【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种静压出流显影喷嘴，它包括：主体、隔板和盖板，所述主体呈长条状，主体内沿长边方向设置储液槽，所述储液槽由上槽部和下槽部构成，上槽部的宽度大于下槽部的宽度在二者连结部形成台阶，台阶的长边沿成型有外高内低的引流面，下槽部的底部设置若干出流小孔，下槽部侧壁靠近两端处分别设置下槽部的排气孔，所述上槽部构成喷嘴的一级流道，下槽部构成喷嘴的二级流道；所述隔板设置于所述储液槽内的台阶上，隔板上于所述引流面上方设置过流缝；所述盖板密封装配于所述储液槽的口部。采用上述静压出流方式及排气孔结构，显著提高了喷涂的稳定性和均匀性。【专利说明】静压出流显影喷嘴
本专利技术属于集成电路制造领域，更具体地说，涉及集成电路制造工艺中的显影喷嘴。
技术介绍
随着半导体技术的不断向前发展，在IC (集成电路，芯片)制造领域，对IC制造设备的要求也越来越高。显影工序作为光刻工艺中最为重要的工序之一,显影质量的好坏对光刻工艺的影响至关重要。快速发展的半导体技术带来的不仅仅是晶圆尺寸的扩大，芯片特征尺寸的不断减小，而且是对光刻工艺，对显影工艺提出的更高要求。与此同时，...
【技术保护点】
一种静压出流显影喷嘴，其特征在于，包括：主体，呈长条状，主体内沿长边方向设置储液槽，所述储液槽由上槽部和下槽部构成，上槽部的宽度大于下槽部的宽度在二者连结部形成台阶，台阶的长边沿成型有外高内低的引流面，下槽部的底部设置若干出流小孔，下槽部侧壁靠近两端处分别设置下槽部的排气孔，所述上槽部构成喷嘴的一级流道，下槽部构成喷嘴的二级流道；隔板，设置于所述储液槽内的台阶上，隔板上于所述引流面上方设置过流缝；以及盖板，密封装配于所述储液槽的口部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘学平，徐强，王汉，向东，刘睿，段广洪，
申请(专利权)人：清华大学深圳研究生院，
类型：发明
国别省市：广东;44
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