【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供抛光基板的方法、装置及系统。本专利技术包括上部平台；耦接至上部平台的扭矩/应变测量仪；以及耦接至扭矩/应变测量仪并适于经由扭矩/应变测量仪驱动上部平台旋转的下部平台。在其他实施例中，本专利技术包括上部托架、耦接至上部托架的侧向力测量仪及耦接至侧向力测量仪并适于支撑抛光头的下部托架。本专利技术揭示多个额外方面。【专利说明】本专利技术与2011年 11 月 16 日申请的标题为“SYSTEMS AND METHODS FOR SUBSTRATEPOLISHING END POINT DETECTION USING IMPROVED FRICTION MEASUREMENT ()”的美国临时专利申请案第61/560，793号及2012年4月27日申请的美国专利申请案第13/459,071号相关，并主张这些专利申请案的优先权，这些专利案每一个的全文以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体是关于电子设备制造，更特定言之是针对半导体基板抛光系统与方法。
技术介绍
基板抛光端点检测方法可利用抵靠抛光头内所固定的基板旋转抛光垫所需扭矩的估计值来确...
【技术保护点】
一种抛光基板的装置，所述装置包含：上部平台；扭矩/应变测量仪，所述扭矩/应变测量仪耦接至所述上部平台；以及下部平台，所述下部平台耦接至所述扭矩/应变测量仪并适于经由所述扭矩/应变测量仪驱动所述上部平台旋转。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：SS·张，H·C·陈，L·卡鲁比亚，P·D·巴特菲尔德，E·S·鲁杜姆，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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