沉积设备制造技术

技术编号:10540323 阅读:161 留言:0更新日期:2014-10-15 16:18
一种沉积设备包括:基底支承件,构造为支承基底;沉积源,构造为供应沉积材料;传感器单元,构造为感测沉积材料的沉积量;第一防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第一磁单元;第二防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第二磁单元;和第三防附着板,结合到第一防附着板和第二防附着板,处于传感器单元下面,并且包括一个或多个第三磁单元,其中,第一防附着板、第二防附着板和第三防附着板通过第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元彼此结合,毗邻第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元中的各个磁单元,并且其中,第一防附着板、第二防附着板和第三防附着板共同地覆盖传感器单元的一部分。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种沉积设备包括:基底支承件,构造为支承基底;沉积源,构造为供应沉积材料;传感器单元,构造为感测沉积材料的沉积量;第一防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第一磁单元;第二防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第二磁单元;和第三防附着板,结合到第一防附着板和第二防附着板,处于传感器单元下面,并且包括一个或多个第三磁单元,其中,第一防附着板、第二防附着板和第三防附着板通过第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元彼此结合,毗邻第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元中的各个磁单元,并且其中,第一防附着板、第二防附着板和第三防附着板共同地覆盖传感器单元的一部分。【专利说明】沉积设备 本专利申请要求于2013年4月3日提交的第10-2013-0036529号韩国专利申请 的优先权和权益,该专利申请的全部内容通过引用被包含于此。
本公开涉及沉积设备。
技术介绍
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沉积设备

【技术保护点】
一种沉积设备,所述沉积设备包括:基底支承件,构造为支承基底;沉积源,构造为向基底供应沉积材料;传感器单元,构造为接收沉积材料的一部分,以感测沉积材料的沉积量;第一防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第一磁单元;第二防附着板,结合到传感器单元并且包括一个或多个第二磁单元,第二防附着板相对于传感器单元与第一防附着板相对;和第三防附着板,结合到第一防附着板和第二防附着板,处于传感器单元下方,并且包括一个或多个第三磁单元,其中,第一防附着板、第二防附着板和第三防附着板通过第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元在第一磁单元、第二磁单元和第三磁单元中的相应的磁单元附近彼此结合,并且其中,第一防附着板、...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:金保云赵相圭吴准植金建植吴仙英
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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