用于测量有机薄膜的厚度的设备和有机薄膜沉积设备制造技术

本发明专利技术公开了一种用于测量有机薄膜的厚度的设备和具有该设备的有机薄膜沉积设备。所述用于测量有机薄膜的厚度的设备包括：基座；第一支撑件，结合到基座；第二支撑件，包括第一端和第二端，第一端连接到第一支撑件；检测器构件，连接到第二支撑件的第二端，以测量沉积在沉积目标上的有机薄膜的厚度；位置调节器构件，被构造为调节检测器构件的位置。

【技术实现步骤摘要】
用于测量有机薄膜的厚度的设备和有机薄膜沉积设备
本公开涉及一种用于测量有机薄膜的厚度的设备和具有该设备的有机薄膜沉积设备。
技术介绍
根据有机材料的量，电场发光元件可调节由在注入有机薄膜中的电子和空穴复合之后的剩余能量所产生的光的波长，并可实现全色彩。在真空的腔室中使有机薄膜沉积在基板上，并由晶体传感器测量沉积在基板上的有机薄膜的厚度。在
技术介绍
部分中公开的上述信息仅仅为增强对
技术介绍
的理解，因此，上述信息可能包含不是形成已被本国家的本领域普通技术人员所知的现有技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例提供一种能够延长晶体传感器的使用寿命的有机薄膜厚度测量单元和具有该有机薄膜厚度测量单元的有机薄膜沉积设备。根据本专利技术的示例性实施例，一种用于测量有机薄膜的厚度的设备可包括:基座；第一支撑件，结合到基座；第二支撑件，包括连接到第一支撑件的第一端和第二端；检测器构件，连接到第二支撑件 的第二端，并被构造为测量沉积在沉积目标上的有机薄膜的厚度；位置调节器构件，被构造为调节检测器构件的位置。根据本专利技术的示例性实施例，位置调节器构件可包括:旋转驱动器，设置在第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测量有机薄膜的厚度的设备，所述设备包括：基座；第一支撑件，结合到基座；第二支撑件，包括第一端和第二端，其中，第一端连接到第一支撑件；检测器构件，连接到第二支撑件的第二端，并被构造为测量沉积在沉积目标上的有机薄膜的厚度；位置调节器构件，被构造为调节检测器构件的位置。

【技术特征摘要】
2013.02.22 KR 10-2013-00193891.一种用于测量有机薄膜的厚度的设备，所述设备包括: 基座; 第一支撑件，结合到基座； 第二支撑件，包括第一端和第二端，其中，第一端连接到第一支撑件； 检测器构件，连接到第二支撑件的第二端，并被构造为测量沉积在沉积目标上的有机薄膜的厚度； 位置调节器构件，被构造为调节检测器构件的位置。2.如权利要求1所述的设备，其中，位置调节器构件包括: 旋转驱动器，设置在第一支撑件上，并被构造为使第二支撑件绕第二支撑件的第一端旋转，从而调节第一支撑件和检测器构件之间的角度。3.如权利要求2所述的设备，其中，位置调节器构件还包括: 指示器面板，包括显示第一支撑件和第二支撑件之间的角度的第一指示刻度。4.如权利要求1所述的设备，其中，位置调节器构件包括: 线性运动驱动器，设 置在基座上，并被构造为沿垂直方向移动第一支撑件，从而调节检测器构件的高度。5.如权利要求4所述的设备，其中，第一支撑件包括显示第一支撑件至基座的相对高度的第二指示刻度。6.一种用于测量有机薄膜的厚度的设备，所述设备包括: 基座； 第...

【专利技术属性】
技术研发人员：李润宰，崔永默，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR