一种柔性显示器的制作方法技术

本发明专利技术适用于显示器领域，提供了一种柔性显示器的制作方法包括以下步骤：在刚性基板上形成一硅层；经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层；在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板；制作显示器件层于所述柔性基板上；在完成显示器件层后，对框型硅层进行脱氢处理，以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开，从而得到柔性显示器。本发明专利技术可以避免柔性基板在分离工艺中损坏造成良率的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示器领域，尤其涉及。
技术介绍
目前，柔性显示器(flexibledisplay)是下一代显示器的形态，其优点为可弯曲及轻薄，因此方便携带，还能用于制作穿戴装置。现行柔性显示器的制作流程是:将塑料基板贴附在玻璃基板上，待完成LCD (Liquid Crystal Display,液晶显不器)、ΕΗ) (Electro-Phoretic Display 电泳显不)或OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)等产品工艺后，将塑料基板从玻璃基板上取下。但目前在取下塑料基板工艺程序时会存在缺陷，由于塑料基板与玻璃基板黏合度太高，工具不容易伸入玻璃基板与塑料基板中间，因此导致分离塑料基板与玻璃基板不易，也容易造成塑料膜损伤及良率不佳的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，旨在解决现有技术中存在的在取下塑料基板工艺程序时，由于塑料基板与玻璃基板黏合度太高，工具不容易伸入玻璃基板与塑料基板中间，因此导致分离塑料基板与玻璃基板不易，也容易造成塑料膜损伤及良率不佳的问题。本专利技术是这样实现的，，所述柔性显示器的制造方法包括以下步骤:在刚性基板上形成一硅层；经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层；在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板；制作显示器件层于所述柔性基板上；在完成显示器件层后，对框型硅层进行脱氢处理，以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开，从而得到柔性显示器。优选地，所述刚性基板为玻璃基板，所述硅层采用的材料是非晶硅；所述在刚性基板上形成一硅层的步骤包括:在玻璃基板上成膜一非晶娃层。优选地，所述在玻璃基板上成膜一非晶硅层的步骤，包括:将清洗后的玻璃基板，于化学气相沉积机台上使用成膜方法长出含氢的非晶硅，成膜时增加氢气气体比例，使非晶硅内含有高比率的氢原子。优选地，所述经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层的步骤，包括:在非晶硅层表面涂抹光阻；然后用光罩对所述光阻进行曝光；接着对光阻进行显影；在显影后，对非晶硅层进行蚀刻，形成框型非晶硅。优选地，所述柔性基板为塑料基板；所述在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板的步骤包括:在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板。优选地，所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板的步骤，包括:用涂布法在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上黏合塑料基板。优选地，所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板的步骤，包括:以压合贴合法在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上黏合塑料基板。优选地，所述在完成显示器件层后，对框型硅层进行脱氢处理，以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开，从而得到柔性显示器的步骤包括:在完成显示器件层后，对非晶硅进行脱氢，产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开，从而得到柔性显示器。优选地，所述在完成显示器件层后，对非晶硅进行脱氢，产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开，从而得到柔性显示器的步骤，包括:在完成显示器件层后，采用激光照射方法将非晶硅脱氢，在脱氢过程中，产生的氢气会自动将塑料基板与非晶硅分开，从而得到柔性显示器。优选地，当制作的是柔性液晶显示器时，所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤，包括:制作液晶显示器件层于所述柔性基板上；或者，当制作的是柔性电泳显示器时，所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤，包括:制作电泳显示器件层于所述柔性基板上；或者，当制作的是柔性有机发光二极管显示器时，所述制作显示器件层于所述柔性基板上的步骤，包括:制作有机发光二极管显示器件层于所述柔性基板上。在本专利技术中，在塑料基板与玻璃基板进行贴附工艺之前，增加一道工艺，以形成一框型的高浓度含氢量的非晶硅，使该框型非晶硅位于塑料基板与玻璃基板之间，用作改善塑料基板在剥离工艺时，不易分离及分离造成塑料基板或玻璃基板损坏的工艺技术，完成塑料基板涂布工艺以及显示器工艺后，再利用激光进行脱氢工艺，脱氢可以产生氢气，产生的氢气可以使塑料基板的周边与玻璃基板分离，从而使后续的塑料基板与玻璃基板的分离工艺可以轻松完成，可以避免塑料基板在分离工艺中损坏造成良率的问题。【附图说明】图1是本专利技术实施例提供的柔性显示器的制造方法的实现流程示意图；图2是本专利技术实施例提供的形成框型非晶硅的流程示意图；图3是本专利技术实施例提供的得到柔性显示器的流程示意图。【具体实施方式】为了使本专利技术的目的、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。在本专利技术实施例中，在塑料基板与玻璃基板进行贴附工艺之前，增加一道工艺，以形成一框型的高浓度含氢量的非晶娃，待完成显不器件层(如IXD、EPD或OLED显不器件层)后，再利用激光进行脱氢工艺，脱氢可以产生氢气，产生的氢气可以使塑料基板的周边与玻璃基板分离，从而使后续的塑料基板与玻璃基板的分离工艺可以轻松完成，可以避免塑料基板在分离工艺中损坏造成良率的问题。请参阅图1，为本专利技术实施例提供的柔性显示器的制造方法的实现流程示意图，其包括以下步骤:在步骤SlOl中，在刚性基板上形成一硅层；在本专利技术实施例中，刚性基板例如是石英基板或玻璃基板，但并不限定于此，优选地，本专利技术实施例的刚性基板采用的是玻璃基板。硅层的材料例如为非晶硅、单晶硅或多晶硅。优选地，本专利技术实施例的硅层采用的材料是非晶硅。因此，优选地，本专利技术实施例是在玻璃基板20上成膜一非晶硅层10。在本专利技术实施例中，首先将清洗后的玻璃基板20，于CVD (Chemical VaporDeposition,化学气相沉积)机台上使用成膜方法长出含氢的非晶娃，成膜时增加氢气气体比例，使非晶硅内含有高比率的氢原子。优选地，为了确保激光能有效照射，氢气能有效生成及产出，一般来说非晶硅的厚度会做在1000A以上。本专利技术实施例中，本专利技术实施例的硅层采用的是厚度约1000A的非晶娃。在步骤S102中，经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层；在本专利技术实施例中，优选地，经由曝光制程及蚀刻制程将所述非晶硅做成框型非晶娃。请参阅图2，在非晶硅层10表面涂抹光阻40，然后用光罩30对所述光阻进行曝光，接着对光阻进行显影；在显影后，对非晶硅层进行蚀刻，形成框型非晶硅。在本专利技术实施例中，由于采用框型非晶硅，可减少激光的数量与照射时间，减少激光费用与增加产出速度，也可避免全面性非晶硅脱氢分离后，塑料基板可能发生位移，造成后续工艺与连续生产的困难。在步骤S103中，在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板；在本专利技术实施例中，柔性基板例如是玻璃薄膜基板、不锈钢薄膜基板或塑料基板，但并不限于此，优选地，本专利技术实施例的柔性基板采用的是塑料基板。因此，优选地，本专利技术实施例是在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板50。在本专利技术实施例中，请参阅图3，用涂布法或以压合贴合法在成膜有框型非晶硅的玻璃基板20表面上黏合塑料基板50，其中塑料基板即为塑料膜，常用材料为PI (取向膜层)、PEN (聚萘二甲酸乙二醇酯)、PET (Polyethylene terephthalate,聚对苯二甲酸类塑料)等。在步骤S104中，制作显示器件层于所述柔性基板上；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性显示器的制作方法，其特征在于，所述柔性显示器的制作方法包括以下步骤：在刚性基板上形成一硅层；经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层；在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板；制作显示器件层于所述柔性基板上；在完成显示器件层后，对框型硅层进行脱氢处理，以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开，从而得到柔性显示器。

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述柔性显示器的制造方法包括以下步骤: 在刚性基板上形成一娃层； 经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层； 在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板； 制作显示器件层于所述柔性基板上； 在完成显示器件层后，对框型硅层进行脱氢处理，以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开，从而得到柔性显示器。2.如权利要求1所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述刚性基板为玻璃基板，所述硅层采用的材料是非晶硅； 所述在刚性基板上形成一硅层的步骤包括: 在玻璃基板上成膜一非晶娃层。3.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述在玻璃基板上成膜一非晶硅层的步骤，包括: 将清洗后的玻璃基板，于 化学气相沉积机台上使用成膜方法长出含氢的非晶硅，成膜时增加氢气气体比例，使非晶硅内含有高比率的氢原子。4.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层的步骤，包括: 在非晶硅层表面涂抹光阻； 然后用光罩对所述光阻进行曝光； 接着对光阻进行显影； 在显影后，对非晶硅层进行蚀刻，形成框型非晶硅。5.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述柔性基板为塑料基板； 所述在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板的步骤包括: 在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板。6.如权利要求5所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏长义，郑扬霖，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44