【技术实现步骤摘要】
天一格
本专利技术涉及一种教学用具,更具体地说是涉及一种书法教学用格。
技术介绍
目前学习书法的人越来越多,学习者虽然勤加用功,但是收效甚微,即使对临也难以临像原帖,一旦离开字帖便回归学前面目;现有的书法用格如田字格、米字格等对汉字的造型的参考作用不大,笔画在格中的定位很难达到精确,对汉字笔画、偏旁、部首的位置比例关系也不能准确提示,更不利于学习者对汉字间架结构的掌握,有时还会起反作用,学习者往往在会格子中央横线的诱导,起笔过低,笔画写成水平,因而将字写在格子的下部,写成的汉字是踩在格子底线上的而不是悬在格子中间。
技术实现思路
本专利技术是为了克服现有格子的缺陷,为书法研究者、学习者提供一种能够准确提示汉字笔画起止、长度、角度、位置、比例关系,揭示汉字间架结构规律的书法教学用格。 【附图说明】 图1天一格绘制步骤I。图2天一格绘制步骤2。图3天一格绘制步骤3。图4天一格绘制步骤4。图5天一格绘制步骤5。图6天一格实线效果图。图7天一格虚线效果图。图8天一格应用实例I。图9天一格应用实例2。图中:bb2上横线;VW中横线;M202下横线;b4左上横定位点;b3右上横定位点;U左中横定位点;X右中横定位点;03右下角点。 【具体实施方式】 本专利技术通过下述技术方案实现:如图1所示,天一格,在一个正方形内实现,一个正方形AB⑶,点63、1在么8上,!^、J 在 CD 上,AG:GE:EI:IB=DH:HF:FJ:JC=5:3:3:5 ;点 a、b、c、d、e、f、g、h 在 GH 上,Ga:ab:be:cd:de:ef ...
【技术保护点】
一种天一格,其特征在于,一个正方形ABCD,AB、CD上设置三条线段GH、EF、IJ,所述GH、EF、IJ的端点将AB、CD分别分成4份,其比例为AG:GE:EI:IB=DH:HF:FJ:JC约为5:3:3:5。
【技术特征摘要】
1.一种天一格,其特征在于,一个正方形AB⑶,AB、⑶上设置三条线段GH、EF、IJ,所述GH、EF、IJ的端点将ABXD分别分成4份,其比例为AG:GE:EI:IB=DH:HF:FJ:JC约为5:3:3:5ο2.根据权利要求1所述天一格,其特征在于,所述GH、EF、IJ上设置三条与水平线成10-15度角向右上倾斜的横线:上横线、中横线、下横线;所述上横线位于GH、IJ间;所述中横线位于GH、IJ上,并向两端延伸,一端向AD线段倾斜延伸,另一端在从位于IJ相交处向水平方向延伸;所述下横线位于GH、IJ上,并向两端延伸,一端向AD线段倾斜延伸,另一端在于EF相交处向水平方向延伸;上横线、中横线的间距与中横线、下横线的间距比为1:2 ;设正方形AB⑶边长为20个单位,则在线段GH上AB到上横线,上横线到中横线,中横线到下横线,下横线到⑶的距离之比约为5:4:8:3 ;上横线、中横线、下横线长度之比约为8:14:18。3.根据权利要求2所述天一格,其特征在于,所述中横线、下横线之间,EF与中横线交点处分别向Z ADC,Z BCD延伸两条线段:撇参照线、捺参照线;所述撇...