【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种提高大气压条件下等离子体射流阵列空间均匀性的方法。
技术介绍
大气压下等离子体射流放电主要通过流动的工作气体与电场的相互作用完成。首先，在同轴状放电空间通入流动的工作气体。然后在电极上施加驱动电压，激发放电空间内工作气体电离，并产生大量的等离子体。最后，这些等离子体在气流的作用下从放电空间喷出，产生等离子体射流形式的放电。等离子体射流具有结构简单、成本低廉、可控性强、灵活性好、无空间限制、能够在放电区域之外形成稳定的等离子体等优点，近年来被广泛应用在绝缘材料表面改性、热敏感生物材料处理、杀菌灭活和生物医学等领域。现阶段采用的等离子射流一般为针状或管状结构，这种结构的单根射流处理面积较小(通常不超过lcm2)，很难在大规模应用中得到使用。等离子体射流阵列被视为能够克服单根等离子体射流这一缺点的一个有效的解决方案。研究人员尝试使用多根等离子体射流组成一维或二维阵列模式来增大处理面积。但是，由于受到等离子体射流相互之间的影响，等离子体射流阵列很难在空间保持均匀。等离子体射流阵列放电不均匀，已经成为实现其工业应用的瓶颈，亟待找到合适的方法解决。...
【技术保护点】
一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003～0.007L/min。
【技术特征摘要】
1.一种提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于在大气压等离子体射流阵列的工作气体纯氦气体中添加氧气，氦气流速为3L/min，氧气流速为0.003?0.007L/min。2.根据权利要求1所述的提高大气压等离子体射流阵列空间均匀性的方法，其特征在于所述方法的操作步骤如下: (1)打开所述的大气压等离子体...
【专利技术属性】
技术研发人员：章程，邵涛，杨文晋，周中升，
申请(专利权)人：中国科学院电工研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11
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