【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供了一种沉积装置和掩模组件，所述沉积装置包括：掩模框架，具有框架开口；掩模，结合到掩模框架的上表面并且被构造为覆盖框架开口；延伸构件，被布置在框架开口的边缘的至少一部分上，并且被构造为从掩模框架的上表面突出并使掩模的与框架开口相对应的第一部分的竖直距离比掩模的与掩模框架的上表面接触的第二部分的竖直距离大，每个竖直距离均是从掩模框架的上表面测量的。【专利说明】沉积装置和应用于沉积装置的掩模组件
下面的描述涉及一种沉积装置和一种应用于该沉积装置的掩模组件。
技术介绍
尽管存在许多不同类型的显示装置，但是由于作为自发光显示装置的有机发光显 示装置自身在具有宽的视角、优异的对比度和高的响应速度的方面的优势，它们作为下一 代显示装置已经引起关注。 有机发光显示装置包括中间层，中间层包括位于彼此面对的电极之间的至少一个 发光层。电极和中间层可以以各种方法形成，而这些方法中的一种就是沉积方法。 沉积方法就是通过利用具有与将要位于基板上的膜的图案相同的开口图案的掩 模而将沉积材料沉积在基板上来形成期望图案的膜的方法，以制...
【技术保护点】
一种沉积装置，所述沉积装置包括：掩模框架，具有框架开口；掩模，结合到掩模框架的上表面并且被构造为覆盖框架开口；延伸构件，被布置在框架开口的边缘的至少一部分上，并且被构造为从掩模框架的上表面突出并使掩模的与框架开口相对应的第一部分的竖直距离比掩模的与掩模框架的上表面接触的第二部分的竖直距离大，每个竖直距离均是从掩模框架的上表面测量的。
【技术特征摘要】
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