本发明专利技术提供一种相位差膜的制造方法，所述相位差膜具有逆波长分散特性，并且由于其波长分散变化少，因此可靠性高，由相位差变化的部位依赖性引起的显示不均少。该相位差膜的制造方法中，所述相位差膜满足下述式(1)及(2)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97···(1)；1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3···(2)(式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Δn是用波长550nm的光测定的相位差膜的面内双折射)。该方法包括下述工序：连续地输送并供给长条的高分子膜的工序；相对于输送方向横向拉伸高分子膜的拉伸工序；在拉伸工序后，使高分子膜沿横向收缩的第1收缩工序；以及在第1收缩工序后，使高分子膜沿横向收缩的第2收缩工序。第1收缩工序中的收缩温度T1(℃)和第2收缩工序中的收缩温度T2(℃)满足下述式(3)：1＜(T1-T2)≤10···(3)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相位差膜及其制造方法、偏振片、以及显示装置
本专利技术涉及相位差膜及其制造方法、以及具备该相位差膜的偏振片及显示装置。特别是，本专利技术涉及具有逆波长分散特性的相位差膜、以及通过对高分子膜进行拉伸来制造该相位差膜的方法，所述相位差膜的波长分散变化少，基于这一点，其可靠性高，且由相位差变化的部位依赖性引起的显示不均少。
技术介绍
近年来，伴随着显示器的普及，对于显示器中所使用的光学膜所要求的性能也不断提高。为此，要求利用新型材料及新型工艺来开发光学膜。作为光学膜的一种，包括相位差膜。相位差膜的特性包括相位差值的波长依赖性，已开发了具有越是用长波长的光进行测定其相位差值越大的特性(也称为逆波长分散特性)的相位差膜。对于相位差膜、尤其是具有逆波长分散特性的相位差膜，日本特愿2010-271860号说明书出于大量生产宽幅且薄型的膜等目的，从行进性、加工性、制品可靠性等观点出发，公开了改善膜脆性的技术。日本特开2009-086651号公报公开了一种目的在于使用熔融粘度低、环境负担小、流动性、成型性、耐热性、长期相位差稳定性、波长分散性优异的相位差膜来提供即使从斜向观察也具有高对比度、可实现不带有蓝色的良好显示的圆偏振片及显示装置的技术。然而，在这些文献中，并未进行由下述情况引起的显示不均的研究，即，当用于显示装置用偏振片等中的相位差膜在显示装置使用时等长期暴露于高温条件的情况下，相位差膜的相位差变化会因相位差膜上位置的不同而不同。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特愿2010-271860号说明书专利文献2：日本特开2009-086651号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术首次发现，当相位差膜以经由粘结剂贴合于玻璃的状态长期置于高温条件下时，在相位差膜的中央部，相位差增加，同时，在相位差膜的端部，相位差降低，而相位差变化存在这样的部位依赖性正是造成显示不均的原因。于是，本专利技术基于下述见解而完成，即，通过使高温处理前后相位差膜的波长分散变化在给定范围内，并在相位差膜的制法中采用给定的多段收缩工序，可使上述显示不均的问题得以解决。解决问题的方法本专利技术的相位差膜的制造方法的特征在于，该相位差膜满足下述式(1)及(2)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97···(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3···(2)(式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Δn是用波长550nm的光测定的相位差膜的面内双折射)，上述制造方法包括下述工序：连续地输送并供给长条的高分子膜的工序；相对于输送方向横向拉伸上述高分子膜的拉伸工序；在上述拉伸工序后，使上述高分子膜沿上述横向收缩的第1收缩工序；以及在上述第1收缩工序后，使上述高分子膜沿上述横向收缩的第2收缩工序，上述第1收缩工序中的收缩温度T1(℃)和上述第2收缩工序中的收缩温度T2(℃)满足下述式(3)：1＜(T1－T2)≤10···(3)。作为本专利技术的一个实施方式，上述制造方法还包括下述工序：在上述第2收缩工序后，使上述高分子膜沿上述横向收缩的第3收缩工序，上述第2收缩工序中的收缩温度T2(℃)和上述第3收缩工序中的收缩温度T3(℃)满足下述式(4)：1＜(T2－T3)≤10···(4)。作为本专利技术的一个实施方式，上述拉伸工序中的拉伸温度T0(℃)和上述第1收缩工序中的收缩温度T1(℃)满足下述式(5)：0≤(T0－T1)≤10···(5)。作为本专利技术的一个实施方式，上述第1收缩工序中的收缩温度T1(℃)、上述第2收缩工序中的收缩温度T2(℃)、及上述第3收缩工序中的收缩温度T3(℃)满足下述式(6)：(Tg－20)＜T＜(Tg+3)···(6)(式中，Tg为上述高分子膜的玻璃化转变温度，T为T1、T2或T3)。作为本专利技术的一个实施方式，利用上述制造方法得到的相位差膜满足下述式(7)：2°＜(取向角的最大值－取向角的最小值)＜10°···(7)。作为本专利技术的一个实施方式，利用上述制造方法得到的相位差膜满足下述式(8)：|Re1[450]/Re1[550]－Re2[450]/Re2[550]|＜0.02···(8)(式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Re2[450]及Re2[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的、于温度90℃热处理100小时后的相位差膜的面内相位差值)。本专利技术的相位差膜满足下述式(1)、(2)及(8)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97···(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3···(2)|Re1[450]/Re1[550]－Re2[450]/Re2[550]|＜0.02···(8)(式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Δn是用波长550nm的光测定的相位差膜的面内双折射，Re2[450]及Re2[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的、于温度90℃热处理100小时后的相位差膜的面内相位差值)。作为本专利技术的一个实施方式，上述相位差膜满足下述式(7)：2°＜(取向角的最大值－取向角的最小值)＜10°···(7)。作为本专利技术的一个实施方式，上述相位差膜包含以下述聚合物为主成分的高分子，所述聚合物具有主链和侧链，所述主链具有拉伸取向性，所述侧链包含在260～380nm内具有吸收端的单元，并且该侧链的面与所述主链的延伸方向交叉。本专利技术还提供具备上述相位差膜和起偏镜的偏振片、以及具备这样的偏振片的显示装置。上述偏振片可以为直线偏振片、圆偏振片等。另外，显示装置可以为OLED显示装置等。附图说明[图1]是本专利技术的一个实施方式中的拉伸工序及收缩工序的示意图。[图2]是本专利技术的优选实施方式中将相位差膜用于偏振片时的剖面示意图。[图3]是示出本专利技术的一个实施方式中的起偏镜的制造工序的概念的模式图。符号说明1起偏镜2、2’任意的保护层3、3’光学膜4相位差膜11偏振片300放出部310碘水溶液浴320含有硼酸和碘化钾的水溶液浴330含有碘化钾的水溶液浴340干燥装置350起偏镜360卷取部具体实施方式<1.相位差膜>本专利技术的相位差膜通常为拉伸高分子膜而得到的膜。本说明书中，相位差膜是指在面内和/或厚度方向具有双折射的膜。本说明书中，所述Re1[550]是指，对于实施后述热处理之前的相位差膜，在23℃下利用波长550nm的光测定的面内相位差值。Re1[550]可通过式：Re1[550]＝(nx-ny)×d而求出，其中，将在波长550nm下相位差膜的慢轴方向、快轴方向的折射率分别设为nx、ny，将相位差膜的厚度设为d(nm)。需要说明的是，所述慢轴是指面内折射率最大的方向。所述Re1[450]除了是利用波长450nm的光进行测定以外，与Re1[550]的情况相同。本专利技术的相位差膜满足0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97的关系。本专利技术的相位差膜的Re1[550]与Re1[450]之比(Re1[450]/Re1[本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种相位差膜的制造方法，其中，该相位差膜满足下述式(1)及(2)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97···(1)1.5×10‑3＜Δn＜6.0×10‑3···(2)式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Δn是用波长550nm的光测定的相位差膜的面内双折射，所述制造方法包括下述工序：连续地输送并供给长条的高分子膜的工序；相对于输送方向横向拉伸所述高分子膜的拉伸工序；在所述拉伸工序后，使所述高分子膜沿所述横向收缩的第1收缩工序；以及在所述第1收缩工序后，使所述高分子膜沿所述横向收缩的第2收缩工序，所述第1收缩工序中的收缩温度T1(℃)和所述第2收缩工序中的收缩温度T2(℃)满足下述式(3)：1＜(T1－T2)≤10···(3)。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.27 JP 2012-0404991.一种相位差膜的制造方法，其中，该相位差膜满足式(1)及式(2)：0.70＜Re1[450]/Re1[550]＜0.97…(1)1.5×10-3＜Δn＜6.0×10-3…(2)式中，Re1[450]及Re1[550]分别是在23℃下用波长450nm及550nm的光测定的相位差膜的面内相位差值，Δn是用波长550nm的光测定的相位差膜的面内双折射nx-ny，nx是在波长550nm下相位差膜的慢轴方向的折射率，ny是在波长550nm下相位差膜的快轴方向的折射率，所述制造方法包括以下工序：连续地输送并供给长条的高分子膜的工序；相对于输送方向横向拉伸所述高分子膜的拉伸工序；在所述拉伸工序后，使所述高分子膜沿所述横向收缩的第1收缩工序；以及在所述第1收缩工序后，使所述高分子膜沿所述横向收缩的第2收缩工序，所述第1收缩工序中的收缩温度T1℃和所述第2收缩工序中的收缩温度T2℃满足式(3)：1＜(T1－T2)≤10…(3)。2.根据权利要求1所述的制造方法，所述制造方法还包括以下工序：在所述第2收缩工序后，使所述高分子膜沿所述横向收缩的第3收缩工序，所述第2收缩工序中的收缩温度T2℃和所述第3收缩工序中的收缩温度T3℃满足式(4)：1＜(T2－T3)≤10…(4)。3.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述拉伸工序中的拉伸温度T0℃和所述第1收缩工序中的收缩温度T1℃满足式(5)：0≤(T0－T1)≤10…(5)。4.根据权利要求2所述的制造方法，其中，所述拉伸工序中的拉伸温度T0℃和所述第1收缩工序中的收缩温度T1℃满足式(5)：0≤(T0－T1)≤1...
【专利技术属性】
技术研发人员：饭田敏行，清水享，村上奈穗，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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