显示基板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置。该显示基板包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。本发明专利技术提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。
技术介绍
有源矩阵有机发光二极管（ActiveMatrix/OrganicLightEmittingDiode，简称：AMOLED）面板被称为下一代显示技术，白光有机发光二极管（WhiteOrganicLight-EmittingDiode，简称：WOLED）和彩膜（ColorFilter，简称：CF）技术作为AMOLED的一种重要的开发方向而备受关注，利用WOLED和CF技术制成的AMOLED显示基板具有有机电致发光（electroluminescence，简称：EL）材料利用率高、对蒸镀EL的掩膜板要求低以及采用顶发射的EL能提高开口率等优点。AMOLED显示基板的结构中，需要形成高度较高的隔垫物（PhotoSpacer，简称：PS），并且需要在该隔垫物上形成辅助电极。采用AMOLED显示基板的显示装置需要具有较大的盒厚（CellGap），为保证显示装置的盒厚，需要制成厚度较大的隔垫物。但是，厚度较大的隔垫物存在坡度角（Profile）较差的问题。综上所述，由于厚度较大的隔垫物存在上述问题，因此通过提高隔垫物的厚度而提高盒厚的技术方案受到较大限制，从而导致显示装置的盒厚难以提高。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于提高显示装置的盒厚。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示基板，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。可选地，还包括：遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。可选地，所述遮光层位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位之上，所述隔垫物位于所述遮光层之上。可选地，相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于所述遮光层的纵截面的宽度。可选地，所述隔垫物的厚度包括3μm至6μm。可选地，所述隔垫物纵截面的靠近所述遮光层一侧的宽度大于远离所述遮光层一侧的宽度。可选地，所述遮光层的材料包括有机树脂或者金属。可选地，还包括：辅助电极，所述辅助电极形成于所述彩色矩阵图形上且覆盖所述隔垫物。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示装置，包括：上述显示基板。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示基板的制造方法，包括：在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。可选地，还包括：形成遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。可选地，所述形成遮光层包括：在相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上形成所述遮光层；所述在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物包括：在所述衬底基板上形成所述彩色矩阵图形；在所述遮光层上形成隔垫物。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；图2a为实施例一中彩色矩阵图形和遮光层的结构示意图；图2b为实施例一中隔垫物的一种具体结构示意图；图3为本专利技术实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图；图4a为实施例三中形成彩色矩阵图形的示意图；图4b为实施例三中形成遮光层的示意图；图4c为实施例三中形成隔垫物的示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术提供的显示基板及其制造方法和显示装置进行详细描述。图1为本专利技术实施例一提供的一种显示基板的结构示意图，如图1所示，该显示基板包括：衬底基板11和位于衬底基板11上方的彩色矩阵图形和隔垫物13，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物13位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方。本实施例中，彩色矩阵图形可包括红色矩阵图形、绿色矩阵图形或者蓝色矩阵图形，红色矩阵图形、绿色矩阵图形和蓝色矩阵图形依次排列于衬底基板11上。图1中以依次排列的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15为例进行描述。需要说明的是：在实际应用中，彩色矩阵图形还可以为其它颜色的矩阵图形，此处不再一一列举。如图1所示，相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的边缘交叠设置，隔垫物13位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位的上方。具体地，相邻的红色矩阵图形14的边缘和绿色矩阵图形15的边缘交叠设置，因此交叠部位位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的边缘。该显示基板还包括：遮光层12。遮光层12与相邻的彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。优选地，遮光层12位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上，隔垫物13位于遮光层12之上。如图1所示，遮光层12位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位之上，也就是说，红色矩阵图形14、绿色矩阵图形15、遮光层12和隔垫物13从下至上依次层叠设置。优选地，相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于遮光层12的纵截面的宽度。图2a为实施例一中彩色矩阵图形和遮光层的结构示意图，如图2a所示，相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位的纵截面的宽度a1大于遮光层12的纵截面的宽度b1。其中，需要说明的是：b1为遮光层12的纵截面的靠近彩色矩阵图形一侧的宽度，a1为交叠部位的纵截面中相邻彩色矩阵图形之间的交界线处的宽度。可选地，遮光层可以位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之下，此时，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上，此种情况不再具体画出。本实施例中，优选地，隔垫物13的厚度包括3μm至6μm；遮光层12的厚度包括0.5μm至3μm；彩色矩阵图形的厚度包括1.5μm至3μm。优选地，隔垫物13纵截面的靠近遮光层12一侧的宽度大于远离遮光层12一侧的宽度。图2b为实施例一中隔垫物的一种具体结构示意图，如图2b所示，该隔垫物13纵截面的靠近遮光层12一侧的宽度a2大于远离遮光层12一侧的宽度b2，该隔垫物13的纵截面的形状为正梯形。在实际应用中，该隔垫物13还可以采用其它形状，此处不再一一列举。本实施例中，遮光层12的材料可以包括有机树脂或者金属。若遮光层12的材料为有机树脂时，优选地，该有机树脂可以为黑色树脂，此时遮光层12为黑矩阵图形。或者，若遮光层12的材料为金属时，优选地，该金属为反射率较低的金属，该金属的反射率可大于0%且小于5%，例如：该金属可以为Cr。本实施例中的各附图中遮光层12以黑矩阵图形为例。本实施例中，隔垫物13的材料可以为有机树脂，例如：该有机树脂可以包括：聚氨基甲酸酯、聚乙烯或者聚碳酸酯。可选地，该显示基板还可以包括：辅助电极16。该辅助电极16形成于所述彩色矩阵图形上且覆盖隔垫物13。优选地，辅助电极16的材料为透明导电材料，例如：ITO或者TZO。优选地，辅助电极16的厚度为20nm至150nm。本实施例提供的显示基板的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方；所述显示基板还包括遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置，所述遮光层位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位之上，所述隔垫物位于所述遮光层之上，相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于所述遮光层的纵截面的宽度。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物的厚度包括3μm至6μm。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物纵截面的靠近所述遮光层一侧的宽度大于远离所述遮光层一侧的宽度。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层的材料包括有机树脂或者...

【专利技术属性】
技术研发人员：王东方，袁广才，孙宏达，刘威，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11