用于有机发光二极管处理的掩模制造技术

本实用新型专利技术涉及铁镍合金涂层的改进。本实用新型专利技术的实施方式通常提供在用于OLED制造的CVD腔室中使用的掩模。掩模由涂有氧化物材料的镍铁合金制成，所述氧化物材料诸如为氧化铁(III)(Fe3O4)或氧化钇(Y2O3)。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及铁镍合金涂层的改进。本技术的实施方式通常提供在用于OLED制造的CVD腔室中使用的掩模。掩模由涂有氧化物材料的镍铁合金制成，所述氧化物材料诸如为氧化铁(III)(Fe3O4)或氧化钇(Y2O3)。【专利说明】用于有机发光二极管处理的掩模
本技术的实施方式通常涉及掩模，且本技术的实施方式特别地涉及在用于有机发光二极管(OLED)制造的化学气相沉积(CVD)腔室中使用的铁镍合金掩模。
技术介绍
基板处理腔室提供各种各样的功能。通常，当在基板上沉积介电层时，来自沉积工艺的残留物聚集在处理腔室的侧壁及其他表面上。处理腔室中的一种具有残留物沉积于上的元件是掩模。这些沉积会变得易碎且沾污基板表面。因为腔室通常是用于快速处理基板的集成工具的一部分，所以腔室和腔室元件的维护和清洗必须需要最少的时间。为了降低沾污的可能性且从而提高腔室的产量，需要有效和及时地清洗腔室和腔室元件的表面。 当前，用于从腔室元件的表面除去含硅或碳沉积物的机制包括远程等离子体清洗、原位RF等离子体清洗，或RF辅助远程等离子体清洗。基于含氟气体化学剂的远程等离子体可用于清洗腔室元件本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于有机发光二极管处理的掩模，其特征在于，包括： 镍铁合金体；以及 氧化铁(III)或氧化钇涂层。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：森育雄，陈志坚，栗田真一，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US