光触媒键盘制造技术

技术编号:10187925 阅读:141 留言:0更新日期:2014-07-04 20:20
本发明专利技术公开了光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分:纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比1。涂层厚度在1到2毫米。键盘上的涂层是均匀分布。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分:纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比1。涂层厚度在1到2毫米。键盘上的涂层是均匀分布。【专利说明】光触媒键盘
本专利技术涉及光触媒键盘,属于光触媒

技术介绍
光触媒是一种纳米级的金属氧化物材料(二氧化钛比较常用),它涂布于基材表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达99.99 %,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污等功能。如何使光触媒与键盘结合是一个研究的课题。
技术实现思路
本专利技术的技术任务是针对现有技术的不足,提供一种光触媒键盘。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是: 光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分: 纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比I。涂层厚度在I到2毫米。键盘上的涂层是均匀分布。本专利技术的的有益效果是:本专利技术具有原料配伍合理、制备成本低,使用方便、清洁效果好等特点,由于采用了纳米二氧化钛作原料,可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。【具体实施方式】本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是: 光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分: 纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比I。涂层厚度在I到2毫米。键盘上的涂层是均匀分布。本专利技术的的有益效果是:本专利技术具有原料配伍合理、制备成本低,使用方便、清洁效果好等特点,由于采用了纳米二氧化钛作原料,可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。本专利技术具有原料配伍合理、制备成本低,使用方便、清洁效果好等特点,由于采用了纳米二氧化钛作原料,可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。以上所述,仅为本专利技术较佳的【具体实施方式】,但本专利技术的保护范围并不局限于此,任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内,根据本专利技术的技术方案及其专利技术构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。【权利要求】1.光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分: 纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。2.根据权利要求1所述的光触媒键盘,其特征在于:纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比1。3.根据权利要求1所述的光触媒键盘,其特征在于:涂层厚度在I到2毫米。4.根据权利要求1所述的光触媒键盘,其特征在于:键盘上的涂层是均匀分布。【文档编号】C09D5/14GK103903888SQ201210573712【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月26日 优先权日:2012年12月26日 【专利技术者】盖丽 申请人:大连林桥科技有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
光触媒键盘,其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层,涂层包含下列成分:纳米二氧化钛,纳米二氧化硅。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:盖丽
申请(专利权)人:大连林桥科技有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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