沉积装置、形成薄膜的方法及制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:10549583 阅读:114 留言:0更新日期:2014-10-17 10:28
提供了一种沉积装置,构造为对基底执行沉积工艺,所述沉积装置包括:腔室,在表面中具有排放开口;沉积源,位于腔室中,构造为向基底喷射一种或多种沉积材料;冷却板,对应于腔室的内表面,排放开口形成在冷却板处;冷冻机,接触冷却板;以及泵,结合到排放开口。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】提供了一种沉积装置,构造为对基底执行沉积工艺,所述沉积装置包括:腔室,在表面中具有排放开口;沉积源,位于腔室中,构造为向基底喷射一种或多种沉积材料;冷却板,对应于腔室的内表面,排放开口形成在冷却板处;冷冻机,接触冷却板;以及泵,结合到排放开口。【专利说明】 本申请要求在2013年4月4日提交到韩国知识产权局的第10-2013-0036979号 韩国专利申请的优先权和权益,通过引用将该申请的全部公开内容包含于此。
以下的描述涉及沉积装置、使用该沉积装置的薄膜形成方法以及制造有机发光显 示装置的方法。
技术介绍
半导体设备、显示装置以及其他电子设备包括多个薄膜。形成多个薄膜的一个方 法是是通过沉积工艺。 在显示装置中,有机发光显示器由于诸如宽视角、高对比度和快响应速度的特性 而被认为是下一代显示装置。 有机发光显示装置包括:彼此面对的第一电极和第二电极;包括有机发射层的中 间层,位于第一电极和第二电极之间;以及可以通过沉积工艺形成的一个或多个不同的合 适的薄膜。另外,包封层在例如有机发光显示装置的显示装置中形成在第二电极上,包封层 可以包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积装置,所述沉积装置被构造为对基底执行沉积工艺,所述沉积装置包括:腔室,在表面中具有排放开口;沉积源,位于腔室中,构造为向基底喷射一种或多种沉积材料;冷却板,对应于腔室的内表面,排放开口形成在冷却板处;冷冻机,接触冷却板;以及泵,结合到排放开口。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:金善浩许明洙李正浩赵喆来朱儇佑李勇锡
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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