本发明专利技术的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。【专利说明】磁性退火装置
本专利技术要求以2013年3月21日提出申请的日本出愿特愿第2013 - 058324号和 2013年3月21日提出申请的日本出愿特愿第2013 - 058327号为基础的优先权，并将其公 开内容全部引入此。 本专利技术涉及一种磁性退火装置。
技术介绍
近年来，作为下一代半导体存储器设备，作为非易失性存储器之一的MRAM (Magnetic Random Access Memory :磁性随机存取存储器）备受关注。MRAM是通过在强磁 场中对形成在例如作为半导体晶圆（以后，称作晶圆）的被处理体上的磁性体膜进行热处理 (磁性退火)、而表现其磁特性来制造的。 例如在日本特开2004 - 263206号中，公开了一种使用了螺线管型的超导磁体作 为用于磁性退火的磁场产生部件的、设置面积比较小的磁性退火装置。
技术实现思路
本专利技术的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理 体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，其中，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于 收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳 容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被 处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。 上述
技术实现思路
只是单纯用于说明，在任意方式中意图均不是进行限制。除了上述 说明的方式、实施例以及特征以外，追加的方式、实施例以及特征通过参照附图和以下详细 的说明也能够变明确。 【专利附图】【附图说明】 图1是晶圆的载体的一例的概略立体图。 图2是磁性退火装置的一例的概略俯视图。 图3是磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。 图4是磁性退火装置的晶圆输送区域附近的概略俯视图。 图5是用于说明保持于说明晶圆舟皿内的晶圆的配置例的概略图。 图6是用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的一例的概略图。 图7是用于说明由晶圆输送机构进行的晶圆输送的其他例的概略图。 图8是磁性退火装置的另一例的概略俯视图。 图9是磁性退火装置的载体输送区域附近的概略纵剖视图。 图10是磁性退火装置的晶圆输送区域附近的概略俯视图。 图11是用于说明晶圆输送区域内的气流的概略图。 【具体实施方式】 在以下详细说明中，参照形成了说明书的一部分的添加的附图。详细的说明、附图 以及权利要求书所记载的说明的实施例的意图并不在于进行限制。在不脱离在此所示的本 专利技术的思想或范围的前提下能够使用其他实施例，而且能够进行其他变形。 晶圆的磁性退火处理公知有向与晶圆的主表面垂直的方向施加磁场的垂直磁化 方式和向与晶圆的主表面平行的方向施加磁场的面内磁化方式这两种方式。 当前，两种方式的磁性退火处理分别利用单独的装置来实施。今后，哪一种方式的 磁性退火处理成为主流还是不明确的，但是要求一种能够利用同一磁性退火装置来实施两 种方式的磁性退火的磁性退火装置。 针对上述问题，目的在于提供一种能够实施垂直磁化方式和面内磁化方式这两种 方式的磁性退火处理的磁性退火装置。 本专利技术的一技术方案的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对 保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器， 其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上 述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件，上述被处理体输送机构能够将 上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体输送机构具有用于保持上述被处理体的水 平延伸的臂部，上述臂部能够以上述臂部延伸的方向为轴线转动。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体输送机构利用卡盘机构来保持上述被处理 体。 在上述磁性退火装置中，上述磁性退火装置还具有用于进行上述被处理体的对位 的对准器，上述被处理体输送机构将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述对准 器，将进行对位后的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体为晶圆，上述收纳容器为F0UP，上述F0UP 能够收纳25张上述晶圆，上述被处理体保持部件能够保持100张上述晶圆。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够以上述晶圆的主表面为铅垂 的状态堆叠100张上述晶圆。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够保持两个以上述晶圆的主表 面为水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的堆叠体。 在上述磁性退火装置中，上述被处理体保持部件能够堆叠以上述晶圆的主表面为 水平的状态堆叠50张上述晶圆而成的第1堆叠体，并且能够堆叠以上述晶圆的主表面铅垂 的状态堆叠50张上述晶圆而成的第2堆叠体。 在本专利技术的其他技术方案的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有 被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送上述被处理体的被处理体输送区域， 在上述收纳容器输送区域内配置有：第1载置台，其用于载置被输入到该磁性退火装置的 收纳容器；多个第2载置台，其用于载置上述收纳容器，以使得经由上述开闭门从上述收纳 容器输送区域向上述被处理体输送区域气密地输送上述被处理体；保存部，其用于保存多 个上述收纳容器；以及收纳容器输送机构，其用于在上述第1载置台、上述第2载置台以及 上述保存部之间输入、输出上述收纳容器；在上述被处理体输送区域内配置有：对准器，其 用于进行上述被处理体的对位；被处理体保持部件，其能够保持进行上述对位后的上述被 处理体；被处理体输送机构，其用于在载置于上述第2载置台的收纳容器、上述对准器以及 上述被处理体保持部件之间输送上述被处理体；加热部件，其用于对上述被处理体进行加 热；磁场产生部件，其用于对保持于上述被处理体保持部件的被处理体施加磁场并具有卧 式超导磁体；以及移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持部件的上述被处理体移载 到上述磁场产生部件内；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并 且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。 本专利技术的另一其他技术方案的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生 部件，对被处理体进行磁性退火处理，其中，该磁性退火装置包括：被处理体保持部件，其能 够保持上述被处理体；被处理体输送机构，其用于在收纳上述被处理体的收纳容器与上述 被处理体保持部件之间输送上述被处理体；移载机构，其用于将保持于上述被处理体保持 部件的上述被处理体移载到上述磁场产生部件内；洁净气体导入部件，其用于导入洁净气 体；以及排气部件，其用于排出洁净气体；上述洁净气体的由上本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁性退火装置，其使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，其中，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小野裕司，石井亨，斋藤诚，小原美鹤，竹内靖，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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