一种图案化薄膜的制备方法、显示基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种图案化薄膜的制备方法、显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，避免在对光刻胶层进行剥离的过程中，发生薄膜层的脱落。该图案化薄膜的制备方法包括在预设基板的表面上形成预设薄膜层；隔离层覆盖上述预设薄膜层；在隔离层的表面形成光刻胶层，通过构图工艺形成隔离层的图案；然后将未被隔离层覆盖的预设薄膜层去除，最后去除剩余的隔离层并将光刻胶层剥离，最终形成预设薄膜层的图案。

【技术实现步骤摘要】
一种图案化薄膜的制备方法、显示基板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种图案化薄膜的制备方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
透明导电薄膜是一种能够涂覆在具有高透光性的基板表面上的导电性薄膜。该薄膜同时具有良好的光学透明度和表面传导性，被广泛地应用在显示领域中。在透明导电薄膜中，铟锡氧化物(Indiumtinoxide，简称ITO)薄膜因具有优异的光学透明性和导电性而成为应用最广泛的材料。然而由于铟元素是稀有金属，资源的匮乏，且铟的氧化物有毒、不环保，因此迫切需要替代材料。目前，导电高分子、碳纳米管、银纳米线、金属纳米线等都是有望用于代替ITO的材料。相比较而言金属纳米线中的银纳米线因金属银卓越的化学性质稳定性和优异的导电性而得到了广泛的关注和研究。在现有技术中，一般采用半导体制程工艺来实现银纳米线的图案化，具体的，可以在以形成的银纳米线薄膜层的表面涂覆光刻胶，然后通过曝光、显影、刻蚀等构图工艺得到银纳米线图案。但由于银纳米线薄膜较薄，使用目前常规的光刻胶在剥离时有可能会发生银纳米线薄膜脱落，或者光刻胶在银纳米线膜层上残留的情况，从而严重影响产品质量。并且针对银纳米线薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案化薄膜的制备方法，其特征在于，包括：在预设基板的表面上形成预设薄膜层；在形成有上述结构的基板表面形成隔离层；在形成有上述结构的基板表面形成光刻胶层，并通过构图工艺形成所述隔离层的图案；在形成有上述结构的基板表面去除未被所述隔离层覆盖的所述预设薄膜层；在形成有上述结构的基板表面对所述光刻胶层进行剥离，并去除所述隔离层的图案，形成所述预设薄膜层的图案。

【技术特征摘要】
1.一种图案化薄膜的制备方法，其特征在于，包括：在预设基板的表面上形成预设薄膜层；在形成有上述结构的基板表面形成隔离层；在形成有上述结构的基板表面形成光刻胶层，并通过构图工艺形成所述隔离层的图案；在形成有上述结构的基板表面去除未被所述隔离层覆盖的所述预设薄膜层；在形成有上述结构的基板表面对所述光刻胶层进行剥离，并去除所述隔离层的图案，形成所述预设薄膜层的图案；构成所述预设薄膜层的材料为银纳米线。2.根据权利要求1所述的图案化薄膜的制备方法，其特征在于，所述去除所述隔离层的图案的方法包括湿法刻蚀。3.根据权利要求2所述的图案化薄膜的制备方法，其特征在于，构成所述隔离层的材料包括金属活泼性大于金属银的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李琳，唐琛，辛阳阳，常珊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11