检查结晶化的装置和方法制造方法及图纸

用于检查结晶化的装置包括：衬底，包括半导体层，半导体层包括彼此分离的多个结晶化区域；平台，被配置为改变衬底的位置，衬底放置在平台上；摄影单元，被配置为获取与半导体层有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与半导体层有关的检查数据；以及控制单元，被配置为根据摄影单元所获取的图像数据输出与衬底的位置变化有关的变化数据。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求于2013年2月12日向韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2013-0014978号韩国专利申请的优先权，其全部内容通过弓I用并入本文。
以下描述涉及。
技术介绍
有机发光显示或液晶显示装置通常使用薄膜晶体管(TFT)来控制每一个像素的光发射或光发射强度。TFT包括半导体层、栅电极以及源/漏电极。半导体层通常可由通过使非晶硅结晶化而形成的多晶硅形成。使用上面形成有TFT的TFT衬底制造显示装置的传统方法包括在衬底上形成非晶硅层并将非晶硅层结晶化为多晶硅层。然而，传统的方法是复杂的并且需要花费大量成本和/或时间来使非晶硅层结晶化为多晶硅层并且接着检查结晶化。因此，期望提供一种装置和方法来减少所涉及的成本和/或时间。
技术实现思路
本专利技术的实施方式的一方面针对允许自动检查结晶化的半导体层的用于。根据本专利技术的一个实施方式，提供了一种用于检查结晶化的装置，该装置包括:平台，被配置为改变衬底的位置，该衬底放置在该平台上并且包括半导体层，该半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域；摄影单元，被配置为获取与该半导体层有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与该半导体层有关的检查数据；以及控制单元，被配置为根据该摄影单元所获取的图像数据输出与该衬底的位置的变化有关的变化数据。该控制单元可进一步被配置为根据该图像数据中的亮度数据输出该变化数据。该控制单元可进一步被配置为输出该变化数据，使得该检查单元能够获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。该控制单元可进一步被配置为确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于第二亮度范围内的亮度并定位在该半导体层的具有位于第一亮度范围内的亮度的其它部分之间的部分，其中该第二亮度范围所包括的值大于该第一亮度范围所包括的值。该控制单元可进一步被配置为确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于峰值亮度之间并位于预设亮度范围内的亮度的部分。该摄影单元的位置可相对于该检查单元的位置固定。根据本专利技术的另一个实施方式，提供了一种用于检查结晶化的装置，该装置包括:衬底放置部分，该衬底放置部分上放置有衬底，该衬底包括半导体层，该半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域；摄影单元，被配置为获取与该半导体层有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与该半导体层有关的检查数据；位置改变单元，被配置为改变该摄影单元和该检查单元相对于该衬底放置部分的位置；以及控制单元，被配置为根据该摄影单元所获取的图像数据输出与该摄影单元和该检查单元的位置的变化有关的变化数据。该控制单元可进一步被配置为根据该图像数据中的亮度数据输出该变化数据。该控制单元可进一步被配置为输出该变化数据，使得该检查单元能够获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。该控制单元可进一步被配置为确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于第二亮度范围内的亮度并定位在该半导体层的具有位于第一亮度范围内的亮度的其它部分之间的部分，其中该第二亮度范围所包括的值大于该第一亮度范围所包括的值。该控制单元可进一步被配置为确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于峰值亮度之间并位于预设亮度范围内的亮度的部分。该摄影单元的位置可相对于该检查单元的位置固定。根据本专利技术的又一个实施方式，提供了一种用于检查结晶化的装置，该装置包括:平台，被配置为改变衬底的位置，该衬底放置在该平台上并且包括半导体层，该半导体层包括按一间隔彼此分离的多个结晶化分离区域；摄影单元，被配置为获取与该衬底上的标记的位置有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与该半导体层有关的检查数据；以及控制单元，被配置为输出与该衬底的位置的变化有关的变化数据，使得该衬底的位置按该间隔重复地改变。该控制单元可进一步被配置为根据该图像数据输出初始变化数据，使得该衬底相对于该检查单元的位置处于设定位置。当该衬底处于该设定位置时，该检查单元能够获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。该摄影单元的位置可相对于该检查单元的位置固定。根据本专利技术的又一个实施方式，提供了一种用于检查结晶化的装置，该装置包括:衬底放置部分，该衬底放置部分上放置有衬底，该衬底包括半导体层，该半导体层包括按一间隔彼此分离的多个结晶化分离区域；摄影单元，被配置为获取与该衬底上的标记的位置有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与该半导体层有关的检查数据；位置改变单元，被配置为改变该检查单元相对于该衬底放置部分的位置；以及控制单元，被配置为输出与该检查单元的位置的变化有关的变化数据，使得该检查单元的位置按该间隔重复地改变。该控制单元可进一步被配置为根据该图像数据输出初始变化数据，使得该检查单元相对于该衬底的位置处于设定位置。当该检查单元处于该设定位置时，该检查单元能够获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。该摄影单元的位置可相对于该检查单元的位置固定。根据本专利技术的又一个实施方式，提供了一种检查结晶化的方法，该方法包括:准备衬底，该衬底包括半导体层，该半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域；根据所获取的与该半导体层有关的图像数据改变该衬底或检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据；获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据；根据所获取的与该半导体层有关的图像数据改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据；以及获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据。可根据所获取的图像数据中的亮度数据改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置。通过确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于第二亮度范围内的亮度并定位在该半导体层的具有位于第一亮度范围内的亮度的其它部分之间的部分来改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置，其中该第二亮度范围所包括的值大于该第一亮度范围所包括的值。通过确定该多个结晶化分离区域之一是该半导体层的具有位于峰值亮度之间并位于一亮度范围内的亮度的部分来改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置。改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据以及获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据的步骤可被重复。根据本专利技术的又一个实施方式，提供了一种检查结晶化的方法，该方法包括:准备衬底，该衬底包括半导体层，该半导体层包括按一间隔彼此分离的多个结晶化分离区域；根据所获取的与该半导体层有关的图像数据改变该衬底或检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据；获取与该多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据；按该间隔改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据；以及获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据。改变该衬底或该检查单元中的至少一个的位置以获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据以及获取与该多个结晶化分离区域中的另一个有关的检查数据的步骤可被重复。用于允许自动检查结晶化的半导体层。然而，本专利技术的范围并不被这些效果和方面所限制。【附图说明】通过参考附图详细描述本专利技术的示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于检查结晶化的装置，所述装置包括：平台，被配置为改变衬底的位置，所述衬底放置在所述平台上并且包括半导体层，所述半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域；摄影单元，被配置为获取与所述半导体层有关的图像数据；检查单元，被配置为获取与所述半导体层有关的检查数据；以及控制单元，被配置为根据所述摄影单元所获取的图像数据输出与所述衬底的位置的变化有关的变化数据。

【技术特征摘要】
2013.02.12 KR 10-2013-00149781.一种用于检查结晶化的装置，所述装置包括: 平台，被配置为改变衬底的位置，所述衬底放置在所述平台上并且包括半导体层，所述半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域； 摄影单元，被配置为获取与所述半导体层有关的图像数据； 检查单元，被配置为获取与所述半导体层有关的检查数据；以及 控制单元，被配 置为根据所述摄影单元所获取的图像数据输出与所述衬底的位置的变化有关的变化数据。2.如权利要求1所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为根据所述图像数据中的亮度数据输出所述变化数据。3.如权利要求2所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为输出所述变化数据，使得所述检查单元能够获取与所述多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。4.如权利要求3所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为确定所述多个结晶化分离区域之一是所述半导体层的具有位于第二亮度范围内的亮度并定位在所述半导体层的具有位于第一亮度范围内的亮度的其它部分之间的部分，其中所述第二亮度范围所包括的值大于所述第一亮度范围所包括的值。5.如权利要求3所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为确定所述多个结晶化分离区域之一是所述半导体层的具有位于峰值亮度之间并位于预设亮度范围内的亮度的部分。6.如权利要求1所述的装置，其中，所述摄影单元的位置相对于所述检查单元的位置固定。7.一种用于检查结晶化的装置，所述装置包括: 衬底放置部分，所述衬底放置部分上放置有衬底，所述衬底包括半导体层，所述半导体层包括彼此分离的多个结晶化分离区域； 摄影单元，被配置为获取与所述半导体层有关的图像数据； 检查单元，被配置为获取与所述半导体层有关的检查数据； 位置改变单元，被配置为改变所述摄影单元和所述检查单元相对于所述衬底放置部分的位置；以及 控制单元，被配置为根据所述摄影单元所获取的图像数据输出与所述摄影单元和所述检查单元的位置的变化有关的变化数据。8.如权利要求7所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为根据所述图像数据中的亮度数据输出所述变化数据。9.如权利要求8所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为输出所述变化数据，使得所述检查单元能够获取与所述多个结晶化分离区域中的至少一个有关的检查数据。10.如权利要求9所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为确定所述多个结晶化分离区域之一是所述半导体层的具有位于第二亮度范围内的亮度并定位在所述半导体层的具有位于第一亮度范围内的亮度的其它部分之间的部分，其中所述第二亮度范围所包括的值大于所述第一亮度范围所包括的值。11.如权利要求9所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为确定所述多个结晶化分离区域之一是所述半导体层的具有位于峰值亮度之间并位于预设亮度范围内的亮度的部分。12.如权利要求7所述的装置，其中，所述摄影单元的位置相对于所述检查单元的位置固定。13.一种用于检查结晶化的装置，所述装置包括: 平台，被配置为改变衬底的位置，所述衬底放置在所述平台上并且包括半导体层，所述半导体层包括按一间隔彼此分离的多个结晶化分离区域； 摄影单元，被配置为获取与所述衬底上的标记的位置有关的图像数据； 检查单元，被配置为获取与所述半导体层有关的检查数据；以及控制单元，被配置为输出与所述衬底的位置的变化有关的变化数据，使得所述衬底的位置按所述间隔重复地改变。14.如权利要求13所述的装置，其中，所述控制单元进一步被配置为根据所述图像数据输出初始变化数据，使得所述衬底相对于所述检查单元的位置处于设定位置。15.`如权利要求14所述的装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：秋秉权，朴喆镐，孙希根，金度烨，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR