【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了一种狭缝电极、阵列基板及显示装置,用以提供一种新型的狭缝电极,以解决现有狭缝电极的工艺能力较低的问题。本技术提供的狭缝电极包括:至少一个狭缝电极单元,所述狭缝电极单元包括多个条状电极,相邻两个条状电极之间具有狭缝;其中,每一条状电极具有一设定平均宽度,所述狭缝电极单元中的至少两个条状电极的平均宽度不相等。【专利说明】一种狭缝电极、阵列基板及显示装置
本技术涉及显示
,尤其涉及一种狭缝电极、阵列基板及显示装置。
技术介绍
目前,薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-1XD)的显示模式主要有扭曲向列(Twisted Nematic, TN)模式、垂直取向(VerticalAlignment, VA)模式、平面方向转换(In-Plane-Switching, IPS)模式和高级超维场转换(ADvanced Super Dimens1n Switch, ADS)模式或其改进技术等。无论哪一种模式的薄膜晶体管液晶显示器,显示原理为像素电极和公共电极之间形成 ...
【技术保护点】
一种狭缝电极,其特征在于,包括:至少一个狭缝电极单元,所述狭缝电极单元包括多个条状电极,相邻两个条状电极之间具有狭缝;其中,每一条状电极具有一设定平均宽度,所述狭缝电极单元中的至少两个条状电极的平均宽度不相等。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:王强涛,崔贤植,方正,田允允,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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