掩模制造装置及利用激光束制造掩模的方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种掩模制造装置及利用激光束制造掩模的方法。一种掩模制造装置，其包括激光照射器、平台、框架和散热片。激光照射器将激光束分为多道子激光束并将子激光束照射到被放置在平台上的阴影掩模。框架设置在平台上来支撑阴影掩模。散热片接触阴影掩模材料，吸收从阴影掩模产生的热并将该热排出到阴影掩模的周围。因此，避免了阴影掩模过热。

【技术实现步骤摘要】
掩模制造装置及利用激光束制造掩模的方法本申请要求于2013年2月1日提交的第10-2013-0011956号韩国专利申请的优先权，所述韩国专利申请的内容通过引用被全部包含于此。
本公开涉及一种制造掩模的装置以及利用激光束制造掩模的方法。更具体地讲，本公开涉及一种制造用于沉积有机材料的阴影掩模（shadowmask）的装置以及制造该阴影掩模的方法。
技术介绍
通常，在制造有机发光显示设备时，执行沉积工艺是利用阴影掩模在基底上沉积有机材料。阴影掩模包括特定的图案，因此有机材料仅在阴影掩模覆盖的区域之外的区域上沉积。阴影掩模可通过利用湿法刻蚀工艺或激光束工艺来制造。在湿法刻蚀工艺的情况下，由于刻蚀工艺的非均匀性，因此难以精致地形成图案。阴影掩模可以使用激光束工艺或者激光烧蚀工艺来制造。
技术实现思路
本公开提供一种制造掩模的装置，其能够有效地将利用激光束在阴影掩模上形成图案时产生的热排出。本公开提供一种利用激光束制造掩模的方法，其使从阴影掩模产生的热有效地排出或散发。本专利技术构思的实施例提供了一种掩模制造装置，其包括激光照射部件、平台、框架和散热片或导热片。激光照射部件或激光照射器包括激光产生部件、衍射光学元件（DOE）透镜、光学系统和扫描器。激光产生部件产生激光束。DOE透镜将激光束分为子激光束。光学系统减少子激光束之间的像差。扫描器会聚或集中子激光束，以将子激光束照射到阴影掩模上。阴影掩模放置在平台上。框架设置在平台上来支撑阴影掩模材料。散热片接触阴影掩模材料并吸收从阴影掩模材料产生的热，以将该热排出或散发到阴影掩模材料的周围环境。掩模制造装置进一步包括容纳在框架中的磁性材料，并且在将散热片插在磁性材料和阴影掩模之间时磁性材料被布置为面对阴影掩模。掩模制造装置进一步包括连接到散热片的散热片升降器或传送机构，以沿着垂直方向移动散热片。本专利技术构思的实施例提供了一种掩模制造装置，其包括激光照射部件、平台、框架、散热片和传热介质。传热介质设置在阴影掩模材料和散热片之间来接触阴影掩模和散热片。本专利技术构思的实施例提供了一种制造掩模的方法，其包括：放置由框架支撑的阴影掩模材料；使阴影掩模材料与散热片之间产生直接或间接的热传导；利用激光束在阴影掩模上形成图案；通过散热片将从阴影掩模产生的热量释放或散发。根据上面所述，散热片吸收从阴影掩模产生的热并将吸收的热排出到阴影掩模的周围环境，因此可防止或抑制阴影掩模过热。此外，照射到阴影掩模上的子激光束的强度可被提高，因而在阴影掩模上形成图案所需要的时间可被缩短进一步地，由于通过上述方法制造掩模，所以可防止阴影掩模过热。附图说明通过参照下面在考虑结合附图时进行的详细描述，本公开的上述和其他优点将会变得更加明显，在附图中：图1是示出根据本公开的示例性实施例的掩模制造装置的透视图。图2是示出图1中所示的激光照射部件的框图。图3是示出图1中所示的阴影掩模、框架、散热片和磁性材料的分解透视图。图4是沿着图3的线I-I′截取的剖视图。图5是示出图1中所示的阴影掩模的加工区域的视图。图6是根据本公开的另一示例性实施例的阴影掩模、上支架、框架、散热片和磁性材料的分解透视图。图7是根据本公开的另一示例性实施例的阴影掩模、上支架、框架和散热片升降器的分解立体图。图8是沿着图7的线I-I′截取的剖视图。图9是根据本公开的另一示例性实施例的掩模制造装置的剖视图。图10是示出根据本公开的另一示例性实施例的利用激光束制造掩模的方法的流程图。具体实施方式将理解的是，当元件或层被描述为在另一元件或层“上”，或者被称作“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上或直接连接或结合到另一元件或层，或者也可以存在中间元件或中间层。相反，当元件被称作“直接在”另一元件或层“上”或“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。相同的标号始终表示相同的组件。如在这里使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项的任意组合和所有组合。将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开来。因此，在不脱离本专利技术的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。可使用空间相对术语，如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“上面的”、“在……上方”等，来描述如图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用或操作中的不同方位。例如，如果在附图中装置被翻转，则描述为“在”其它元件或特征“下面”或“在”其它元件或特征“下方”的元件随后将被定位为“在”其它元件或特征“上面”。因此，示例性术语“在……下面”可包括上面和下面两种方位。所述装置可被另外定位（旋转90度或者在其它方位），相应地解释这里使用的空间相对描述符。这里使用的术语仅为了描述特定示例性实施例的目的，而不意图限制本专利技术。如这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。除非另有定义，否则这里使用的所有术语（包括技术术语和科技术语）具有与本专利技术所属领域的一个普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。还将理解的是，除非这里明确定义，否则诸如在通用的字典中定义的术语应该被解释为具有与相关领域的上下文中它们的意思一致的意思，而不应理想地或者过于正式地解释它们的意思。以下，将参照附图详细地解释本专利技术的实施例。当利用激光束工艺制造阴影掩模时，被激光束照射到其上的对象会产生热量。在这种情况下，从对象边缘产生的热量会散发到物体的周围环境中，但是从对象中心产生的热量将难以散发出去。因此，在对象中心会出现过热现象，且该过热现象会引起缺陷，例如对象的热变形。图1是示出根据本公开的示例性实施例的掩模制造装置的透视图，图2是示出图1中所示的激光照射部件的框图，图3是示出图1中所示的阴影掩模、框架、散热片和磁性材料的分解立体图，图4是沿着图3的线I-I′截取的剖视图。参照图1至图4，掩模制造装置1000包括激光照射部件或者激光照射器100、平台（stage）200、框架300、散热片或导热片400和磁性材料500。激光照射部件100包括激光产生部件或激光产生器110、衍射光学元件（DOE）透镜120、光学系统130和扫描器140。激光产生部件110产生具有预定强度和预定直径的激光束。DOE透镜120将激光产生部件110发出的激光束分为多道子激光束。DOE透镜120包括利用激光束的衍射现象将激光束分为子激光束的衍射光学元件。这些子激光束形成N乘M阵列构造（“N”和“M”中的每个是自然数）。光学系统130减少子激光束之间的像差，以改善场曲。穿过光学系统130的子激光束被聚焦在平的阴影掩模SM上。扫描器140会聚或聚集子激光束，以使子激光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模制造装置，包括：平台；激光束照射器，被构造为将激光束分为多道子激光束且进一步被构造为将多道子激光束朝向平台照射，以使多道子激光束照射到将要被放置在平台上的阴影掩模材料上；框架，设置在平台上且被构造为支撑阴影掩模材料；散热片，放置在平台上；其中，所述掩模制造装置被构造为使散热片接触阴影掩模材料，从而散热片吸收从阴影掩模材料产生的热并将该热散发到阴影掩模材料的周围环境中。

【技术特征摘要】
2013.02.01 KR 10-2013-00119561.一种掩模制造装置，包括：平台，包括支撑表面；激光束照射器，被构造为朝向所述支撑表面照射多道激光束；框架，设置在平台的所述支撑表面上且包括形成闭合环的多个提升条，每个提升条包括背对所述支撑表面的框架表面；散热片，放置在平台的所述支撑表面上并且包括背对所述支撑表面的散热表面；其中，所述散热表面接触阴影掩模的表面，以吸收在利用激光束的照射来制造阴影掩模期间产生的热，其中，所述框架表面具有与所述散热表面不同的高度，以在散热片与框架之间形成台阶。2.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述激光束照射器包括：激光束产生器，被构造为产生激光束；衍射光学元件透镜，被构造为将激光束分为多道激光束；扫描器，被构造为会聚多道激光束且进一步被构造为照射所述多道激光束。3.根据权利要求2所述的掩模制造装置，其中，所述激光束照射器进一步包括：光学系统，被构造为减少多道激光束之间的像差。4.根据权利要求1所述的掩模制造装置，其中，所述框架包括形成矩形...

【专利技术属性】
技术研发人员：李道炯，赵俊豪，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR