防治无脊椎动物害虫的异噻唑啉化合物制造技术

本发明专利技术涉及式(I)的异噻唑啉化合物及其生产方法，其中各变量如权利要求书或说明书中所定义，这些化合物可以用于防治或防除无脊椎动物害虫，尤其是节肢动物害虫和线虫。本发明专利技术还涉及一种通过使用这些化合物防治无脊椎动物害虫的方法以及包含所述化合物的植物繁殖材料及农业和兽用组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术涉及式(I)的异噻唑啉化合物及其生产方法，其中各变量如权利要求书或说明书中所定义，这些化合物可以用于防治或防除无脊椎动物害虫，尤其是节肢动物害虫和线虫。本专利技术还涉及一种通过使用这些化合物防治无脊椎动物害虫的方法以及包含所述化合物的植物繁殖材料及农业和兽用组合物。【专利说明】防治无脊椎动物害虫的异噻唑啉化合物本专利技术涉及可以用于防治无脊椎动物害虫，尤其是节肢动物害虫和线虫的异噻唑啉化合物以及一种生产它们的方法。本专利技术还涉及一种通过使用这些化合物防治无脊椎动物害虫的方法以及包含所述化合物的植物繁殖材料及农业和兽用组合物。无脊椎动物害虫，尤其是节肢动物害虫和线虫破坏生长和收获的作物且袭击木质居住和商业结构体，从而对食物供应和财产造成大的经济损失。尽管已知大量杀虫剂，但由于目标害虫能够对所述杀虫剂产生耐药性，仍然需要用于防治无脊椎动物害虫，尤其是昆虫、蜘蛛和线虫的新试剂。相关杀虫的芳基唑啉化合物描述于WO 2011/092287、W02011/073444、WO2010/090344,WO 2009/112275和WO 97/23212中。然而，这些文献没有描述具有如本专利技术所要求保护的特征性取代基和取代基排列的化合物。本专利技术的目的是要提供具有良好农药活性，尤其是杀虫活性并且对大量不同无脊椎动物害虫，尤其是难以防治的节肢动物害虫和/或线虫具有宽活性谱的化合物。此外，本专利技术的目的是要提供与现有技术化合物相比具有更低持久性、生物蓄积性和/或毒性的化合物。异K恶唑啉杀虫剂尤其在土壤中显示出高持久性且因此在其中蓄积。已经发现这些目的可以通过下式I的异噻唑啉化合物、其立体异构体及其盐,尤其是其可农用盐或可兽用盐实现。因此，在第一方面本专利技术涉及式I的异噻唑啉化合物及其N-氧化物、立体异构体和可农用或可兽用盐:【权利要求】1.式I的异噻唑啉化合物及其N-氧化物、立体异构体和可农用或可兽用盐:其中 A为基团A\A2、A3或A4 ； 其中A1 选自-C ( = NR6) R8、-S (O) nR9 和-N (R5) R6 ； A2为下式的基团:其中 #表示与式(I)的芳族环的键； W选自O和S ;Y 选自氢、-N(R5) R6 和-OR9 ； A3为下式的基团:其中 #表示与式(I)的芳族环的键； A4为含有1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6或7员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环，或为含有1、2、3或4个选自N、0、S、N0、S0和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂双环，其中该杂单环或杂双环任选被一个或多个取代基Rn取代； B1、B2和B3各自独立地选自N和CR2,条件是B1、B2和B3中至多两个为N ; G1、G2、G3和G4各自独立地选自N和CR4，条件是G1、G2、G3和G4中至多两个为N ； R1选自C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、C2-C4链烯基、C2-C4卤代链烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基和-C ( = O) OR15 ； R2各自独立地选自氢、卤素、氰基、叠氮基、硝基、-SCN、-SF5, C1-C6烷基、C3-C8环烷基、C2-C6链烯基、C2-C6炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代， -Si (R12) 3、-OR9、-S (O)nR9, -NR10aR10b, 可以被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基，以及含有1、2、3或4个选自N、0、S、N0、S0和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个基团Rn取代； R3a、R3b各自独立地选自氢、卤素、羟基、-CO2R3d, C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C2-C3链烯基、C2-C3炔基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷硫基、C1-C3卤代烷硫基、C1-C3烷基磺酰基和C1-C3卤代烷基磺酰基；或者 R3a 和 R3b—起形成基团=O、= C(R3%、= NOH 或=NOCH3 ； R3c各自独立地选自氢、卤素、CH3和CF3 ; R3d选自氢、C1-C6烷基和C1-C3烷氧基-C1-C3烷基； R4各自独立地选自氢，卤素，氰基，叠氮基，硝基，-SCN, -SF5，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C1-C6烷基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C3-C8环烷基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C2-C6链烯基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C2-C6炔基， -Si (R12) 3、-OR9、-S (O)nR9, -NR10aR10b, 可以被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基，以及含有1、2、3或4个选自N、0、S、N0、S0和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个基团Rn取代； R5各自独立地选自氢、C「C1(I烷基、C3-C8环烷基X2-Cltl链烯基X2-Cltl炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个取代基R8取代；以及-S(O)nR9, R6各自独立地选自氢、氰基、C1-C10烷基、C3-C8环烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个取代基R8取代， -OR9、-NR10aR10b、-S (O) nR9、-C ( = O) NR10aN (R10aR10b)，-Si (R12) 3、-C ( = O) R8， 可以被1、2、3、4或5个取代基R11取代的苯基，以及 含有1、2、3或4个独立地选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个取代基Rn取代； 或者R5和R6与它们所键合的氮原子一起形成3、4、5、6、7或8员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环，其中该环可以含有另外1、2、3或4个选自0、S、N、S0、S02、C = O和C = S的杂原子或含杂原子基团作为环成员，其中该杂环可以被1、2、3、4或5个独立地选自如下的取代基取代:卤素、氰基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷硫基X1-C6卤代烷硫基、C3-C8环烷基、C3-C8卤代环烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基，其中后提到的12个基团中的脂族或脂环族结构部分可以被一个或多个基团R8取代，以及可以被1、2、3、4或5本文档来自技高网...

【技术保护点】
式I的异噻唑啉化合物及其N‑氧化物、立体异构体和可农用或可兽用盐：其中A为基团A1、A2、A3或A4；其中A1选自‑C(＝NR6)R8、‑S(O)nR9和‑N(R5)R6；A2为下式的基团：其中#表示与式(I)的芳族环的键；W选自O和S；Y选自氢、‑N(R5)R6和‑OR9；A3为下式的基团：其中#表示与式(I)的芳族环的键；A4为含有1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6或7员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环，或为含有1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂双环，其中该杂单环或杂双环任选被一个或多个取代基R11取代；B1、B2和B3各自独立地选自N和CR2，条件是B1、B2和B3中至多两个为N；G1、G2、G3和G4各自独立地选自N和CR4，条件是G1、G2、G3和G4中至多两个为N；R1选自C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷氧基‑C1‑C4烷基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C2‑C4卤代炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基和‑C(＝O)OR15；R2各自独立地选自氢、卤素、氰基、叠氮基、硝基、‑SCN、‑SF5、C1‑C6烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代，‑Si(R12)3、‑OR9、‑S(O)nR9、‑NR10aR10b，可以被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基，以及含有1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个基团R11取代；R3a、R3b各自独立地选自氢、卤素、羟基、‑CO2R3d、C1‑C3烷基、C1‑C3卤代烷基、C2‑C3链烯基、C2‑C3炔基、C1‑C3烷氧基、C1‑C3卤代烷氧基、C1‑C3烷硫基、C1‑C3卤代烷硫基、C1‑C3烷基磺酰基和C1‑C3卤代烷基磺酰基；或者R3a和R3b一起形成基团＝O、＝C(R3c)2、＝NOH或＝NOCH3；R3c各自独立地选自氢、卤素、CH3和CF3；R3d选自氢、C1‑C6烷基和C1‑C3烷氧基‑C1‑C3烷基；R4各自独立地选自氢，卤素，氰基，叠氮基，硝基，‑SCN，‑SF5，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C1‑C6烷基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C3‑C8环烷基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C2‑C6链烯基，可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个基团R8取代的C2‑C6炔基，‑Si(R12)3、‑OR9、‑S(O)nR9、‑NR10aR10b，可以被1、2、3、4或5个基团R11取代的苯基，以及含有1、2、3或4个选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个基团R11取代；R5各自独立地选自氢、C1‑C10烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个取代基R8取代；以及‑S(O)nR9，R6各自独立地选自氢、氰基、C1‑C10烷基、C3‑C8环烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中后提到的4个脂族和脂环族基团可以部分或完全被卤代和/或可以被一个或多个取代基R8取代，‑OR9、‑NR10aR10b、‑S(O)nR9、‑C(＝O)NR10aN(R10aR10b)，‑Si(R12)3、‑C(＝O)R8，可以被1、2、3、4或5个取代基R11取代的苯基，以及含有1、2、3或4个独立地选自N、O、S、NO、SO和SO2的杂原子或杂原子基团作为环成员的3、4、5、6、7、8、9或10员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂单环或杂双环，其中该杂单环或杂双环可以被一个或多个取代基R11取代；或者R5和R6与它们所键合的氮原子一起形成3、4、5、6、7或8员饱和、部分不饱和或最大不饱和杂环，其中该环可以含有另外1、2、3或4个选自O、S、N、SO、SO2、C＝O和C＝S的杂原子或含杂原子基团作为环成员，其中该杂环可以被1、2、3、4或5个独立地选自如下的取代基取代：卤素、氰基、C1‑C6烷基、C1‑C6卤代烷基、C1‑C6烷氧基、C1‑C6卤代烷氧基、C1‑C6烷硫基、C...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·宾德沙德勒，W·冯戴恩，K·科尔博尔，F·凯泽，M·拉克，D·L·卡伯特森，P·尼斯，FJ·布劳恩，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE