一类含苯并咪唑基团的二芳基酰胺类化合物及其合成和应用制造技术

本发明专利技术涉及一类含苯并咪唑基团的二芳基酰胺类化合物及其合成和应用，属于化学医药领域，所述化合物具有如下通式Ⅰ：其中：R1为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基或C1～C6酰胺基；R2为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基或C1～C6酰胺基；R3为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基、C1～C6酰胺基、苯环或氮杂芳环；R4为H或C1～C6烷基；R5为甲砜基、硝基、三氟甲基或氰基，所述化合物及其药学上可接受的盐在制备抗肿瘤药物中的应用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一类含苯并咪唑基团的二芳基酰胺类化合物，其特征在于：所述化合物具有如下通式Ⅰ：其中：R1为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基或C1～C6酰胺基；R2为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基或C1～C6酰胺基；R3为氢、卤素、羟基、氨基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C1～C6酯基、C1～C6烷胺基、C1～C6酰胺基、苯环或氮杂芳环；R1、R2和R3可在所在的苯环上任意可能的位置；R4为H或C1～C6烷基；R5为甲砜基、硝基、三氟甲基或氰基。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王世盛，管童伟，赵伟杰，郑晓红，王迪，刘思慧，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：辽宁;21