微阵列处理装置、微阵列处理装置用孔板、微阵列架以及微阵列的清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是提供能够充分清洗微阵列的微阵列处理装置。微阵列处理装置(30)具备：设有容纳微阵列(1)的一个或者两个以上的孔(40)的孔板(38)；以及从孔抽吸液体的抽吸嘴(46)，孔为上端开口的、具有微阵列的高度以上的深度的孔，并且具备凹部形状，其能够将抽吸嘴的前端插通至容纳于该孔的微阵列的下端的高度位置，抽吸嘴能够在孔内相对下降，直至该抽吸嘴的前端位于容纳于孔的微阵列的下端的高度位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种微阵列处理装置，是进行微阵列的杂交处理以及清洗处理的微阵列处理装置，其特征在于，具备：设有容纳微阵列的一个或者两个以上的孔的孔板；以及从上述孔抽吸液体的抽吸嘴，上述孔：其为上端开口的、具有上述微阵列的高度以上的深度的孔，并且具备凹部形状，其能够将上述抽吸嘴的前端插通至容纳于该孔的微阵列的下端的高度位置，上述抽吸嘴能够在上述孔内相对地下降，直至该抽吸嘴的前端位于容纳于上述孔的上述微阵列的下端的高度位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水浩司，
申请(专利权)人：三菱丽阳株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP