一种膜厚测量方法及装置、涂覆机制造方法及图纸

本发明专利技术涉及成膜技术领域，公开了一种膜厚测量方法及装置、涂覆机。在涂覆机上设置膜厚测量装置，所述膜厚测量装置通过获取光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值，来测量形成的湿膜厚度，由于湿膜厚度对应干燥后的膜厚变化量是一定的，通过测量湿膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，缩短了测量干燥后的膜厚所需的工艺时间，且在测试基板上形成湿膜所需的物料很少，不会造成大量物料的浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种膜厚测里方法及装直、涂覆机
本专利技术涉及成膜
，特别是涉及一种膜厚测量方法及装置、涂覆机。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)具有体积小，功耗低，无辐射等特点，近年来得到迅速发展，在当前的平板显示器市场中占据主导地位。液晶面板是TFT-1XD的核心部件，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶。其中，彩膜基板上形成有黑矩阵和彩色滤光片，黑矩阵限定多个矩阵区域，彩色滤光片位于矩阵区域内，用于实现彩色显示。彩色滤光片的厚度是影响彩膜基板性能的重要因素。目前制备彩膜基板的工艺流程中，涂覆机在透明基板的表面涂覆彩膜树脂层后，经过曝光显影，高温烘烤之后才得以测量彩色滤光片的膜厚，从开始涂覆彩膜树脂层到测量出干燥后的膜厚结果需要lh，甚至更多的工艺制备时间。若实际测量的膜厚不符合产品标准，则需要重新涂覆光刻胶，并依次经过上述工艺流程，直到测试结果符合标准才可以开始得以量产，目前现有的生产模式会浪费大量的工艺时间，造成产能的损失。且量产过程本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜厚测量装置，用于测量测试基板上形成的湿膜厚度，其特征在于，包括:光源，发出的光线经过所述测试基板上的湿膜后射出；光感单元，用于接收所述光源射出的光线，输出相应的感应信号；参数检测值获取单元，用于接收所述光感单元输出的感应信号，根据所述感应信号获取所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值，所述识别参数检测值与湿膜的厚度相关；计算单元，用于根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度。

【技术特征摘要】
1.一种膜厚测量装置，用于测量测试基板上形成的湿膜厚度，其特征在于，包括: 光源，发出的光线经过所述测试基板上的湿膜后射出； 光感单元，用于接收所述光源射出的光线，输出相应的感应信号； 参数检测值获取单元，用于接收所述光感单元输出的感应信号，根据所述感应信号获取所述光源发出的光线经过测试基板上的湿膜后的识别参数检测值，所述识别参数检测值与湿膜的厚度相关； 计算单元，用于根据所述识别参数检测值计算出湿膜的厚度。2.权利要求1所述的膜厚测量装置，其特征在于，所述计算单元包括: 数据库，用于存储多组识别参数统计值，以及与每组识别参数统计值对应的膜层厚度； 匹配模块，将所述识别参数检测值与所述数据库中的多组识别参数统计值分别进行比较，从所述多组识别参数统计值中确定与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值； 确定模块，用于确定所述识别参数检测值对应的湿膜厚度为:与所述识别参数检测值匹配的一组识别参数统计值对应的湿膜厚度。3.权利要求1所述 的膜厚测量装置，其特征在于，还包括: 光偏转单元，用于接收所述光源射出的光线，并将接收到的光线进行投射； 所述光感单元用于接收所述光偏转单元投射的光线。4.根据权利要求3所述的膜厚测量装置，其特征在于，所述光偏转单元由至少一个平面镜组成，所述平面镜用于接收所述光源射出的光线，并将接收到的光线进行投射。5.根据权利要求1-4任一项所述的膜厚测量装置，其特征在于，所述光源为激光源。6.根据权利要求5所述的膜厚测量装置，其特征在于，所述湿膜为彩膜树脂层； 所述光源为红外激光源。7.根据权利要求1-4任一项所述的膜厚测量装置，其特征在于，所述识别参数检测值为光透过率。8.一种涂覆机，包括用于在测试基板上形成湿膜的喷嘴，其特征在于，还包括权利要求1-7任一项所述的膜厚测量装置。9.根据权利要求8所述的涂覆机，其特征在于，所述膜厚测量装置与所述喷嘴的...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖宇，袁剑峰，吴洪江，董明，冯贺，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11