用于触控屏幕面板的透明体的制造方法及系统技术方案

提供了一种制造用于触控屏幕面板的透明体的工艺。此工艺包括：沉积第一透明层堆迭(12)于透明基板(14)上方，其中所述第一透明层堆迭(12)包括至少第一介电膜(16)及第二介电膜(18)，第一介电膜(16)具有第一折射率，第二介电膜(18)具有不同于第二第一折射率的第二折射率；提供结构化的透明导电膜(22)，使得第一透明层堆迭(12)及透明导电膜(22)是以此顺序配置于基板(14)上方，且其中结构化的透明导电膜具有100欧姆/平方或之下的片电阻；以及提供透明黏着剂至结构化的透明导电膜上，透明黏着剂用于将层堆迭附着至触控屏幕面板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于触控屏幕面板的透明体的制造方法及系统
本公开文本的实施例是关于制造用于触控屏幕面板(TouchScreenPanel,TSP)的透明体的工艺和系统，以及根据这些工艺制造出来的透明体。
技术介绍
触控面板或触控屏幕面板是电子视觉显示器的一种特殊类别，能够在显示区内侦测和定位碰触。通常，触控面板包括透明体，透明体配置于屏幕上方并用以感测碰触。这样的物体是实质上透明的，使得屏幕发出的落在可见光谱的光是可从中通过。至少一些已知的触控面板包括由阻障层(barrier)及透明导体构成的透明体，阻障层及透明导体以此顺序形成于基板上方。在这样的面板的显示区上的碰触，通常带来在透明体的区块中的电容的可测量变化。可使用不同技术来测量电容的变化，以令触碰位置能够被确定。用来与触控面板一同使用的透明体需符合一些特殊要求。其中特别地，一项关键性要求是透明体对于承受屏幕上的多次接触和严苛环境足够稳定，以使得触控屏幕的可靠度不随着时间流逝而下降。然而，至少一些包含于触控屏幕的已知透明体，因例如形成透明体的层的厚度、组成及结构，被认为强烈干扰从中通过的光的正确传播。此外，制造这样的高品质(例如具有均匀无缺陷的阻障层)的稳定的透明体是具挑战性的。再者，要考虑到存在着不同类型的用于触控面板的透明体。光学性质的特殊考量(例如呈现给使用者的外观)必须被纳入对于透明体的考虑中，其中用于测量电容变化的导电层为结构化(structured)的导电层。要考虑的另一方面是显示器持续增加的尺寸，其中，除了上述的光学性质外，对于电学性质的兴趣也有提升。从而，基于薄膜的平板显示器及触控屏幕技术的设计是有需求的，此种设计提供相关于导电性而图案化(如触碰感测器结构)，并相较于传统结构展现出较佳的光学和电学表现的隐形(invisible)物件。据此，需要形成一种用于触控面板的高品质透明体的工艺及设备，以一种使得透明体是稳定地形成于基板上方，而不对于可见光谱的光的正确传播及改善电性性质有负面影响的方式形成此种透明体。
技术实现思路
有鉴于以上所述，提供了根据独立权利要求1所述的一种工艺、根据独立权利要求6所述的一种装置及根据独立权利要求14所述的一种设备。本专利技术的其他方面、优点及特征是由从属权利要求、说明书及所附附图表明。根据一实施例，是提供制造用于触控屏幕面板或显示器面板的透明体的一种工艺。此一工艺包括沉积第一透明层堆迭(layerstack)于透明基板上方，其中所述第一透明层堆迭包括至少第一介电膜及第二介电膜，第一介电膜具有第一折射率，第二介电膜具有不同于第一折射率的第二折射率，提供结构化的透明导电膜，且其中结构化透明导电膜对应至100欧姆/平方(ohm/square)或更低的片电阻(sheetresistance)，以及提供透明黏着剂(adhesive)于结构化透明导电膜上方，透明黏着剂用于将透明体附着(attach)至相邻的触控屏幕面板或显示器的构成件。根据替代性的实施例，第一透明层堆迭可替代上述第一透明层堆迭地，为包括具有自第一折射率至第二折射率的梯度折射率的第一介电膜的第一透明层堆迭。根据另一实施例，提供了用于触控屏幕面板或显示器面板的透明体。此透明体包括透明基板，沉积于透明基板上方的透明层堆迭，其中所述透明层堆迭包括至少第一介电膜及第二介电膜，第一介电膜具有第一折射率，第二介电膜具有不同于第二第一折射率的第二折射率，沉积于透明基板上方的透明导电膜，其中结构化的透明导电膜对应至100欧姆/平方或之下的片电阻，以及沉积于透明导电膜上方且用于将透明体附着至相邻的触控屏幕面板或显示器的构成件的透明黏着剂。根据替代性的实施例，第一透明层堆迭可替代上述第一透明层堆迭地，为包括具有自第一折射率至第二折射率的梯度折射率的第一介电膜的第一透明层堆迭。根据另一实施例，提供了制造用于触控屏幕面板的透明体的沉积设备。此设备包括：第一沉积组件(depositionassembly)以及第二沉积组件，第一沉积组件被配置成沉积第一透明层堆迭于基板上方，所述第一透明层堆迭包括至少第一介电膜及第二介电膜，第一介电膜具有第一折射率，第二介电膜具有不同于第一折射率的第二折射率，第二沉积组件被配置成沉积透明导电膜，其中第一沉积组件及第二沉积组件的至少一者包括运作上地耦接至(operativelycoupledto)靶材的溅镀系统，所述溅镀系统是用以通过靶材的溅镀沉积第一介电膜、第二介电膜及透明导电膜的至少一者。令人惊讶地，根据本公开文本的实施例来沉积，相较于至少一些已知的用于触控面板的透明体具有额外的介电膜，具有与透明黏着剂相结合的折射率的特征组合，且其中至少一个膜是通过靶材的溅镀来沉积的介电膜的组合，利于高品质透明体的制造，不仅产生正确的光传播，也带来经历时间而稳定的表现。再进一步地，相较于现存的用于触控面板的“隐形”透明体，电阻可被降低，这例如对于大面积触控面板是有利的。实施例也与用来实行所揭露的工艺的设备及包括用于进行所述工艺步骤的设备部位的设备相关。此外，实施例亦与所述设备藉以运作的方法或藉以制造所述设备的方法相关。这些方法可能包括用于实行设备的功能的方法步骤或制造设备部位的方法步骤。这些方法步骤可能通过硬件组件、固件、软件、以适合软件编程的电脑、通过其任何组合或以任何其他方式来执行。附图说明在余下的说明书中，配合所附附图，将更精确地对于本专利技术所属
中具有通常知识者进行更完整且可据以实施的揭露，包含其最佳的实施方式，其中：图1A是根据此处实施例的用于触控面板的示例性的透明体的示意代表图。图1B是根据此处实施例的用于触控面板的示例性的透明体的示意代表图。图2A是根据此处实施例的用于触控面板的更进一步的示例性的透明体及透明体所要结合的光电装置的示意代表图。图2B是根据此处实施例的用于触控面板的更进一步的示例性的透明体及透明体所要结合的一光电装置的示意代表图。图3A至3D是根据此处实施例的用于触控面板的示例性透明体的制造的示意代表图。图4、5A及5B是根据此处实施例的用于触控面板的另外的示例性透明体的示意代表图。图6是根据此处实施例的沉积用于触控面板的示例性透明体的设备的一部分的示意代表图。图7是绘示根据此处实施例的制造用于触控面板的透明体的方法的流程图。具体实施方式现将对于各种实施例进行详细说明，其一或多个示例绘示于各图中。各个示例是以解释的方式来提供，且不意味着作为本专利技术的限制。能够设想实施例的元件、要素可能被有利地使用于其他实施例中，而未进一步地加以引述。根据此处的实施例，第一透明层堆迭12，如图1A所描绘，是沉积于基板14上方。此处使用的“基板”一词应囊括非可挠式基板和可挠式基板二者，非可挠式基板例如晶圆、透明晶体如蓝宝石或类似物的薄片、或玻璃板，可挠式基板例如是卷(web)或箔。此处使用的“透明”一词应特别包括一个结构以相对低的散射传递光的能力，举例而言，使得从中通过的光能以实质上清楚的状态被看见。在可挠式基板的例子中，典型地，基板14具有硬涂层15形成于其上。根据典型的实施例，层堆迭是由一些层层相迭(例如通过沉积)形成的膜所构成。特别是，此处的实施例包括沉积可由多层介电膜构成的第一透明层堆迭，介电膜是实质上不导电的膜。特别是，第一透明层堆迭12可包括第一介本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造用于触控屏幕面板的透明体(10)的工艺，所述工艺包括：沉积第一透明层堆迭(12)于透明基板(14)上方，其中所述第一透明层堆迭(12)是选自由下所组成的群组：层堆迭，其中所述层堆迭包括第一介电膜，所述第一介电膜具有自第一折射率至第二折射率的梯度折射率，及层堆迭，其中所述层堆迭包括至少第一介电膜(16)及第二介电膜(18)，所述第一介电膜具有第一折射率，所述第二介电膜具有不同于所述第一折射率的第二折射率；提供结构化的透明导电膜(22)，且其中结构化的所述透明导电膜对应至100欧姆/平方(ohm/square)或之下的片电阻；以及提供透明黏着剂于结构化的所述透明导电膜上方，所述透明黏着剂被配置用于将所述透明体附着至相邻的所述触控屏幕面板的构成件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制造用于触控屏幕面板的透明体(10)的工艺，所述工艺包括：沉积第一透明层堆迭(12)于透明基板(14)上方，其中所述第一透明层堆迭(12)是选自由下所组成的群组：层堆迭，其中所述层堆迭包括第一介电膜，所述第一介电膜具有自第一折射率至第二折射率的梯度折射率，及层堆迭，其中所述层堆迭包括至少第一介电膜(16)及第二介电膜(18)，所述第一介电膜具有第一折射率，所述第二介电膜具有不同于所述第一折射率的第二折射率；提供结构化的透明导电膜(22)，且其中结构化的所述透明导电膜对应至100欧姆/平方(ohm/square)或之下的片电阻；以及提供透明黏着剂于结构化的所述透明导电膜上方，所述透明黏着剂被配置用于将所述透明体附着至相邻的所述触控屏幕面板的构成件，其中，所述透明黏着剂具有1.3至1.7的折射率。2.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，所述第一透明层堆迭是沉积于结构化的所述透明导电膜上方，或其中结构化的所述透明导电膜是沉积至所述透明基板上。3.如权利要求1所述的工艺，其特征在于，提供结构化的所述透明导电膜包括图案化未结构化的沉积透明导电膜。4.如权利要求1至3中任一项所述的工艺，其特征在于，所述第一介电膜具有至少1.8的折射率，且所述第二介电膜具有1.5或之下的折射率。5.如权利要求1至3中任一项所述的工艺，其特征在于，所述第一和第二介电膜是通过中频溅镀来溅镀，且所述透明导电膜是通过直流溅镀来溅镀。6.一种用于触控屏幕面板的透明体，包括：透明基板；透明层堆迭，沉积于所述透明基板上方，其中所述透明层堆迭(12)是选自由下所组成的群组：层堆迭，其中所述层堆迭包括第一介电膜，所述第一介电膜具有自第一折射率至不同于所述第一折射率的第二折射率的梯度折射率，及层堆迭，其中所述层堆迭包括至少第一介电膜(16)及第二介电膜(18)，所述第一介电膜具有第一折射率，所述第二介电膜具有不同于所述第一折射率的第二折射率；透明导电膜，沉积于所述透明基板上方，其中结构化的所述透明导电膜对应至100欧姆/平方(ohm/square)或之下的片电阻；以及透明黏着剂，沉积于所述透明导电膜上方，所述透明黏着剂被配置用于将所述透明体附着至相邻的所述触控屏幕面板的构成件，其中，所述透明黏着剂具有1.3至1.7的折射率。7.如权利要求6所述的透明体，其特征在于，更包括：第二透明基板，所述透明层堆迭是要附着至所述第二透明基板，其中所述透明黏着剂具有类似于所述第二透明基板的折射率的折射率。8.如权利要求6所述的透明体，其特征在于，所述透明基板是选自由硬式基板、软式基板、有机基板、无机基板、玻璃、塑料箔(pla...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·W·齐尔鲍尔，J·格里尔梅耶，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US