一种显影方法及显影装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显影方法及显影装置，该方法包括：控制基板相对显影机台向第一方向倾斜第一角度θ1，控制多个喷嘴在与基板平行的第一平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第二方向倾斜第二角度θ2，控制多个喷嘴在与基板平行的第二平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第三方向倾斜第三角度θ3，控制多个喷嘴在与基板平行的第三平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，控制多个喷嘴在与基板平行的第四平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影。上述方案可提高显影后的光刻图形的线宽均匀性。

【技术实现步骤摘要】
-种显影方法及显影装置
本专利技术涉及显影
，尤其涉及一种显影方法及显影装置。
技术介绍
在TFT-IXD (薄膜场效应晶体管液晶显示器）生产过程中，涂布在玻璃基板上的光 刻胶经曝光后需要进行显影才能得到需要的光刻图形。 如图1所示，现有技术中，应用于高世代产线的一种显影方法，玻璃基板2以倾角 Θ沿水平放置的显影机台1运动，玻璃基板2与显影机台1之间的倾角Θ始终保持不变， 多个喷嘴3均匀地固定于平板形的喷嘴架4上，喷嘴架4设置于玻璃基板2的上方，且喷嘴 架4与玻璃基板2平行。显影过程中，显影液被喷嘴3喷洒到玻璃基板2上，其中喷洒到玻 璃基板2的上侧边即a侧边的显影液与光刻胶发生化学反应后浓度降低，且浓度降低的显 影液向玻璃基板2的下侧边即b侧边流动，使得直接喷洒到玻璃基板2的b侧边的显影液被 稀释，从而导致与玻璃基板2的b侧边的光刻胶发生化学反应的显影液浓度降低。采用该 种显影方法制备的光刻图形的线宽不均匀，由玻璃基板2的a侧边到其b侧边，光刻图形的 线宽逐渐变宽。对于线宽均匀性要求较高的膜层，就需一种均匀性更好的显影方法；此外， 目前的显影方法不能实现局部调节线宽显影。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种显影方法及显影装置，可以提高显影之后获得的光刻图 形的线宽均匀性，实现局部调节线宽显影。 本专利技术所提供的技术方案如下： 一种显影方法，包括如下步骤： 控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一侧边 向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均 匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述 基板上进行显影，显影时间为h ; 控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ2，使所述基板的与所述第 一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述 基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显 影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2 ; 控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二 侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多 个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷 洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 3; 控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四 侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多 个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷 洒到所述基板上进行显影，显影时间为t4。 进一步的，所述方法还包括： 重复所述步骤控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使所述基 板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方 的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀 地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为 tl ; 控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度Θ2，使所述基板的与所述第 一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述 基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显 影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2; 控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二 侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多 个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷 洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 3; 控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度Θ4，使所述基板的所述第四 侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多 个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷 洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 4。。 进一步的，所述步骤控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使 所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基 板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影 液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t/'、 所述步骤控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度Θ 2，使所述基板的 与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设 置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个 喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2 、 所述步骤控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的 所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板 上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液 均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 3、 以及，所述步骤控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度Θ4，使所述 基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所 述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将 显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 4依次执行。 进一步的，所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3及所述第四角 度0 4均为大于0°、小于90°的锐角。 进一步的，所述第一角度、所述第二角度θ2、所述第三角度θ3及所述第四角 度θ 4相等。 进一步的，所述显影时间h、所述显影时间t2、所述显影时间t3及所述显影时间t 4 相等。 -种显影装置，包括： 用于承载基板的显影机台； 用于喷洒显影液的多个喷嘴，多个喷嘴位于所述显影机台的上方； 第一基板控制机构，用于控制所述基板相对于所述显影机台向第一方向倾斜第一 角度Θ i，并维持倾斜时间为显影时间h，以使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边 位置相对的第二侧边向下进行显影； 第二基板控制机构，用于控制所述基板相对于所述显影机台向第二方向倾斜第二 角度Θ 2，并维持倾斜时间为显影时间t2，以所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向 上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下进行显影； 第三基板控制机构，用于控制所述基板相对于所述显影机台向第三方向倾斜第三 角度Θ 3，并维持倾斜时间为显影时间t3，以使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二 侧边位置相对的所述第一侧边向下进行显影； 第四基板控制机构，用于控制所述基板相对于所述显影机台向第四方向倾斜第四 角度Θ 4，并维持倾斜时间为显影时间t4，以使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四 侧边位置相对的所述第三侧边向下进行显影； 第一喷嘴控制机构，用于在所述基板相对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影方法，其特征在于，包括如下步骤：控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ1，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t1；控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ2，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t2；控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ3，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t3；控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t4。...

【技术特征摘要】
1. 一种显影方法，其特征在于，包括如下步骤： 控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一侧边向上、 与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列 在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上 进行显影，显影时间为t 1; 控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度Θ 2，使所述基板的与所述第一侧 边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板 上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液 均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2; 控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二侧边 向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷 嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到 所述基板上进行显影，显影时间为t 3; 控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四侧边 向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷 嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到 所述基板上进行显影，显影时间为t 4。2. 根据权利要求1所述的显影方法，其特征在于，所述方法还包括： 重复所述步骤控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使所述基板的 第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多 个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷 洒到所述基板上进行显影，显影时间为h ; 控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度Θ 2，使所述基板的与所述第一侧 边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板 上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液 均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2 ; 控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述第二侧边 向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷 嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到 所述基板上进行显影，显影时间为t 3 ; 控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板的所述第四侧边 向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷 嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到 所述基板上进行显影，显影时间为t 4。。3. 根据权利要求1所述的显影方法，其特征在于， 所述步骤控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度Θ i，使所述基板的第一 侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷 嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到 所述基板上进行显影，显影时间为t/'、 所述步骤控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度Θ 2，使所述基板的与所 述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于 所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴 将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 2 、 所述步骤控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度Θ 3，使所述基板的所述 第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方 的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀 地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t 3、 以及，所述步骤控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ4，使所述基板 的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基 板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影 液均匀地...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯贺，吴洪江，王耸，杨同华，董明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11