一种柔性显示器的制作方法技术

技术编号:10319932 阅读:128 留言:0更新日期:2014-08-13 20:14
本发明专利技术适用于显示器领域,提供了一种柔性显示器的制作方法包括以下步骤:在刚性基板上形成一硅层;经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层;在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板;制作显示器件层于所述柔性基板上;在完成显示器件层后,对框型硅层进行脱氢处理,以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开,从而得到柔性显示器。本发明专利技术可以避免柔性基板在分离工艺中损坏造成良率的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示器领域,尤其涉及。
技术介绍
目前,柔性显示器(flexibledisplay)是下一代显示器的形态,其优点为可弯曲及轻薄,因此方便携带,还能用于制作穿戴装置。现行柔性显示器的制作流程是:将塑料基板贴附在玻璃基板上,待完成LCD (Liquid Crystal Display,液晶显不器)、ΕΗ) (Electro-Phoretic Display 电泳显不)或OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)等产品工艺后,将塑料基板从玻璃基板上取下。但目前在取下塑料基板工艺程序时会存在缺陷,由于塑料基板与玻璃基板黏合度太高,工具不容易伸入玻璃基板与塑料基板中间,因此导致分离塑料基板与玻璃基板不易,也容易造成塑料膜损伤及良率不佳的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供,旨在解决现有技术中存在的在取下塑料基板工艺程序时,由于塑料基板与玻璃基板黏合度太高,工具不容易伸入玻璃基板与塑料基板中间,因此导致分离塑料基板与玻璃基板不易,也容易造成塑料膜损伤及良率不佳的问题。本专利技术是这样实现的,,所述柔性显示器的制造方法包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种柔性显示器的制作方法,其特征在于,所述柔性显示器的制作方法包括以下步骤:在刚性基板上形成一硅层;经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层;在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板;制作显示器件层于所述柔性基板上;在完成显示器件层后,对框型硅层进行脱氢处理,以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开,从而得到柔性显示器。

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述柔性显示器的制造方法包括以下步骤: 在刚性基板上形成一娃层; 经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层; 在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板; 制作显示器件层于所述柔性基板上; 在完成显示器件层后,对框型硅层进行脱氢处理,以使得所述柔性基板与所述框型硅层分开,从而得到柔性显示器。2.如权利要求1所述的柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述刚性基板为玻璃基板,所述硅层采用的材料是非晶硅; 所述在刚性基板上形成一硅层的步骤包括: 在玻璃基板上成膜一非晶娃层。3.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述在玻璃基板上成膜一非晶硅层的步骤,包括: 将清洗后的玻璃基板,于 化学气相沉积机台上使用成膜方法长出含氢的非晶硅,成膜时增加氢气气体比例,使非晶硅内含有高比率的氢原子。4.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述经由曝光制程及蚀刻制程将所述硅层做成框型硅层的步骤,包括: 在非晶硅层表面涂抹光阻; 然后用光罩对所述光阻进行曝光; 接着对光阻进行显影; 在显影后,对非晶硅层进行蚀刻,形成框型非晶硅。5.如权利要求2所述的柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述柔性基板为塑料基板; 所述在形成有框型硅层的刚性基板表面上贴附柔性基板的步骤包括: 在成膜有框型非晶硅的玻璃基板表面上贴附塑料基板。6.如权利要求5所述的柔性显示器的制造方法,其特征在于,所述在成膜有框型非晶硅的玻璃基...

【专利技术属性】
技术研发人员:苏长义郑扬霖
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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