用于等离子体涂布系统的料片、制造方法及制造薄膜的方法技术方案

用于等离子体涂布系统的料片，具有第一部分和第二部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括在第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。本发明专利技术还公开了所述料片的制造方法，和使用所述料片制造薄膜的方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】用于等离子体涂布系统的料片，具有第一部分和第二部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括在第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。本专利技术还公开了所述料片的制造方法，和使用所述料片制造薄膜的方法。【专利说明】相关申请的交叉引用本申请要求2013年4月30日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请10-2013-0048501的优先权和权益，其全部公开内容通过引用整体合并于此。
本专利技术的实施方式涉及用于等离子体涂布系统的料片、制造它的方法及使用制造所述用于等离子体涂布系统的料片的方法制造薄膜的方法。
技术介绍
有机发光显示装置为具有大视角、高对比度、快响应时间、关于亮度、驱动电压和响应速度的高的特性的发射显示装置，并可显示彩色图像。 有机发光显示装置可包括有机发光装置。有机发光装置易于被水分和氧气劣化。因此，所述有机发光显示装置包括用于密封所述有机发光装置免受水分和氧气损害的封装结构。所述封装结构可由密封薄膜形成。所述密封薄膜可由无机材料形成，并且所述无机材料可通过各种方法形成为薄膜。然而，当通过使用等离子体涂布系统形成密封薄膜时，会在所述密封薄膜中包括在升华无机材料的过程中产生的灰烬、颗粒和空气传播的物质，因此，降低了所述密封薄膜的可靠性。
技术实现思路
本专利技术的实施方式提供了用于形成薄膜的等离子体涂布系统的料片(tablet)、制造所述料片的方法及使用制造所述用于等离子体涂布系统的料片的方法制造所述薄膜的方法。 根据实施方式的方面，提供了用于等离子体涂布系统的料片，所述料片包括:第一部分，所述第一部分包含在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包含在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。 所述第一材料可为锡氧化物。 所述第二材料可为锡。 所述第二材料可为包括锡氧化物、磷氧化物、磷酸硼、锡氟化物、铌氧化物、氧化锌、氧化硼、或氧化钨中的至少一种的混合物。 所述第二部分可占整个所述料片的约10%至约50%范围内的体积，并且所述第一部分可占整个所述料片的约50%至约90%范围内的体积。 所述第一部分的上表面的中心部分可凹向所述第一部分的下表面。 所述第二部分可形成为单片或多片。 根据实施方式的方面，提供了形成用于等离子体涂布系统的料片的方法，所述料片包括第一部分和第二部分，所述方法包括:通过研磨、压缩和烧结在第一压力下具有第一升华点的第一材料而形成第一部分；和通过将在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料放置在所述第一部分的上表面上而形成第二部分，其中，所述第二熔点低于所述第一升华点。 所述第一材料可为锡氧化物。 所述第二材料可为锡。 所述第二材料可为包括锡氧化物、磷氧化物、磷酸硼、锡氟化物、铌氧化物、氧化锌、氧化硼、或氧化钨中的至少一种的混合物。 所述方法可进一步包括形成所述第一部分的上表面的中心部分，所述中心部分凹向所述第一部分的下表面。 所述第二部分可形成为单片或多片。 根据实施方式的方面，提供了通过使用用于等离子体涂布系统的料片制造薄膜的方法，其中，所述料片包括:第一部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括具有在所述第一压力下的第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点，所述方法包括:加热容纳所述料片的坩埚；通过在所述第一部分的上表面的中心部分收集熔化的所述第二材料而暴露所述第一部分的上表面的边缘部分；从所述第一部分的所述暴露的上表面的边缘部分升华所述第一材料；和通过升华的所述第一材料在将要进行沉积的主体上形成薄膜。 可通过吸收从离子枪射出的电子加热所述坩埚。 从所述第一部分释放的离散的物质被熔化的所述第二材料吸收。 所述薄膜可为密封有机发光装置的密封薄膜。 根据实施方式，在通过等离子体涂布系统形成薄膜的过程中，减少了可从所述料片产生的灰烬、颗粒和空气传播的物质，因而可提高薄膜的可靠性。 【专利附图】【附图说明】 通过参照附图详细说明本专利技术的示例性实施方式，本专利技术的上面和其它特征和优点将变得更明显，其中: 图1为说明根据实施方式的用于等离子体涂布系统的料片的透视图； 图2和图3为说明根据另一个实施方式的用于等离子体涂布系统的料片的透视图； 图4为显示根据实施方式通过使用料片而形成薄膜的方法的示意性截面图；和 图5为根据实施方式通过使用料片用密封膜密封有机发光显示装置的截面视图。 【具体实施方式】 在本说明书中，与实施方式无关的部分可从附图中省略，并且可能不说明，或者在附图中简要显示并简要说明。同样，在附图中，为了清晰，层或区域的长度或大小可被放大。 在全部附图的说明中，相似的附图标记用于基本相同或彼此相应的元件。在本说明书中，术语“第一”、“第二”等可在其中使用以说明各种元件，并且这些元件不应被这些术语限制，而是仅用于区分元件彼此。同样，应理解当称层、区域或元件“形成在”另一个元件或层上面时，它可包括所述层、所述区域或所述元件直接形成在另一个层、区域或元件上的情况和所述层、所述区域或所述元件不直接形成，其间有中间层、区域或元件的情况。 所述实施方式涉及等离子体涂布系统。 所述等离子体涂布系统为一类薄膜形成系统。 在所述等离子体涂布系统中，薄膜基于以下原理形成，即当从离子发生器产生的正离子和电子被供应到腔中时，所供应的电子被容纳所述料片的坩埚吸收，因此加热所述料片，并且构成所述料片的固体材料升华成气体，所述气体在将要进行沉积的主体上沉积。 所述离子发生器可为离子枪。当惰性气体，例如氩气被注入所述枪的管中时，由于磁场、电场以及所述管周围形成的热量而产生等离子体，结果，氩气电离成氩正离子和电子。所述枪将正离子和电子供应到所述腔中。 将所述腔保持在真空状态或低压。 容纳所述料片的坩埚被放置在所述腔中。将要进行沉积的主体，例如基板或其上放置有机发光装置的基板，放置在面对所述料片的位置。所述坩埚可由具有高的热传导性的金属，例如铜或钨形成。所述被供应到所述腔中的电子通过被所述坩埚吸收而加热所述料片。接触所述坩埚的所述料片的边缘部分比所述料片的中心部分更早被加热，因此所述料片的边缘部分升华，并在将要进行沉积的主体上形成薄膜。 所述等离子体涂布系统使用通过加热所述料片而升华包含在其中的材料，从而在将要进行沉积的主体上形成薄膜的方法。 溅射系统使用这样一种方法，其中当等离子体中的氩正离子通过向靶加速而与所述靶的表面碰撞时，从所述靶射出靶材料，通过所述靶材料在将要进行沉积的主体上形成薄膜。 因此，所述溅射系统利用低电流和高电压，并且，由于具有大的动能的靶材料与将要进行沉积的主体碰撞，会损坏将要进行沉积的靶。然而，所述等离子体涂布系统利用高电流和低电压，并且，由于料片的材料被加热升华，对将要进行沉积的主体的损坏很小。 下文，将详细说明用于等离子体涂布系统的料片和形成所述料片的方法。 图1为说明根据实施方式的用于等离子体涂布系统的料片Ia的透视图。图2和图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于等离子体涂布系统的料片，所述料片包括：第一部分，所述第一部分包括在第一压力下具有第一升华点的第一材料；和第二部分，所述第二部分放置在所述第一部分上并包括在所述第一压力下具有第二熔点的第二材料，其中所述第二熔点低于所述第一升华点。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金勳，朴镇宇，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR