具有分割型磁体的溅射装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种溅射装置，其包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，在垂直方向上具有长度，并以水平方向相隔排列；其中，所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独立地调节与所述靶之间的距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有分割型磁体的溅射装置。
技术介绍
溅射是在构成液晶显示装置(liquid crystal display)、有机发光显示装置(organic light-emitting diode device)等平板显示装置的玻璃基板上蒸镀薄膜的主要的方法。 溅射装置将磁体配置于靶的后方，使得在前面生成磁场，从而在基板上蒸镀薄膜，此时，由于在靶的前面未能整体上均匀地形成磁场，基板上形成的薄膜将产生厚度差。特别是，存在基板的上部和下部与中心部比较将会较厚地蒸镀薄膜的问题。因此，为了改进在基板上成膜的物质的膜厚及面电阻的散布， 溅射装置利用将磁体自身倾斜的方法等。但是，这种方法由于是使磁体整体上进行移动，对于整体的膜厚及面电阻散布的改进效果不大。 并且，也有通过在磁体的表面设置磁分路来改变局部部位的等离子体密度的方法，但是这种方法存在无法将腔室保持真空状态而需要进行调节的问题。 [现有技术文献] [专利文献] 韩国公开专利公报2011-0129279(2011.12.01)
技术实现思路
技术课题 本专利技术的目的在于提供一种能够减小薄膜在基板上成膜的膜厚及面电阻的散布的具有分割型磁体的溅射装置。 技术方案 本专利技术的一实施例的溅射装置，包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；一个或以水平方向相隔排列的多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，并在垂直方向上具有长度，其中，所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独立地调节与所述靶之间的距离。 所述垂直方向中的与上侧区域及下侧区域对应的分割型磁体和靶之间的距离可小于或大于与所述垂直方向中的中央区域对应的分割型磁体和靶之间的距离。 所述各个分割型磁体可包括：磁体单元；球轴，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；轴导向件，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；单元支架，贯通有贯通所述支架的球轴及轴导向件；以及，距离调节部，结合于贯通所述单元支架的球轴，用于调节所述磁体单元的移动距离。所述距离调节部可以是结合于所述球轴的手柄或电机。 本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置，包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，在上侧区域、中央区域及下侧区域的方向上具有长度，并以左侧区域、中央区域及右侧区域的方向相隔排列；其中，所述各个磁体部可包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独立地调节与所述靶之间的距离。 技术效果 本专利技术的溅射装置设置有多个分割型磁体，并通过调节上侧区域和下侧区域及中央区域的多个分割型磁体和靶之间的距离，来改变被调节部位的靶表面的等离子体密度，从而具有能够减小薄膜在基板上成膜的膜厚及面电阻的散布的效果。 附图说明 图1a是简单示出本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置的结构的平面图，图1b是侧视图。 图2a是放大示出一个分割型磁体的侧视图，图2b是放大示出分割型磁体的距离调节状态的侧视图。 图3a是示出本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置中的各个分割型磁体和靶之间的距离调节状态的侧视图，图3b是简单示出在基板上形成的膜厚的分布的主视图。 图4是对本专利技术的另一实施例的具有分割型磁体的溅射装置的垂直剖视图。 附图标记 100、200：具有分割型磁体的溅射装置 110：真空腔室        120：基板 130：基板支架        140：靶 150、250：磁体部     150a、150b、150c：分割型磁体 160：真空部          170：气体注入部 350：中央磁体单元    450：上部磁体单元 550：下部磁体单元 具体实施方式 以下，参照附图对本专利技术的优选实施例进行详细的说明。 首先对本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置进行说明。 图1a是简单示出本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置的结构的平面图，图1b是侧视图。 本专利技术的一实施例的具有分割型磁体的溅射装置100包括真空腔室110、基板120、基板支架130、靶140、以水平方向相隔排列的多个磁体部150、真空部160及气体注入部170。其中，水平方向表示图中的X轴方向，垂直方向表示图中的Z轴方向。 所述真空腔室110是保持高真空状态，用于实现溅射以在基板120上蒸镀薄膜的空间。在所述真空腔室110的内部一侧以垂直方向竖立有基板120，并竖立设置有用于支撑基板120的基板支架130，在另一侧竖立形成有作为蒸镀物质的靶140，并且竖立形成有用于产生磁场的多个磁体部150。同时，在所述真空腔室110的外部连接有用于将真空腔室110的内部保持真空的真空部160。并且，在所述真空腔室110的外部连接有用于向真空腔室110的内部供给等离子体气体的气体供给部170。 所述基板120以垂直方向竖立形成于真空腔室110的一侧。所述基板120的一面结合于基板支架130，另一面与靶140面对。所述基板120可以是构成液晶显示装置(liquid crystal display)、等离子显示装置(plasma display panel device)、有机发光显示装置(organic light-emitting diode device)等平板显示装置的玻璃基板，但是本专利技术并非限定于此。 所述基板支架130以垂直方向竖立形成于真空腔室110的一侧，用于支撑基板120以将其固定于真空腔室110上。在所述基板支架130可接通外部的阳极电源。 所述靶140与基板120相隔并以垂直方向竖立形成于真空腔室110的另一侧。所述靶140的一面与基板120面对，靶140可以大于基板120的大小形成。所述靶140可由在基板120上形成薄膜的物质构成。作为一例，根据所要形成的膜，所述靶140可由铝Al、铝合金AlNd、钛Ti、钴Co、锌Zn、铜Cu、硅Si、铂Pt、金Au等多种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射装置，包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；一个或以水平方向相隔排列的多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，并在垂直方向上具有长度，其特征在于，所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独立地调节与所述靶之间的距离。

【技术特征摘要】
2013.05.23 KR 10-2013-00581451.一种溅射装置，包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；一个或
以水平方向相隔排列的多个磁体部，位于与所述靶面对的区域，并在垂直方向
上具有长度，其特征在于，
所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独
立地调节与所述靶之间的距离。
2.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，
所述垂直方向中的与上侧区域及下侧区域对应的分割型磁体和靶之间的距
离小于或大于所述垂直方向中的与中央区域对应的分割型磁体和靶之间的距
离。
3.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，所述各个分割型磁体包
括：
磁体单元；
球轴，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；
轴导向件，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；
单元支架，贯通有贯通所述支架的球轴及轴导向件；以及
距离调节部，结合于贯通所述单元支架的球轴，用于调节所述磁体单元的
移动距离。
4.根据权利要求3所述的溅射装置，其特征在于，
所述距离调节部是结合于所述球轴的手柄或电机。
5.一种溅射装置，包括：基板；靶，位于与所述基板面对的区域；多个磁
体部，位于与所述靶面对的区域，在上侧区域、中央区域及下侧区域的方向上
具有长度，并以左侧区域、中央区域及右侧区域的方向相隔排列；其特征在于，
所述各个磁体部包括以所述长度方向被分割的多个分割型磁体，用于可独
立地调节与所述靶之间的距离。
6.根据权利要求5所述的溅射装置，其特征在于，
与所述上侧区域及下侧区域对应的分割型磁体和靶之间的距离小于或大于
与所述中央区域对应的分割型磁体和靶之间的距离。
7.根据权利要求5所述的溅射装置，其特征在于，所述各个分割型磁体包
括：
磁体单元；
球轴，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；
轴导向件，结合于所述磁体单元，并贯通所述腔室的壁；
单元支架，贯通有贯通所述支架的球轴及轴导向件；以及
距离调节部，结合于贯通所述单元支架的球轴，用于调节所述磁体单元的
移动距离。
8.根据权利要求7所述的溅射装置，其特征在于，
所述距离调节部是结合于所述球轴的手柄或电机。
...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘桓圭，崔渽抆，高光洙，
申请(专利权)人：IRUJA有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR