一种掩膜板盒制造技术

技术编号:10369953 阅读:81 留言:0更新日期:2014-08-28 12:32
本发明专利技术提供一种掩膜板盒,包括:用于容置掩膜板的盒体结构;及,能够吸附所述盒体结构内的掩膜板表面上的污染颗粒,以清洁掩膜板的清洁机构,所述清洁机构设置于所述盒体结构上。本发明专利技术所提供的掩膜板盒上设置有清洁机构,可以不必开启掩膜板盒的盒盖,直接利用其清洁机构进行掩膜板的清洁工作,具有操作简便、清除污染颗粒效率高等优点,同时,可节省大量的人力成本。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板盒
本专利技术涉及显示面板制造
,尤其涉及一种掩膜板盒。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,简称TFT-LCD)及有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode,简称OLED)的制造过程中,使用掩膜板(Mask)进行掩膜曝光工艺是非常重要的核心工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品良率的关键部分。由于掩膜曝光工艺对污染很敏感,需要严格控制工艺环节的洁净度,对掩膜板的表面存在污染颗粒(Particle)需要严格管控,通常掩膜板需要存放于掩膜盒中,掩膜板盒为全封闭式盒体结构,可以减少外界环境的污染颗粒对掩膜板污染。但是随着掩膜板使用次数增加,掩膜板在掩膜曝光工艺中还是不可避免的会被污染。目前,TFT-LCD生产过程中所使用的掩膜板盒没有清洁掩膜板的功能,当发生掩膜板颗粒污染(MaskParticle)时,往往需要至少两个操作人员到生产现场进行掩膜板清洁(MaskCleaning)。清洁时,需要将掩膜板盒的盒盖(CaseCover)开启,在将盒盖开启、闭合的过程本文档来自技高网...
一种掩膜板盒

【技术保护点】
一种掩膜板盒,其特征在于,包括:用于容置掩膜板的盒体结构;及,能够吸附所述盒体结构内的掩膜板表面上的污染颗粒,以清洁掩膜板的清洁机构,所述清洁机构设置于所述盒体结构上。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板盒,其特征在于,包括:用于容置掩膜板的盒体结构;及,能够吸附所述盒体结构内的掩膜板表面上的污染颗粒,以清洁掩膜板的清洁机构,所述清洁机构设置于所述盒体结构上;所述清洁机构包括:能够在盒体结构上移动,以移动至所述盒体结构内的掩膜板的表面上预定位置处的吸附部件,所述吸附部件的吸附面朝向所述盒体结构内的掩膜板的表面设置;设置于所述盒体结构上的导轨,所述吸附部件设置于所述导轨上,并能够沿所述导轨移动;及,用于驱动所述吸附部件沿所述导轨移动的驱动单元。2.根据权利要求1所述的掩膜板盒,其特征在于,所述驱动单元位于所述盒体结构外,所述吸附部件伸出所述盒体结构外,与所述驱动单元连接;所述掩膜板盒还包括:用于封闭所述吸附部件与所述盒体结构之间形成的空隙,以与所述盒体结构配合阻止外界污染进入所述盒体结构内的封闭结构。3.根据权利要求2所述的掩膜板盒,其特征在于,所述导轨包括:沿盒体结构内的掩膜板的长度方向延伸,以使所述吸附部件沿所述掩膜板的长度方向移动的移动通槽,所述移动通槽设置于所述盒体结构的至少一侧面上;所述吸附部件自所述移动通槽伸出所述盒体结构外;所述封闭结构设置于所述移动通槽上,能够在所述吸附部件移动过程中,封闭所述移动通槽的所述吸附部件之外的槽体部分,以与所述盒体结构配合阻止外界污染进入所述盒体结构内。4.根据权利要求3所述的掩膜板盒,其特征在于,所述吸附部件包括:能够在所述盒体结构内的掩膜板的宽度方向上从掩膜板的一侧延伸至掩膜板的另一侧的真空吸附管,所述真空吸附管可移动地设置于所述移动通槽内;及,用于为所述真空吸附管提供真空吸附动力的真空气体供应单元;其中,所述真空吸附管的内部中空,所述真空吸附管的面向掩膜板的吸附面上分布有...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱宏伟金基用许朝钦李向峰孙增标蔡春月
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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