化合物、化合物的制造方法、以及化合物的精制方法技术

技术编号:10603226 阅读:154 留言:0更新日期:2014-11-05 15:29
本发明专利技术提供一种化合物,其特征在于,由通式(I)表示(式(I)中,A表示卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基磺酰基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基。n表示0~5中的任一整数(n为2以上时,A彼此可以相同也可以不同)。Y表示烷基。M表示碱金属或碱土金属。m表示1或者2的整数)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种化合物,其特征在于,由通式(I)表示(式(I)中,A表示卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基磺酰基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基。n表示0~5中的任一整数(n为2以上时,A彼此可以相同也可以不同)。Y表示烷基。M表示碱金属或碱土金属。m表示1或者2的整数)。【专利说明】
本专利技术涉及作为四唑基羟基亚氨基衍生物的盐的化合物、由上述化合物精制特定的几何异构体的方法、以及使用了上述化合物的四唑基肟衍生物的制造方法。 本申请基于2012年3月13日在日本申请的日本特愿2012-056136号主张优先权,并将其内容援引于此。
技术介绍
针对农园艺作物的病害,提出了多种防除药剂。例如,专利文献I中公开了对有用植物体具有优异药效的四唑基肟衍生物(通式(P)),提出了将其用作植物病害防除剂。 【权利要求】1.一种化合物,其特征在于,由通式(I)表示,式(I)中,A表不卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基横酸基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基,η表示O~5中的任一整数,其中,η为2以上时,A彼此可以相同也可以不同,Y表示烷基,M表示碱金属或碱土金属,m表示I或2的整数。2.根据权利要求1所述的化合物,其中,其为Z型异构体。3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中,每I分子含有2分子的水。4.根据权利要求1~3中任一项所述的化合物,其中,M为碱金属。5.一种通式(I)所示的化合物的制造方法,其特征在于,包括使碱金属化合物或碱土金属化合物与通式(II)所示的四唑基肟衍生物作用的工序(A),式(II)中,A表不卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基横酸基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基,η表示O~5中的任一整数,其中,η为2以上时,A彼此可以相同也可以不同,Y表示烷基,式(I)中,Α、η和Y与式(II)相同,M表示碱金属或碱土金属,m表示I或2的整数。6.一种通式(I)所示的化合物的Z型异构体的精制方法,其特征在于,包括在通式(I)所示的化合物的水溶液中添加醇,使通式(I)所示的化合物的Z型异构体的结晶析出的工序(B),式(I)中,A表不卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基横酸基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基,η表示O~5中的任一整数,其中,η为2以上时,A彼此可以相同也可以不同,Y表示烷基,M表示碱金属或碱土金属,m表示I或2的整数。7.根据权利要求6所述的化合物的精制方法,其中,所述醇为低级醇。8.—种通式(I)所示的化合物的Z型异构体的制造方法,其特征在于,包括对含有通式(I)所示的化合物的E型异构体的溶液进行光照射,使其异构化为Z型异构体的工序(C),式(I)中,A表不卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基横酸基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基,η表示O~5中的任一整数,其中,η为2以上时,A彼此可以相同也可以不同,Y表示烷基,M表示碱金属或碱土金属,m表示I或2的整数。9.根据权利要求8所述的通式(I)所示的化合物的Z型异构体的制造方法,包括: 所述含有通式(I)所示的化合物的E型异构体的溶液为水溶液的工序(C’),和 所述工序(C’ )后,在所述水溶液中添加醇,使所述通式(I)所示的化合物的Z型异构体的结晶析出的工序(B’)。10.一种通式(IV)所示的四唑基肟衍生物的制造方法,其特征在于,包括使通式(I)所示的化合物与通式(III)所示的卤化物反应,得到通式(IV)所示的四唑基肟衍生物的工序(Dl),式(III)中,Het表示具有取代基的吡啶基或者具有取代基的噻唑基, X表不卤素原子, 式(I)中,A表不卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基横酸基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基, η表示O~5中的任一整数,其中,η为2以上时,A彼此可以相同也可以不同, Y表不烷基, M表不碱金属或碱土金属, m表示I或2的整数, 式(IV)中,Het、X、A、n和Y分别与式(III)和式(I)相同。11.根据权利要求10所述的通式(IV)所示的四唑基肟衍生物的制造方法,其中,所述通式(III)所示的卤化物是通式(VI)所示的卤代甲基吡啶衍生物,式(VI)中,Rie表不无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的烷氧基, R2e表示氢原子、无取代或具有取代基的烷氧基羰基、或者无取代或具有取代基的酰基, X表不卤素原子, Z表不卤素原子、氛基、硝基、羟基、硫醇基、甲酸基、竣基、无取代或具有取代基的氣基、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的链烯基、无取代或具有取代基的炔基、无取代或具有取代基的芳基、无取代或具有取代基的杂环基团、OR3、S (O) PR3、COR3、或CO2R3,其中,R3表示无取代或具有取代基的氨基、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的链烯基、无取代或具有取代基的炔基、无取代或具有取代基的芳基、或者无取代或具有取代基的杂环基团,P表示括号内的氧原子数且为O~2中的任一整数, q表示Z的取代数且为O~3中的任一整数,q为2以上时,多个Z彼此可以相同也可以不同。【文档编号】C07D257/04GK104136422SQ201380011176 【公开日】2014年11月5日 申请日期:2013年3月6日 优先权日:2012年3月13日【专利技术者】松田启一郎, 松下政幸, 野田薰, 梶田理 申请人:日本曹达株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化合物,其特征在于,由通式(I)表示,式(I)中,A表示卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基磺酰基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基,n表示0~5中的任一整数,其中,n为2以上时,A彼此可以相同也可以不同,Y表示烷基,M表示碱金属或碱土金属,m表示1或2的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:松田启一郎松下政幸野田薰梶田理
申请(专利权)人:日本曹达株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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