沉积设备、有机发光显示设备及其制造方法技术

为了改善沉积层的特性，提供了一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备，所述沉积设备包括：沉积源，面对基板并排出沉积材料；图案化缝隙片，包括用于以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙并被设置成面对基板；框架，连接到图案化缝隙片；以及台阶，结合到框架，以支撑框架，其中，分离区域形成在框架和台阶之间。

【技术实现步骤摘要】
本申请要求于2013年3月29日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0034691号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
本专利技术的方面涉及一种沉积设备、一种制造有机发光显示设备的方法以及一种有机发光显示设备。
技术介绍
包括显示设备的电子装置可以包括多个薄膜。这里，可以通过沉积工艺形成各种薄膜。 具体地，具有设定图案或预定图案的掩模可以用于形成期望图案的沉积层。然而，不容易将这样的掩模与基板精确地对准，因此，在改善沉积层的特性方面存在限制。 同时，显示设备已经被可以是便携式的薄平板显示设备代替。在平板显示设备中，有机发光显示设备是自发射显示设备，因其视角宽、对比度高以及响应速度快而被认为是下一代显示设备。 有机发光显示设备包括中间层、第一电极和第二电极。中间层包括有机发射层，当向第一电极和第二电极施加电压时，有机发射层发射可见光线。 可以通过利用沉积工艺形成有机发光显示设备中的中间层和其他薄膜。为了利用沉积工艺在基板上形成特定图案，通常使用沉积掩模。 通过沉积工艺利用沉积掩模不容易形成精细且精确的图案。特别地，随着有机发光显示设备变得更大，不容易将基板与沉积掩模彼此精确地对准，因此，难于控制沉积层的精确图案。 即，改善有机发光显示设备中的沉积层的特性方面存在限制。
技术实现思路
根据本专利技术实施例的方面，提供了一种能够改善沉积层的特性的沉积设备一种制造有机发光显不设备的方法和一种有机发光显不设备。 根据本专利技术的实施例，一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备包括:沉积源，面对基板并被构造成排出沉积材料；图案化缝隙片，面对基板并包括用于以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙；框架，接合到图案化缝隙片；以及台阶，结合到框架，以支撑框架，其中，分离区域形成在框架和台阶之间。 分离区域可以在框架和台阶之间形成为邻近于框架和台阶的结合区域。 框架和台阶可以通过多个结合构件彼此结合，分离区域可以是在框架和台阶之间通过所述多个结合构件形成的空间。 每个结合构件可以形成为球形。 每个结合构件可以为焊球。 分离区域可以在框架的邻近于结合到台阶的表面的表面中形成为凹槽。 分离区域可以在台阶的邻近于结合到框架的表面的表面中形成为凹槽。 台阶可以在被接合到框架的状态下操作，使图案化缝隙片相对于基板对准。 台阶可以包括:第一台阶，被构造成使图案化缝隙片沿着第一方向和与第一方向交叉的第二方向移动；以及第二台阶，位于第一台阶上以结合到框架，以使图案化缝隙片沿着与第一方向和第二方向垂直的第三方向移动。 一个或多个杂质可以设置在分离区域中。 所述沉积设备还可以包括:屏蔽构件，设置在沉积源和图案化缝隙片之间，其中，屏蔽构件形成为阻挡基板的至少一部分，并随基板移动。 所述沉积设备还可以包括:沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面，并包括多个沉积源喷嘴。 图案化缝隙片可以沿着至少一个方向比基板小。 多个沉积源喷嘴可以沿着第一方向形成在沉积源喷嘴单元中，图案化缝隙片可以包括沿着第一方向布置的多个图案化缝隙，沉积设备还可以包括阻挡板组件，所述阻挡板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向布置的多个阻挡板，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。 所述多个阻挡板中的每个可以沿着基本垂直于第一方向的第二方向延伸。 阻挡板组件可以包括具有多个第一阻挡板的第一阻挡板组件和具有多个第二阻挡板的第二阻挡板组件。 所述多个第一阻挡板中的每个和所述多个第二阻挡板中的每个可以沿着基本垂直于第一方向的第二方向形成，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。 沉积源喷嘴单元可以包括沿着第一方向的多个沉积源喷嘴，图案化缝隙片可以包括沿着垂直于第一方向的第二方向布置的多个图案化缝隙。 所述沉积设备还可以包括:输送器单元，包括其上固定有基板的传送单元，传送单元被构造为当基板固定到传送单元上时移动，输送器单元包括:第一输送器单元，沿着第一方向输送传送单元；第二输送器单元，在完成沉积工艺之后将从传送单元去除基板的传送单元输送到第一方向的相反方向；加载单元，被构造成将基板固定在传送单元上；以及卸载单元，被构造成将已经对其执行完沉积工艺的基板与传送单元分离，其中，传送单元可以被构造为在第一输送器单元和第二输送器单元之间循环，固定在传送单元上的基板在传送单元被第一输送器单元输送的同时与图案化缝隙片分离。 第一输送器单兀和第二输送器单兀可以布置在彼此上方和下方。 所述沉积设备可以包括:室；以及多个沉积组件，所述多个沉积组件可以布置在加载单元和卸载单元之间的室中，每个沉积组件可以包括沉积源、图案化缝隙片、框架和台阶。 第一输送器单元和第二输送器单元可以设置在室中以穿过所述多个沉积组件。 第一输送器单元可以将传送单元顺序地输送到加载单元、沉积组件和卸载单元。 第二输送器单元可以将传送单元顺序地输送到卸载单元、沉积组件和加载单元。 所述沉积设备还可以包括:照相机，用于检测基板相对于图案化缝隙片的相对位置。 所述沉积设备还可以包括:传感器，用于测量基板和图案化缝隙片之间的间隙。 根据本专利技术的另一实施例，提供了一种通过利用沉积设备制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括:在加载单元中将基板固定在传送单元上；经由被安装成穿过室的第一输送器单元将其上固定有基板的传送单元传送到室中；在设置在室内的沉积组件与基板彼此分隔开间隙的状态下，在基板和沉积组件中的一个相对于另一个移动的同时，通过在基板上沉积从沉积组件排出的沉积材料形成沉积层；在卸载单元中将其上执行有沉积工艺的基板与传送单元分离；以及使与基板分离的传送单元经由被构造成穿过室的第二输送器单元输送到加载单元，其中，沉积组件可以包括沉积源、图案化缝隙片、接合到图案化缝隙片的框架和结合到框架的台阶，基板和图案化缝隙片通过利用台阶彼此对准，其中，在框架和台阶之间形成分离区域。 沉积设备可以包括多个沉积组件，在基板穿过所述多个沉积组件的同时在基板上连续地执行沉积，每个沉积组件可以包括沉积源、图案化缝隙片、框架和台阶。 所述多个沉积组件中的每个可以排出彼此分离的沉积材料。 传送单元可以在第一输送器单元和第二输送器单元之间循环。 传送单兀可以在室中以与第一输送器单兀非接触的方式被输送。 根据本专利技术的另一方面，提供了一种有机发光显示设备，所述有机发光显示设备包括:基板；第一电极，在基板上；中间层，在第一电极上并包括至少包括有机发射层的有机层；以及第二电极 ，位于中间层上，其中，形成在基板上的至少一层可以通过沉积工艺形成，并且具有与沉积空间的中心距离越远的斜边大于更靠近沉积空间的中心的斜边的结构。 通过基板上的沉积工艺形成的沉积层可以具有线性图案。 彼此分离的多个沉积层可以通过沉积工艺形成在基板上，随着所述多个沉积层中的沉积层可以远离沉积空间的中心，远离沉积空间的中心的侧面的斜边逐渐增加。 彼此分离的多个沉积层可以通过沉积工艺形成在基板上，设置在所述多个沉积层的中心处的沉积层在相对的侧面可以具有彼此基本相同的斜边。 彼此分离的多个沉积层可以通过沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备，所述沉积设备包括：沉积源，面对基板并被构造成排出沉积材料；图案化缝隙片，面对基板并包括被构造成以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙；框架，接合到图案化缝隙片；以及台阶，结合到框架，以支撑框架，其中，分离区域形成在框架和台阶之间。

【技术特征摘要】
2013.03.29 KR 10-2013-00346911.一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备，所述沉积设备包括: 沉积源，面对基板并被构造成排出沉积材料； 图案化缝隙片，面对基板并包括被构造成以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙； 框架，接合到图案化缝隙片；以及 台阶，结合到框架，以支撑框架， 其中，分离区域形成在框架和台阶之间。2.如权利要求1所述的沉积设备，其中，分离区域在框架和台阶之间形成为邻近于框架和台阶的结合区域。3.如权利要求1所述的沉积设备，其中，框架和台阶通过多个结合构件彼此结合，分离区域是在框架和台阶之间通过所述多个结合构件形成的空间。4.如权利要求3所述的沉积设备，其中，每个结合构件形成为球形。5.如权利要求3所述的沉积设备，其中，每个结合构件为焊球。6.如权利要求1所述的沉积设备，其中，分离区域在框架的邻近于结合到台阶的表面的一部分的表面中形成为凹槽。7.如权利要求1所述的沉 积设备，其中，分离区域在台阶的邻近于结合到框架的表面的一部分的表面中形成为凹槽。8.如权利要求1所述的沉积设备，其中，台阶在被接合到框架的状态下操作，使图案化缝隙片相对于基板对准。9.如权利要求1所述的沉积设备，其中，台阶包括: 第一台阶，被构造成使图案化缝隙片沿着第一方向和与第一方向交叉的第二方向移动；以及 第二台阶，位于第一台阶上并结合到框架，以使图案化缝隙片沿着与第一方向和第二方向垂直的第三方向移动。10.如权利要求1所述的沉积设备，其中，一个或多个杂质设置在分离区域中。11.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括:屏蔽构件，设置在沉积源和图案化缝隙片之间，其中，屏蔽构件形成为阻挡基板的至少一部分，并随基板移动。12.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括:沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面，并包括多个沉积源喷嘴。13.如权利要求1所述的沉积设备，其中，图案化缝隙片沿着至少一个方向比基板小。14.如权利要求12所述的沉积设备，其中，沉积源喷嘴沿着第一方向布置在沉积源喷嘴单元中，图案化缝隙片包括沿着第一方向布置的多个图案化缝隙，沉积设备还包括阻挡板组件，所述阻挡板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向布置的多个阻挡板，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成多个沉积空间。15.如权利要求14所述的沉积设备，其中，所述多个阻挡板中的每个沿着基本垂直于第一方向的第二方向延伸。16.如权利要求14所述的沉积设备，其中，阻挡板组件包括具有多个第一阻挡板的第一阻挡板组件和具有多个第二阻挡板的第二阻挡板组件。17.如权利要求16所述的沉积设备，其中，所述多个第一阻挡板中的每个和所述多个第二阻挡板中的每个沿着基本垂直于第一方向的第二方向形成，从而将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分成所述多个沉积空间。18.如权利要求12所述的沉积设备，其中，沉积源喷嘴单元包括沿着第一方向布置的多个沉积源喷嘴，图案化缝隙片包括沿着垂直于第一方向的第二方向布置的多个图案化缝隙。19.如权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括: 输送器单元，包括其上固定有基板的传送单元，传送单元被构造为当基板固定到传送单兀上时移动，输送器单兀包括:第一输送器单兀，沿着第一方向输送传送单兀；第二输送器单元，在完成沉积工艺之后将从传送单元去除基板的传送单元输送到第一方向的相反方向； 加载单元，被构造成将基板固定在传送单元上；以及 卸载单元，被构造成将已经对其执行完沉积工艺的基板与传送单元分离， 其中，传送单元被构造为在第一输送器单元和第二输送器单元之间循环，固定在传送单元上的基板在传送单元被第一输送器单元输送的...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔云铉，金京汉，崔明焕，吴京原，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR