狭缝模具涂布方法技术

本发明专利技术涉及一种狭缝模具涂布方法，即，一种将光学涂层涂覆到基材上的方法，所述方法包括如下步骤：(a)制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；(b)利用模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；(c)干燥所述被涂基材，其中所述被涂基材处于基本水平的平面，从而使所述湿膜转换成厚度小于1μm的干膜。所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过10％的固体。所述被涂基材可选被固化。

【技术实现步骤摘要】
狭缝模具涂布方法本申请是申请日为2010年3月8日的中国专利申请201080010828.5(PCT/EP2010/052909)的分案申请。本专利技术涉及将光学涂层涂覆到基材上的方法及其产品。具有光学功能的被涂基材是已知。具有光学功能的涂层是一种以控制光学性能为目的的涂层，例如抗UV涂层和/或抗反射涂层。例如，具有光学功能的经涂布的板被用在农用玻璃、园艺用玻璃、太阳能板、图片框玻璃、显示器玻璃(例如博物馆玻璃)、电子显示器玻璃(例如LCD显示器玻璃)等等中。光学涂层的原型例子是抗反射涂层。当以几乎垂直角度(5°偏移)注视玻璃时，未经处理的浮法玻璃板通常表现出约10％的强光线反射。这通常降低了基材的功能性并且经常减弱了基材的美观，因而是不期望的。光学涂层通常利用所谓的干涂技术(如溅射或物理气相沉积)或湿涂技术(例如浸涂、喷涂或帘涂)涂覆。在浸涂工艺中，将玻璃板浸入含有涂层流体的容器中，并且以一定速率收回。这个工艺通常用于涂覆光学薄膜。尽管这个工艺比“干”涂技术成本效益更高，但是其存在多个缺点：该工艺涉及大量化学品的处置，涂层被涂覆在玻璃两侧(这对于一些应用来说是不必要的或甚至不利的)，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗反射玻璃基材，所述基材在具有至少0.1m2的表面积的至少一侧上涂有含有纳米颗粒和粘结剂的抗反射涂层，其中所述涂层的厚度为50到200nm，并且在所述基材的整个被涂表面积上，所述涂层发生最小反射的光学波长的差异小于50nm。

【技术特征摘要】
2009.03.06 EP 09154522.81.一种抗反射玻璃基材，所述基材在具有至少0.1m2的表面积的至少一侧上涂有含有纳米颗粒和粘结剂的抗反射涂层，其中所述涂层的厚度为50到200nm，并且在所述基材的整个被涂表面积上，所述涂层发生最小反射的光学波长的差异小于50nm，其中所述抗反射玻璃基材是通过如下步骤获得的：a.制备含有溶剂组分和成膜组分的光学涂层制剂；b.利用包含狭缝模具的模具涂布机通过将所述光学涂层涂覆到基材上而形成被涂基材，其中所述被涂覆的光学涂层在所述基材上形成厚度为8μm至100μm的湿膜；c.干燥所述被涂基材，从而使所述湿膜转换成厚度为20nm或更大且小于500nm的干膜，其中所述被涂基材处于基本水平的平面；以及d.可选地固化所述被涂基材，其中，所述光学涂层制剂包含，相对于所述光学涂层制剂的总重量，大于0.3wt％但不超过5％的固体，并且其中，所述狭缝模具包括由位于所述光学涂层的流的上游且边缘厚度为0.15-5mm的上游边缘(7b)和位于所述光学涂层的流的下游且边缘厚度为0.15-2mm的下游边缘(7a)所限定的狭缝间隙(3)；并且其中所述狭缝间隙(3)是所述湿膜厚度的1.1至9倍；并且其中处于所述狭缝间隙的远端的所述下游边缘与所述基材之间的涂布间隙(9)为至少20μm，并且涂布间隙/湿膜厚度之比为至多15。2.如权利要求1的抗反射玻璃基材，其中，所述涂层发生最小反射的光学波长的差异小于30nm。3.如权利要求2的抗反射玻璃基材，其中，通过最小反射波长的差异确定的用2×标准偏差表示的涂层的厚度公差小于40nm。4.如权利要求3的抗反射玻璃基材，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：纳尼·乔格·阿福斯坦，帕斯卡·约瑟夫·保罗·布司肯斯，马尼克斯·鲁伊杰曼斯，
申请(专利权)人：帝斯曼知识产权资产管理有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL