【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供了一种光胶滚涂机。现有技术进行光胶滚涂时可能造成光胶厚薄不均。本技术包括:滚子,用于向一平面滚涂光胶;设置于滚子轴向的第一刮板,用以刮平所述平面上的光胶;设置于所述第一刮板与所述滚子之间的第二刮板,用以刮除所述滚子上的光胶;所述第二刮板位置高于所述第一刮板。本技术中第二刮板可刮除残留在滚子上的光胶,防止残留在滚子上的光胶滴落造成厚度不均;第一刮板可刮平金属片材上的光胶层;第二刮板上的导流孔和第一刮板上的光胶流道可收集第一刮板和第二刮板上刮下的光胶,防止光胶滴落,并可将收集的光胶回收。【专利说明】一种光胶滚涂机
本技术属于加工设备,尤其涉及一种金属蚀刻片加工过程中的金属片材光胶滚涂机。
技术介绍
金属蚀刻片是将金属片材经化学浸湿后得到的带有预定图文的金属结构,其被广泛的应用于集成电路领域以及用做外观装饰件。 现有的金属蚀刻片加工方法,一般是通过在金属片材上滚涂光胶,随后通过带有预设图案的光罩进行曝光使金属片材上留下图案化的光胶膜,随后通过化学浸蚀,将金属片材上没有覆盖光胶膜的部分腐蚀,留下的部分则形成金属蚀刻片。 光 ...
【技术保护点】
一种光胶滚涂机,其特征在于,包括:滚子,用于向一平面滚涂光胶;设置于滚子轴向的第一刮板,用以刮平所述平面上的光胶;设置于所述第一刮板与所述滚子之间的第二刮板,用以刮除所述滚子上的光胶;所述第二刮板位置高于所述第一刮板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:梁泰频,何公明,
申请(专利权)人:宁波东盛集成电路元件有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
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