积层体及其制造方法、以及底层形成用组合物技术

本发明专利技术的目的是提供一种金属层的密接性优异、金属层表面的净化性也优异的积层体的制造方法。本发明专利技术的积层体的制造方法包括：底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子；催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液与底层接触，而在底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及镀敷步骤，对提供了镀敷催化剂或其前驱物的底层进行镀敷，而在底层上形成金属层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】积层体及其制造方法、以及底层形成用组合物
本专利技术涉及一种具有金属层的积层体及其制造方法、以及该方法所使用的底层形成用组合物。
技术介绍
目前，在绝缘性基板的表面形成金属图案的配线的金属配线基板，广泛用于电子零件或半导体元件。该金属配线基板的制造方法主要使用“减成法(subtractive process) ”。该减成法是如下的方法:在形成于基板表面的金属层上，设置通过光化射线的照射而感光的感光层，将该感光层成像曝光，然后进行显影而形成光阻图像(resist image)，接着将金属层蚀刻而形成金属图案，最后将光阻图像剥离。另外，作为下一代的金属配线基板的制造方法，主要使用“半加成法(sem1-additive process)”。该半加成法是如下的方法:在形成于基板表面的无电镀敷金属层上，设置通过光化射线的照射而感光的感光层，将该感光层成像曝光，然后进行显影通过形成光阻图像，在未形成光阻图像的区域形成电镀而成的金属层，接着，将光阻图像剥离后，将无电镀敷金属层的膜厚部分蚀刻而形成金属图案的方法。在通过这些方法而得的金属图案中，由于通过在基板表面设置凹凸而产生的锚定效果(anchor effect),而表现出基板与金属层之间的密接性。因此，由于所得的金属图案的基板界面部的凹凸，而有用作金属配线时的高频特性变差的问题。另外为了对基板表面进行凹凸化处理，而需要利用铬酸等强酸对基板表面进行处理，因此也有为了获得金属层与基板的密接性优异的金属图案，而需要繁杂的步骤的问题。作为解决该问题的手段，专利文献I中提出在绝缘性基板的表面涂布包含丙烯腈丁二烯橡胶(acrylonitrile butadiene rubber, NBR)的无电镀敷用底层粘接剂的方法。[现有技术文献][专利文献][专利文献I]日本专利特开昭62-250086号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题另一方面，近年来，为了应对电子设备的小型化、高功能化的要求，而在印刷配线板等中进行配线的进一步微细化及高集成化。随之要求基板与金属层的密接性的进一步提闻。此外，将金属层制成微细配线时，维持其表面的净化性成为重要的课题。特别是若在金属层表面存在包含构成金属层的金属离子以外的其他成分的异物等，则在将该金属层图案化而形成微细配 线时，产生配线的尺寸精度降低、随之导致印刷配线板自身的性能降低的问题。本专利技术人等人参照专利文献I所揭示的专利技术，使用包含NBR的无电镀敷用底层粘接剂制造具有金属层的积层体。然而可知，所得的金属层的密接性及表面的净化性无法满足近来所要求的水平。本专利技术鉴于上述实际情况而成，目的是提供一种金属层的密接性优异、金属层表面的净化性也优异的积层体及其制造方法。另外，本专利技术的目的还在于提供一种该积层体的制造方法中所使用的底层形成用组合物。解决问题的技术手段本专利技术人等人对上述课题进行努力研究，结果发现，通过使用特定粒径的金属氧化物粒子形成底层，并且使用碱性镀敷催化剂液，而可达成上述目的。即发现，通过以下所示的手段可达成上述目的。(I) 一种积层体的制造方法，其包括:底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子的底层；催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液、与上述底层接触， 而在上述底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及镀敷步骤，对提供了上述镀敷催化剂或其前驱物的上述底层进行镀敷，而在上述底层上形成金属层。(2)如上述(I)所述的积层体的制造方法，其中上述金属氧化物粒子的平均粒径为IOOmn以下。(3)如上述(I)或(2)所述的积层体的制造方法，其中上述底层中的上述金属氧化物粒子的含量，相对于上述聚合物与上述金属氧化物粒子的合计质量为25质量％~45质量％。(4)如上述(I)至(3)中任一项所述的积层体的制造方法，其中上述聚合物是进一步具有含有相互作用性基的单元的聚合物。(5)如上述(I)至(4)中任一项所述的积层体的制造方法，其中上述聚合物是丙烯腈与丁二烯的共聚物或其氢化产物(hydrogenated product),上述金属氧化物粒子为氧化娃粒子(Silicaparticle)0(6)如上述(I)至(5)中任一项所述的积层体的制造方法，其进一步包括:将上述金属层蚀刻为图案状的步骤。(7) 一种印刷配线基板，其具有通过如上述(I)至(6)中任一项所述的制造方法而制造的积层体。(8) 一种底层形成用组合物，其包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子，且由上述底层形成用组合物而形成的底层用于与包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液接触。(9)如上述(8)所述的底层形成用组合物，其中上述金属氧化物粒子的平均粒径为IOOmn以下。(10)如上述(8)或(9)所述的底层形成用组合物，其中上述金属氧化物粒子的含量，相对于上述聚合物与上述金属氧化物粒子的合计质量为25质量％~45质量％。(11)如上述⑶至(10)中任一项所述的底层形成用组合物，其中上述聚合物是进一步具有含有相互作用性基的单元的聚合物。(12)如上述⑶至(11)中任一项所述的底层形成用组合物，其中上述聚合物是丙烯腈与丁二烯的共聚物或其氢化产物，上述金属氧化物粒子为氧化硅粒子。(13) 一种积层体，其具有底层、以及与上述底层邻接的金属层，该底层含有具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物及平均粒径为400mn以下的金属氧化物粒子，且对上述积层体的剖面进行扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM)观察时，自上述底层与上述金属层的界面起在上述底层侧方向的500nm的表层区域中存在金属部分，在上述表层区域中金属部分的面积率为5%以上。(14)如上述(13)所述的积层体，其中上述金属部分的面积率为5%~30%。(15)如上述(13)或(14)所述的积层体，其中上述聚合物是丙烯腈与丁二烯的共聚物或其氢化产物，上述金属氧化物粒子为氧化硅粒子。专利技术的效果根据本专利技术，可提供一种金属层的密接性优异、金属层表面的净化性也优异的积层体及其制造方法。另外，根据本专利技术，可提供一种在该积层体的制造方法中所使用的底层形成用组合物。【附图说明】图1中的(A)~(C)是分别依序表示本专利技术的积层体的制造方法中的各制造步骤的自基板至具有图案状金属层的积层体为止的示意性剖面图。图2是金属层表面上的异物的SEM照片。图3是实施例2中所得的积层体的剖面SEM图。图4是将实施例2中所得的积层体的剖面SM图进行分析而得的图。图5是实施例18中所得的配线基板的SEM照片。【具体实施方式】以下，对本专利技术的积层体及其制造方法、以及该制造方法中所使用的底层形成用组合物的优选实施方式进行说明。首先，对本专利技术的与现有技术比较的特征点进行详细叙述。本专利技术的特征在于:使用包含特定粒径的金属氧化物粒子的底层、与碱性镀敷催化剂液的方面。若使该底层与镀敷催化剂液接触，则镀敷催化剂或其前驱物容易自底层表面渗透至内部。因此，在镀敷处理时形成于底层上的金属层容易侵入至底层内部，结果金属层对底层的锚定效果更优异，金属层的密接性提高，并且还维持金属层表面的净化性。本专利技术的积层体的制造本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种积层体的制造方法，其包括：底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子的底层；催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液、与所述底层接触，而在所述底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及镀敷步骤，对提供了所述镀敷催化剂或其前驱物的所述底层进行镀敷，而在所述底层上形成金属层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.02.06 JP 2012-023388;2012.06.15 JP 2012-136081.一种积层体的制造方法，其包括: 底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子的底层； 催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液、与所述底层接触，而在所述底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及 镀敷步骤，对提供了所述镀敷催化剂或其前驱物的所述底层进行镀敷，而在所述底层上形成金属层。2.根据权利要求1所述的积层体的制造方法，其中所述金属氧化物粒子的平均粒径为IOOnm以下。3.根据权利要求1或2所述的积层体的制造方法，其中所述底层中的所述金属氧化物粒子的含量，相对于所述聚合物与所述金属氧化物粒子的合计质量为25质量％~45质量％。4.根据权利要求1至3中任一项所述的积层体的制造方法，其中所述聚合物是进一步具有含有相互作用性基的单元的聚合物。5.根据权利要求1至4中任一项所述的积层体的制造方法，其中所述聚合物是丙烯腈与丁二烯的共聚物或其氢化产物，所述金属氧化物粒子为氧化硅粒子。6.根据权利要求1至5中任一项所述的积层体的制造方法，其进一步包括:将所述金属层蚀刻为图案状的步骤。7.一种印刷配线基板，其具有通过根据权利要求1至6中任一项所述的制造方法而制造的...

【专利技术属性】
技术研发人员：安居院绫子，塚本直树，河野贵胤，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP