基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置。一种基板位置检测装置，其是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定的拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置，其具有：摄像装置，其设置得比上述窗靠上方，能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象；照明装置，其设置得比上述窗靠上方，能朝向上方照射光；照明反射板，其设置得比该照明装置靠上方，具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面；以及照明反射限制部，其设置在该照明反射板的上述反射面上，用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域上形成影。

【技术实现步骤摘要】
基板位置检测装置、基板处理装置和成膜装置本专利技术将2012年12月21日向日本专利局申请的特愿2012-279911作为基础申请，基于该申请主张优先权，并包含该申请的全部内容以作为参考。
本专利技术涉及一种基板位置检测装置、采用该检测装置的基板处理装置以及成膜装置。
技术介绍
以往，公知有如下基板位置检测装置，该基板位置检测装置具有：摄像部，其用于对作为位置检测对象的基板进行拍摄；光散射性的板构件，其配置于摄像部和基板之间，具有用于确保摄像部相对于基板的视场的第1开口部；第1照明部，其用于将光照射到板构件上；以及处理部，其用于根据摄像部拍摄到的基板的图像求出基板的位置（例如，参照日本特开2010-153769号公报）。日本特开2010-153769号公报所记载的基板位置检测装置配置于被形成在成膜装置的腔室的上表面的窗的上方，透过窗对腔室内的晶圆（基板）的位置进行检测。在日本特开2010-153769号公报所记载的基板位置检测装置中，板构件是由涂敷了白色颜料的丙烯板制造的，将光照射在板构件而使板构件发出白色光，从而使晶圆看起来是白色的。另一方面，用于载置晶圆的基座是由碳、SiC涂敷碳制造的，被来自板构件的光映照而看起来是黑色的，利用对比度能够清楚识别晶圆的边缘，从而能够减少检测误差。但是，在上述的日本特开2010-153769号公报所记载的基板位置检测装置中，存在如下问题：随着在腔室内的成膜的进行而在设置于腔室的窗的内侧也成膜，在膜是具有反射性的有色膜的情况下，窗会对光进行反射，从而图像的对比度降低。
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此，本专利技术的一个目的在于提供一种即使是在窗处于将光反射的状态的情况下也能够以高对比度对位于腔室内的拍摄对象进行拍摄、并能够检测基板位置的基板位置检测装置、采用该检测装置的基板处理装置以及成膜装置。用于解决问题的方案采用本专利技术的1个技术方案，提供一种基板位置检测装置，该基板位置检测装置是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置，其中，该基板位置检测装置具有：摄像装置，其设置得比上述窗靠上方，能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象；照明装置，其设置得比上述窗靠上方，能朝向上方照射光；照明反射板，其设置得比该照明装置靠上方，具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面；以及照明反射限制部，其设置在该照明反射板的上述反射面上，用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域形成影。采用本专利技术的另1个技术方案，其中，基板处理装置具有：基板处理用的腔室，其在上表面具有窗；基座，其设置于该腔室内，能够载置基板；以及上述基板位置检测装置，上述基座在上述第2标记的周边还具有切掉了上述基座的局部而成的第3标记。采用本专利技术的另1个技术方案，其中，成膜装置具有：腔室，其在上表面具有窗，用于进行成膜相关的基板处理；基座，其设置于该腔室内，能够载置基板；上述基板位置检测装置；第1处理区域，其设置于上述腔室内，能够供给第1反应气体；第2处理区域，其与该第1处理区域分开来设置，能够供给第2反应气体；分离区域，其设置于上述第1处理区域和上述第2处理区域之间，具有比上述第1处理区域和上述第2处理区域低的顶面，通过供给分离气体而能防止上述第1反应气体和上述第2反应气体的混合。采用本专利技术的另1个技术方案，其中，成膜装置具有：上述基板处理装置；第1处理区域，其设置于该基板处理装置的上述腔室内，能够供给第1反应气体；第2处理区域，其与该第1处理区域分开来设置，能够供给第2反应气体；分离区域，其设置于上述第1处理区域和上述第2处理区域之间，具有比上述第1处理区域和上述第2处理区域低的顶面，通过供给分离气体而能防止上述第1反应气体和上述第2反应气体的混合。专利技术的效果采用上述各实施方式，能够以高对比度对腔室内的拍摄对象进行拍摄，检测出基板位置。附图说明图1是表示包含本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置的基板处理装置的一个例子的图。图2是表示包含本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置的基板处理装置的一个例子的腔室的上表面的图。图3是表示包含本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置的基板处理装置的窗和腔室的孔之间的关系的放大图。图4A和图4B是表示实施方式1的基板位置检测装置的一个例子的照明反射板的反射面的结构的图。图5A、图5B以及图5C是表示对应于成膜的进行状态的基座标记的拍摄图像的图。图6A和图6B是表示实施方式1的基板处理装置的一个例子的腔室内的各标记的配置关系的图。图7A和图7B是表示将由实施方式1的基板位置检测装置得到的标记的拍摄图像与由以往的基板位置检测装置得到的拍摄图像相比较的图。图8A和图8B是表示将由实施方式1的基板位置检测装置得到的晶圆的边缘的拍摄图像与由以往的基板位置检测装置得到的拍摄图像相比较的图。图9是用于说明在本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置中用于防止晶圆产生反射的照明反射限制部的配置位置的设定方法的图。图10是用于说明在本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置中，用于防止照明反射限制部的窗产生反射的照明反射限制部的配置位置的设定方法的图。图11是表示本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置和基板处理装置的一个例子的各构成要素的配置的图。图12A和图12B是为了用于比较而表示的以往的基板处理装置的有色基座标记的对比度变化的一个例子的图。图13A和图13B是表示本专利技术的实施方式1的基板处理装置的切口基座标记的对比度变化的例子的图。图14A、图14B以及图14C是表示本专利技术的实施方式2的基板处理装置的一个例子的图。图15是表示本专利技术的实施方式3的成膜装置的立体图。图16是表示本专利技术的实施方式3的成膜装置的真空容器内的结构的概略俯视图。图17是表示沿着旋转台的同心圆的该真空容器概略剖视图，该旋转台能旋转地设置于本专利技术的实施方式3的成膜装置的真空容器内。图18是表示本专利技术的实施方式3的成膜装置的其他的概略剖视图。具体实施方式下面，参照附图，说明用于实施本专利技术的实施方式。（实施方式1）图1是表示包含本专利技术的实施方式1的基板位置检测装置的基板处理装置的一个例子的图。在图1中，实施方式1的基板位置检测装置170具有：作为照明工具或者照明装置的一个例子的照明120、照明反射板130、照相机140、壳体150、处理部160。此外，基板处理装置180除了基板位置检测装置170以外，还具有：腔室1、基座2、窗110、旋转轴22。另外，基板处理装置180也可以根据需要而包含在基板的处理中所必须的腔室1中的各种构成要素以及安装于腔室1的各种构成要素。此外，在图1中，表示了将作为位置检测对象的基板的一个例子的晶圆W。腔室1作为用于对晶圆W等基板进行处理的处理容器的一个例子。本实施方式的基板位置检测装置170能适用的腔室1是能适用能够成为窗110反射光的状态的所有的基板处理用的腔室，与腔室1内的基板处理内容无关。于是，基板处理装置180构成为能进行各种基板处理的装置。但是，在实施方式1中，为了便于说明，例举了腔室1构成为进行成膜处理的成膜腔室的例子来进行说明。如图1所示，腔室1由顶板11和容器主体12构成，可以构成为整体是密闭容器。需要说明的是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板位置检测装置，其是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定的拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置，其中，该基板位置检测装置具有：摄像装置，其设置得比上述窗靠上方，能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象；照明装置，其设置得比上述窗靠上方，能朝向上方照射光；照明反射板，其设置得比该照明装置靠上方，具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面；以及照明反射限制部，其设置在该照明反射板的上述反射面上，用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域上形成影。

【技术特征摘要】
2012.12.21 JP 2012-2799111.一种基板位置检测装置，其是自设置于基板处理用的腔室的上表面的窗对腔室内部的规定的拍摄对象进行拍摄、并能根据该规定的拍摄对象的图像检测出基板的位置的基板位置检测装置，其中，该基板位置检测装置具有：摄像装置，其设置得比上述窗靠上方，能自上述窗拍摄上述规定的拍摄对象；照明装置，其设置得比上述窗靠上方，能朝向上方照射光；照明反射板，其设置得比该照明装置靠上方，具有能将来自该照明装置的上述光朝向上述窗反射的反射面；以及照明反射限制部，其设置在该照明反射板的上述反射面上，用于在包含上述规定的拍摄对象在内的规定区域上形成影。2.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其中，上述照明反射板设置得比上述摄像装置靠下方，具有用于确保上述摄像装置的拍摄视场的开口部。3.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其中，上述照明反射限制部的位置被设定成，使得以利用上述摄像装置拍摄的图像的视场作为基准而将上述影形成在上述规定区域上。4.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其中，上述规定的拍摄对象包含被设置于上述腔室的底面的第1标记。5.根据权利要求4所述的基板位置检测装置，其中，上述腔室收容有能够载置基板的基座，上述规定的拍摄对象包含设置于上述基座的表面的第2标记。6.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其中，上述规定的拍摄对象包含用于保持上述基板的基板保持部与上述基板的交界部分。7.根据权利要求6所述的基板位置检测装置，其中，上述基板保持部包含自上述腔室内搬出上述基板时所采用的输送臂的拾取件。8.根据权利要求5所述的基板位置检测装置，其中，上述基座能够载置多张上述基板，上述第2标记对应于所能载置的多张上述基板的每一个而设置有多个。9.根据权利要求5所述的基板位置检测装置，其中，上述基座是石英制成的，上述第2标记是有色的标记。10.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其中，上述腔室是使用气体而能成膜的成膜腔室。11.根据权利要求10所述的基板位置检测装置，其中，上述成膜腔室能够进行具有反射性的有色膜的成膜。12.一种基板处理装置，其中，具...

【专利技术属性】
技术研发人员：相川胜芳，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP