差的空间光调制器，在所述激光加工方法中，设定所述加工对象物内部的聚光位置，以所述激光的聚光点位于在所述加工对象物内部所产生的像差范围之间的方式，设定所述加工对象物的相对移动量，将以所述激光聚光在所述聚光位置上的方式所计算出的修正波阵面显示在所述空间光调制器中，以使所述加工对象物与所述聚光单元的距离成为所述相对移动量的方式，相对地移动所述聚光位置，将所述激光朝向所述加工对象物中的聚光位置照射，由此，在所述加工对象物形成改质层，切断所述加工对象物，由此，使所述改质层位于所述加工对象物的切断面。2.如权利要求1所述的激光加工方法，其特征在于，所述修正波阵面是用于应用相位折叠前的像差修正的波阵面调制图案，相位折叠技术，是利用相位0与2mπ为同值，而将具有超出物理意义上的相位调制范围的值的相位分布在物理意义上的相位调制范围内折叠的技术，其中，m为整数。3.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤晴康，松本直也，井上卓，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP