用于监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法技术

在此提供用于流量控制器的原位校正的方法和设备。在一些实施例中，流动气体的方法包含以下步骤：提供流量控制器，所述流量控制器经配置以：基于计算出的第一关系，提供具有第一数值的流量的第一气体，所述第一关系通过使用标准气体来确定；从处于流量控制器的相对应的多个数值的设定点而确定的第一气体的多个数值的流量中，确定对于第一气体的流量和设定点之间的实际的第一关系，其中所述多个数值的每一数值的流量从将第一气体流动经过处在所述多个数值的相对应的数值的设定点的流量控制器来确定；及基于实际的第一关系，利用第一数值的流量流动第一气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法领域本专利技术的实施例一般性地涉及用于基板处理的方法和设备，特别地涉及用于流量控制器的原位校正的方法和设备。背景流量控制器可被使用以供给工艺气体至处理腔室的处理空间。流量控制器典型地于安装在处理腔室上之前由制造者使用标准气体来校正。专利技术人提供用于流量控制器的原位校正(in-situcalibration)的改善的方法。
技术实现思路
在此提供一种用于流量控制器的原位校正的方法和设备。在一些实施例中，耦合至处理腔室的流量控制器的原位校正的方法可包含以下步骤：提供流量控制器，流量控制器经配置以：当基于计算出的第一关系而设定为第一数值的设定点时，提供具有第一数值的流量的第一气体，第一关系由使用不同于第一气体的标准气体来确定；从处于流量控制器的相对应的多个数值的设定点而确定的第一气体的多个数值的流量中，确定对于第一气体的流量和设定点之间的实际的第一关系，其中多个数值的每一数值的流量从将第一气体流动经过处在多个数值的相对应的数值的设定点的流量控制器来确定；及基于实际的第一关系，利用第一数值的流量从流量控制器流动第一气体。在一些实施例中，一种用于处理基板的设备可包含：处理腔室，处理腔室具有处理空间；及第一流量控制器，第一流量控制器耦合至处理腔室以提供第一气体至处理空间，其中第一流量控制器经配置以：当基于计算出的第一关系而设定为第一数值的设定点时，提供具有第一数值的流量的第一气体，第一关系由使用不同于第一气体的标准气体来确定；及控制器，控制器耦合至处理腔室，其中控制器进一步包含：计算机可读取媒体，计算机可读取媒体具有存储于所述计算机可读媒体上的指令，当指令由控制器执行时，使得用于将气体流动进入处理空间的第一方法被执行，所述方法包含以下步骤：从处于第一流量控制器的相对应的多个数值的设定点而确定的第一气体的多个数值的流量中，确定对于第一气体的流量和设定点之间的实际的第一关系，其中多个数值的每一数值的流量从将第一气体流动经过处在多个数值的相对应的数值的设定点的第一流量控制器来确定；及基于实际的第一关系，利用第一数值的流量从第一流量控制器流动第一气体。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：在第一时间处监控流量控制器的第一零点偏移(zerooffset)；在第一时间之后的第二时间处，监控流量控制器的第二零点偏移；及若累加的零点漂移(zerodrift)超过：流量控制器的全部的流量范围的大约百分之十(10percent)，发出服务警告，其中累加的零点漂移是第一零点偏移和第二零点偏移的总和。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：监控第一时间，在第一时间期间流量控制器进行操作；监控第二时间，在第二时间期间流量控制器进行操作；及若累加的工作寿命(operatinglifetime)超过第一临界数值，发出服务警告，其中累加的工作寿命是第一时间和第二时间的总和。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：在第一时间区间(period)中于第一时间间隔(interval)处，取样流量控制器的温度数值；及若从取样的温度数值中所计算出的标准差(standarddeviation)对于流量控制器的设定的温度数值超过临界数值，发出服务警告。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：利用第一取样率来取样：从位置控制器至流量控制器的可调整的阀的输出信号的数值；及若从取样的输出信号的数值中计算出的标准差对于输出信号的稳态设定点超过临界数值，发出服务警告。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：在流量控制器处于第一流量的情况下，在第一时间处监控流量控制器的第一参数或处理腔室的第二参数的至少一个的第一数值；在流量控制器处于第一流量的情况下，在第一时间之后的第二时间处监控：流量控制器的第一参数或处理腔室的第二参数的所述至少一个的第二数值；及从第一数值和第二数值的比较中，确定流量控制器或处理腔室的部件的至少一个的状态。在一些实施例中，监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法可包含以下步骤：在流量控制器处于第一流量的情况下，在相对应的多个时间中，监控流量控制器的第一参数或处理腔室的第二参数的至少一个的多个数值；从多个数值的两个或更多个数值的比较中，确定流量控制器或处理腔室的部件的至少一个的状态；及基于所述比较，设定流量控制器的第一参数或处理腔室的第二参数的所述至少一个为新的数值。本专利技术的其它和另外的实施例于后文中描述。附图简要说明本专利技术的实施例(简短地于上文中概括且于下文中更为详细地讨论)可通过参照描绘在附图中的本专利技术的示例说明性的实施例而理解。然而，注意到附图仅示例说明此专利技术的典型的实施例，因而不被认为限制本专利技术的范围，对于本专利技术可容许其它的同等有效的实施例。图1描绘根据本专利技术的一些实施例的基板处理系统。图2描绘根据本专利技术的一些实施例的用于耦合至处理腔室的流量控制器的原位校正的方法的流程图。图3至图5描绘根据本专利技术的一些实施例的用于监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法的流程图。为了促进理解，在可能的情况中已使用相同的元件符号，以指定给各图共享的相同的元件。图并未按照尺寸来绘制，并可加以简化以为了达到清楚的目的。考虑到一个实施例的元件和特征可被有利地并入其它的实施例中，而无需进一步的详述。具体描述在此公开一种用于基板处理的方法和设备。本专利技术的方法和设备可有利地提供流量控制器的较宽广的流量的范围，同时维持流量的准确性，每一流量控制器的仪器上校正、对于校正算法的远程更新的能力及流量控制器的状况监控。本专利技术的方法和设备进一步有利地限制仪器的停机时间(例如通过使用远程更新)，及通过使用流量控制器的状况监控来减少由于设备故障所造成的成本。本专利技术的方法和设备的其它和另外的优点于后文中讨论。图1描绘根据本专利技术的一些实施例的基板处理系统100。基板处理系统100可包含处理腔室102，处理腔室具有处理空间104。基板支撑件106可被设置在处理空间104中，以在基板处理系统100中进行处理期间支撑基板108。处理腔室102可为用于同时地处理基板及/或多个基板的任何适当的处理腔室。举例而言，处理腔室102可经配置以用于化学气相沉积(chemicalvapordeposition(CVD))、原子层沉积(atomiclayerdeposition(ALD))、物理气相沉积(physicalvapordeposition(PVD))、金属化学气相沉积(MCVD)、覆盖的深次-微米(deepsub-micron)化学气相沉积(blanketDSM-CVD)或任何适当的等离子体或非等离子体(non-Plasma)的促成(enabled)或增强(enhanced)的工艺的一种或多种，例如蚀刻、沉积、清洗或类似工艺。基板支撑件106可为任何适当的基板支撑件，所述基板支撑件用于与处理腔室102的任何适当的配置一同使用。基板支撑件106可包含基座、真空夹具、静电夹具或类似物的一或多个，以及基板支撑件106可包含部件114，例如加热器、RF电极、升降杆组件或类似物的一或多个。系统100可包含一或多个处理源以提供一或多个工艺参数本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法，包含以下步骤：在所述流量控制器处于第一流量的情况下，在第一时间处监控：所述流量控制器的第一参数或所述处理腔室的第二参数的至少一个的第一数值；在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下，在所述第一时间之后的第二时间处监控：所述流量控制器的所述第一参数或所述处理腔室的所述第二参数的所述至少一个的第二数值；及从所述第一数值和所述第二数值的比较中，确定所述流量控制器或所述处理腔室的部件的至少一个的状态。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.29 US 61/540,817;2012.09.26 US 13/627,6591.一种监控耦合至处理腔室的流量控制器的方法，包含以下步骤：在所述流量控制器处于第一流量的情况下，在第一时间处监控：所述流量控制器的第一参数或所述处理腔室的第二参数的至少一个的第一数值；在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下，在所述第一时间之后的第二时间处监控：所述流量控制器的所述第一参数或所述处理腔室的所述第二参数的所述至少一个的第二数值；及从所述第一数值和所述第二数值的比较中，确定所述流量控制器或所述处理腔室的部件的至少一个的状态。2.如权利要求1所述的方法，其中所述流量控制器的所述第一参数包含：流量控制器流量输出、流量控制器压力输出、流量控制器温度输出、流量控制器阀位置，或所述流量控制器的总氮等效流量输出中的一或多个，并且其中所述处理腔室的所述第二参数包含腔室压力或排气阀位置的一或多个。3.如权利要求1所述的方法，其中确定所述处理腔室的所述状态包含下列步骤的一或多个步骤：确定线路压力为增加或为减少，或确定线路温度为增加或为减少，其中所述线路被设置在所述流量控制器和气体源之间，而从所述气体源提供气体至所述流量控制器。4.如权利要求1所述的方法，其中监控所述第一数值的步骤进一步包含以下步骤：在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下，在所述第一时间处监控：流量控制器阀位置、所述流量控制器的总氮等效流量，及所述处理腔室的排气阀位置的所述第一数值。5.如权利要求4所述的方法，其中监控所述第二数值的步骤进一步包含以下步骤：在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下，在所述第二时间处监控：所述流量控制器阀位置、所述流量控制器的所述总氮等效流量，及所述处理腔室的所述排气阀位置的所述第二数值。6.如权利要求5所述的方法，其中若所述流量控制阀位置、所述流量控制器的所述总氮等效流量，及所述处理腔室的所述排气阀位置的每一个的所述第二数值高于：相对应的所述流量控制阀位置、所述流量控制器的所述总氮等效流量，及所述处理腔室的所述排气阀位置的每一个的所述第一数值，所述流量控制器为高流量的，而其中若所述流量控制阀位置、所述流量控制器的所述总氮等效流量，及所述处理腔室的所述排气阀位置的每一个的所述第二数值低于：相对应的所述流量控制阀位置、所述流量控制器的所述总氮等效流量，及所述处理腔室的所述排气阀位置的每一个的所述第一数值，所述流量控制器为低流量的。7.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包含以下步骤：基于所述比较，设定所述流量控制器的所述第一参数或所述处理腔室的所述第二参数的所述至少一个为新的数值。8.如权利要求1所述的方法，其中在所述流量控制器处于第一流量的情况下，在第一时间处监控所述流量控制器的第一参数或所述处理腔室的第二参数的至少一个的第一数值包含：监控所述流量控制器的第一零点偏移或第一时间的至少一个，在所述第一时间期间所述流量控制器不休眠；其中在所述流量控制器处于所述第一流量的情况下，在所述第二时间处监控所述流量控制器的所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：巴拉拉贝·N·穆罕默德，约翰·W·莱恩，麻里乌斯·格雷戈尔，丹·约瑟夫·希利，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US