带电粒子线装置及布线方法制造方法及图纸

技术编号:10527432 阅读:183 留言:0更新日期:2014-10-09 12:25
本发明专利技术的目的在于提供在带电粒子线装置的真空室内不使用气相沉积法等而进行布线加工的布线方法及带电粒子线装置。为了达到上述目的,本发明专利技术提供如下的布线方法及带电粒子线装置,即,向试样上滴下离子液体或预先在载置试样的试样台上准备离子液体,向布线加工起点与布线加工终点之间的布线轨道上照射带电粒子线而形成由离子液体构成的布线。根据这样的结构,能不使用气相沉积法等而在带电粒子线装置的真空室内进行布线加工。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及,特别涉及使用离子液体的布线方法及具 备离子液体源的带电粒子线装置。
技术介绍
寻求使用电子显微镜对纳米级、微米级的微小区域进行观察的方法。作为该观察 法或测定法,已知有对试样的微小区域施加电压来进行观察的观察法、使用电子显微镜测 定微小区域的吸收电流的测定法、或将微小区域在接地的状态下用电子显微镜进行观察的 观察法等。 在进行以上那样的观察、测定的情况下,为了能进行局部的电压施加或接地,有时 对微小区域实施局部的布线。 作为进行局部的布线的方法,已知有专利文献4公开那样的使用会聚离子束的气 相沉积法。 另外,在专利文献1中公开了一种使用包含导电性粒子和离子液体的墨液并利用 喷墨印刷来形成导电性图案的方法。离子液体具有在真空中也维持液体状态的特征。 在专利文献2中公开了一种通过使含水试样含浸离子液体或向含水试样涂敷离 子液体来抑制真空下的水分蒸发,从而将生体试样以保持原型的状态进行观察的方法。 另外,在专利文献3中公开了一种在具有开口部的试样保持构件中保持离子液体 并使试样在离子液体中浮起来进行观察的观察法。 在先技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2006-335995号公报 专利文献 2 :TO2007/083756(对应美国专利 USP7,880,144) 专利文献3 :日本特开2009-266741号公报(对应美国专利公开公报 US2011/0057100) 专利文献4 :日本特开2002-110680号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 在专利文献4公开那样的使用离子束的气相沉积法的情况下,一旦实施布线加 工,则为了除去布线而需要再次照射离子束来削掉加工部分,因此,担心此时会产生损伤。 另外,在专利文献1公开那样的使用喷墨印刷的布线形成法中,需要进行使用专用的印刷 装置的布线,因此,不能一边利用电子显微镜等进行观察一边进行布线加工。另外,在专利 文献2、3中,关于在试样的局部区域进行布线加工的内容没有公开也没有启示。 以下,说明目的在于在带电粒子线装置的真空室内不使用气相沉积法等而进行布 线加工的布线方法及带电粒子线装置。 用于解决课题的手段 作为用于达到上述目的的一方案,以下说明如下的布线方法及带电粒子线装置, 即,向试样上滴下离子液体或预先在载置试样的试样台上准备离子液体,向布线加工起点 与布线加工终点之间的布线轨道上照射带电粒子线而形成由离子液体构成的布线。 专利技术效果 根据上述一方案,能不使用气相沉积法等而在带电粒子线装置的真空室内进行布 线加工。 【附图说明】 图1是带电粒子线装置的结构图。 图2表示离子液体导入机构的一例的图。 图3是离子液体导入机构的探针部的放大图。 图4是说明利用电子束的照射使离子液体移动的现象的图。 图5是说明离子液体伴随着电子束的照射位置的移动而移动的现象的图。 图6是表示布线方法的工序的流程图。 图7是表示布线方法的工序的概要的图。 图8是表示自动布线方法的工序的流程图1。 图9是表示自动布线方法的工序的流程图2。 图10是表示电子线照射区域的移动轨道的图(横向)。 图11是表示电子线照射区域的移动轨道的图(纵向)。 图12是表示电子线照射区域的移动轨道的图(斜向)。 图13是表示试样更换室的一例的图。 图14是表示用于设定布线加工条件的⑶I画面的一例的图。 图15是表示试样旋转棒前端与试样台底部的一例的图。 图16是表示离子液体用的液体浴的外观的图。 图17是表示能搭载离子液体的试样台的一例的图。 图18是表示离子液体供给法的图。 图19是表示用于设定布线加工条件的设定装置和电子显微镜的控制装置的一例 的图。 图20是表示布线加工条件设定时的SEM图像的一例的图。 【具体实施方式】 以下,说明一种方法及装置,在带电粒子线装置中配置能向试样室内导入离子液 体的机构,将离子液体向试样上的任意的部位滴下,向滴下的离子液体及/或布线加工起 点与布线加工终点之间的布线轨道上照射带电粒子线而引导离子液体到达任意的部位,通 过使离子液体移动到另一部位而对任意的两部位之间进行电气布线。 以下,根据所说明的方法及装置,能实现抑制试样损伤且能制作及除去微小区域 的布线的方法及装置。 实施例1 以下,参照附图,详细地说明使用了离子液体的布线加工法及装置。 图1是表示带电粒子线装置的结构的示意图。101是真空腔室,能在真空排气系统 102的作用下保持真空状态。103是试样更换机构,能在将真空腔室101保持为真空状态的 状态下将观察试样从装置外导入装置中。104是带电粒子线源,用于产生带电粒子线的阴 极、阳极、用于使产生的带电粒子线会聚的透镜、光圈、用于使带电粒子线进行扫描的扫描 线圈等必要的光学系统全部包含在带电粒子线源内。利用上述带电粒子线源104内的光学 系统能使带电粒子线105会聚于试样106上而以任意的顺序进行扫描。 经由带电粒子线105的照射而在试样106的表面产生的二次信号107由二次信号 检测系统108检测出,并作为图像数据向还具有图像运算控制功能的控制系统109输入。试 样106通过导电性的带或糊剂等固定于试样台110上,利用试样工作台111能使试样106 向三维方向的所有方向移动。 控制系统109还进行带电粒子线源104、二次信号检测系统108、试样工作台111、 离子液体导入机构113及图像显示装置112的控制。由二次信号检测系统108检测出的信 号由控制系统109内的信号放大器放大后被转送至图像存储器,并作为试样像显示、记录 于图像显示装置112。113是离子液体导入机构,能向试样106上的任意的部位滴下离子液 体。 将离子液体导入机构113的一例示于图2的示意图中。201是液槽,能积存用于向 试样滴下的离子液体202。203是注入口,能将离子液体202注入液槽201内。另外,在注 入口 203安装有能保持液槽201内的气密性的盖。204是真空排气系统,能对液槽201内进 行真空排气。205是将带电粒子线装置内部与液槽201分隔的开闭器,能在液槽201内为大 气压时关闭而保持真空腔室101的真空,能在液槽201内为真空状态时打开而使离子液体 202从液槽201流出。此时,通过调节打开程度,而能够调整离子液体的流量。206是探针 杆,内部存在空洞,能使内部成为真空状态或供从液槽201流出的离子液体流动。在探针杆 206的前端,借助使用机械结构的粗动机构207和使用压电元件的微动机构208而安装有 探针209,能使探针209高精度地接近试样或从试样退避。在粗动机构207和微动机构208 的内部,与探针杆206同样地存在空洞,能使从液槽201流出而在探针杆206内流动来的离 子液体流动到探针209。真空排气系统204、开闭器205、粗动机构207、微动机构208由图 1的控制系统109控制。另外,具有在探针209的前端与接地的试样台之间产生电位差、测 定电流的机构,其控制使用控制系统109进行。 图3表示探本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种布线方法,其对试样照射带电粒子线而在该试样上进行布线加工,所述布线方法的特征在于,将离子液体配置于进行所述布线加工的布线轨道上,使所述带电粒子线的照射位置沿着该布线轨道移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.06 JP 2012-0226371. 一种布线方法,其对试样照射带电粒子线而在该试样上进行布线加工, 所述布线方法的特征在于, 将离子液体配置于进行所述布线加工的布线轨道上,使所述带电粒子线的照射位置沿 着该布线轨道移动。2. 根据权利要求1所述的布线方法,其特征在于, 向所述试样上滴下所述离子液体,对该滴下的离子液体照射所述带电粒子线。3. 根据权利要求1所述的布线方法,其特征在于, 将所述离子液体配置于用于配置所述试样的试样台上,使所述带电粒子线的照射位置 从配置有该离子液体的位置朝向所述试样移动。4. 一种带电粒子线装置,其具备: 带电粒子源; 用于配置被照射带电粒子线的试样的试样台; 使从该带电粒子源放出的带电粒子线的照射位置移动的移动机构, 所述带电粒子线装置的特征在于,具备: 将离子液体向试样的一部分滴下的探针; 控制所述移动机构的控制装置。5. 根据权利要求4所述的带电粒子线装置,其特征在于, 所述控制装置以使所述照射位置随着时间的经过而依次移动的方式控制所述移动机 构。6. 根据权利要求5所述的带电粒子线装置,其特征在于, 所述控制装置以使一个照射位置与之后照射的照射位置重叠的方式使所述照射位置 移动。7. 根据权利要求4所述的带电粒子线装置,其特征在于, 所述移动机构是使所述带电粒子线的照射位置偏转的偏转器。8. 根据权利要求4所述的带电粒子线装置,其特征在于, 所述移动机构是用于使所述试样移动的试样工作台。9. 一种带电粒子线装置,其具备: 带电粒子源; 用于配置被照射带电粒子线的试样的试样台; 使从该带电粒子源放出的带电粒子线的照射位置移动的移动机...

【专利技术属性】
技术研发人员:桥本阳一朗中泽英子许斐麻美竹内秀一
申请(专利权)人:株式会社日立高新技术
类型:发明
国别省市:日本;JP

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