一种气液传质元件制造技术

本发明专利技术公开了一种流线形导流气液传质元件，它涉及化学工程等工业领域的气液传质设备。该新型气液传质元件采用流线形的外形来代替传统圆形或矩形，元件上供气体通过的齿缝或孔旁设置导流翅片，齿缝或孔和导流片不均匀布置，使气体经过齿缝或孔时最大限度地推动液体更加均匀、稳定地流动。本发明专利技术可以减小流体流经气液接触元件时所受的阻碍和扰动，减小液面落差并减小或消除塔板上流体流动的涡流和滞流现象，促使物料在塔板上均匀稳定流动，促进气液均匀传质，从而提高塔板效率和生产能力。

【技术实现步骤摘要】
一种气液传质元件
本专利技术涉及一种带导向作用的流线形气液传质元件，属于化学工程等工业领域中的气液传质设备，具体的说是精馏(包括吸收、气提)塔板的气液传质元件。
技术介绍
传统精馏技术经过近2个世纪的发展，已经取得了长足的进展，研究者开发了种类众多的塔板和气液传质元件。但是，目前的塔板仍有一些方面需要改进，其中之一就是继续提高塔板的传质效率。影响塔板效率的因素很多，板上液体的流动状态就是其中之一。近年来的研究表明，传统塔板上液体的流动并不是很规则的流动，而是存在涡流、回流、滞留以及返混等现象。这其中，以传统塔板上弓形区存在的湍流和滞流影响最为严重。对常规圆形塔板，液体并不是以均匀的流速在整个塔板宽度方向均匀向前流动，而是中间的液体流速快，两侧则较慢。这样大部分的液体是从入口堰到溢流堰的直线路径流过，而两侧弓形区内的液体的流动则很缓慢，且存在严重的湍流和滞流。常规塔板的湍流区大小与堰高和液流强度有关，其面积可占塔板面积的25%?40%。因为湍流区的液体流动缓慢，严重影响该区域的气液传质效果，并浪费大量塔板面积。对于诸如反应精馏等特殊的场合，严重的湍流和滞留能产生很宽的液相停留时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带导流作用的流线形导流气液传质元件，其特征在于：a)气液传质元件采用流线形的形状，该元件的长宽比大于1，优选1.2～20:1，优选2～10:1，更优选2.5～8:1，b)气液传质元件上开有供气体通过的多个齿缝和/或孔，以及在齿缝和/或孔的旁边设置多个导流片，所述导流片的方向与沿入口堰到溢流堰的直线方向呈0～90°角，优选0～60°角，最优选0～45°角；以及c)所述齿缝和/或孔以及导流片沿着液体流动方向不均匀布置(优选分布在元件的外周上)，优选，齿缝或孔的分布在方向上和/或数量上和/或面积上和/或形状上和/或高度上具有不均匀性，例如是一个帽罩上的齿缝或孔的分布或方向不均，也可是多个帽罩的齿...

【技术特征摘要】
1.一种带导流作用的流线形导流气液传质元件，其特征在于: a)气液传质元件采用流线形的形状，该元件的长宽比大于1，优选1.2~20:1，优选2~10:1，更优选2.5~8:1， b)气液传质元件上开有供气体通过的多个齿缝和/或孔，以及在齿缝和/或孔的旁边设置多个导流片，所述导流片的方向与沿入口堰到溢流堰的直线方向呈O~90°角，优选O~60°角，最优选O~45°角；以及 c)所述齿缝和/或孔以及导流片沿着液体流动方向不均匀布置(优选分布在元件的外周上)，优选，齿缝或孔的分布在方向上和/或数量上和/或面积上和/或形状上和/或高度上具有不均匀性，例如是一个帽罩上的齿缝或孔的分布或方向不均，也可是多个帽罩的齿缝或孔的分布或方向各不相同。2.根据权利要求1所述的气液传质元件，其特征在于，所述流线形形状是沿流体流动方向元件宽度平缓变化，不存在尖锐折角，折角处采用平缓曲线过渡，优先是选自长圆形、椭圆形、圆角矩形、梯形、多边形、鲸形或者渐变截面结构中的一种或多种。3.根据权利要求1或2的气液传质元件，其特征在于，当该元件布置在包括受液盘和溢流堰的精馏塔 板、吸收塔板或气提塔板中时，该元件较长的方向沿受液盘到溢流堰的液体流动方向布置。4.根据权利要求1或2所述的气液传质元件，其特征在于，所述齿缝或孔的分布在方向上和/或数量上和/或面积上和/或形状上和/或高度上具有不均匀性包括:在从气液传质元件的液体流动方向的上游端(或前端)到下游端(或后端)的方向上:分布在气液传质元件上(优选分布在元件的外周上)的齿缝或孔和/或导流片的分布数量密度逐渐增大；和/或，分布在气液传质元件上(优选分布在元件的外周上)的多个齿缝或多个孔的面积依次变大；和/或，齿缝或孔和/或导流片与沿入口堰到溢流堰的直线方向的角度，在元件最宽处之前逐渐减小或...

【专利技术属性】
技术研发人员：何岩，员玫，黎源，赵磊，张俊华，成兆坤，
申请(专利权)人：万华化学集团股份有限公司，万华化学宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37