一种涂布机喷嘴清洁装置制造方法及图纸

技术编号:10133780 阅读:128 留言:0更新日期:2014-06-16 12:18
本发明专利技术公开了一种涂布机喷嘴清洁装置。所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置,所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔,所述去胶溶剂供应装置与所述去胶溶剂供应孔连接以供应去胶溶剂至所述凹槽内,所述凹槽的底壁上设置有排液孔,所述排液装置与所述排液孔连接。通过去胶溶剂溶解残留在喷嘴上的光刻胶,并经排液孔将其排出,顺畅地清除残留在喷嘴上的光刻胶。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种涂布机喷嘴清洁装置。所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置,所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔,所述去胶溶剂供应装置与所述去胶溶剂供应孔连接以供应去胶溶剂至所述凹槽内,所述凹槽的底壁上设置有排液孔,所述排液装置与所述排液孔连接。通过去胶溶剂溶解残留在喷嘴上的光刻胶,并经排液孔将其排出,顺畅地清除残留在喷嘴上的光刻胶。【专利说明】一种涂布机喷嘴清洁装置
本专利技术属于液晶显示器制造的线性涂胶
,特别涉及一种涂布机喷嘴清洁装置。
技术介绍
目前,在显示面板的生产过程的光刻胶涂胶工艺中,普遍使用线性光刻胶涂布机(狭缝涂布机)。光阻涂布过程中普遍存在凝胶问题。即光阻涂布完成后,部分光刻胶残留在喷嘴尖端和周围。当喷嘴尖端处于不清洁状态下进行涂布会形成缺陷,并严重影响产品良率。一般在进行每片玻璃的光刻胶涂布前,会使用橡胶作为喷嘴的清洁材料。但是由于橡胶的吸水性差,以橡胶清洁喷嘴无法将多余的光刻胶清除。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供一种涂布机喷嘴清洁装置,其可以清除残留在喷嘴上的光刻胶。本专利技术通过如下技术方案实现:一种涂布机喷嘴清洁装置,其中,所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置,所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁上设置有去胶 溶剂供应孔,所述去胶溶剂供应装置与所述去胶溶剂供应孔连接以供应去胶溶剂至所述凹槽内,所述凹槽的底壁上设置有排液孔,所述排液装置与所述排液孔连接。作为上述技术方案的进一步改进,所述凹槽的两个侧壁上均设置有多个所述去胶溶剂供应孔。作为上述技术方案的进一步改进,所述凹槽的两个相对的侧壁上分别设置有至少一排去胶溶剂供应孔和至少一排去胶溶剂供应孔,所述至少一排去胶溶剂供应孔和所述至少一排去胶溶剂供应孔沿所述清洁器的长度方向排列。作为上述技术方案的进一步改进,所述排液孔与喷嘴的光刻胶喷出孔在竖直方向上不重叠。作为上述技术方案的进一步改进,所述凹槽的底壁上设置有一排或两排所述排液孔。作为上述技术方案的进一步改进,所述清洁器的凹槽与喷嘴之间具有匹配间隙。作为上述技术方案的进一步改进,所述去胶溶剂供应孔沿所述清洁器的长度方向设置有一排或两排。作为上述技术方案的进一步改进,所述清洁器的长度与所述喷嘴的长度相等。作为上述技术方案的进一步改进,所述清洁器为橡胶清洁器。作为上述技术方案的进一步改进,所述去胶溶剂供应装置包括容纳去胶溶剂的压力罐,所述压力罐经管道与所述去胶溶剂供应孔连接,所述排液装置包括真空泵,所述真空泵经管道与所述排液孔连接,所述排液装置还包括废液罐,所述真空泵与所述废液罐连接。本专利技术的有益效果是:所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器、去胶溶剂供应装置、排液装置,所述清洁器具有与喷嘴匹配的凹槽,所述凹槽的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔,所述凹槽的底壁上设置有排液孔,通过去胶溶剂溶解残留在喷嘴上的光刻胶,并经排液孔将其排出,顺畅地清除残留在喷嘴上的光刻胶。【专利附图】【附图说明】图1是根据本专利技术的一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的示意图;图2是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视示意图;图3是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视立体示意图;图4是图1的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器的仰视示意图;图5是根据本专利技术的另一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的示意图;图6是根据本专利技术的再一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器与喷嘴配合状态的透视立体示意图;图7是根据本专利技术的又一个具体实施例的涂布机喷嘴清洁装置的仰视示意图。【具体实施方式】以下结合附图对本专利技术的【具体实施方式】进行进一步的说明。如图1至图4所示,本专利技术的涂布机喷嘴清洁装置在清洁器的两侧内壁上设置去胶溶剂供应孔202、去胶溶剂供应孔204,在底壁上设置一排排液孔206。但本专利技术不限于此,例如在图7所示的实施例中,在底壁上设置两排排液孔206。如图2所示,所述清洁器200的凹槽210与喷嘴100之间具有匹配间隙600,该匹配间隙600可用作清洗空间和去胶溶剂的流通路径,将去胶溶剂供应孔202、去胶溶剂供应孔204与排液孔206连通。当完成玻璃涂布而回到原点清洁时,将该橡胶清洁器升起,与整个喷嘴两侧和底部平行贴合,其间留少量缝隙(即匹配间隙600)。通过高压管道将去胶溶剂供应孔204与容纳去胶溶剂的压力罐302连接,将去胶溶剂高压喷射到喷嘴100的两侧,残留的光刻胶在高压的去胶溶剂下冲洗溶解。而排液孔206与真空泵504连接,通过真空泵504将去胶溶剂及溶解的光刻胶迅速排出。另外,本专利技术的涂布机喷嘴清洁装置的清洁器长度制作成和喷嘴一样长(即和玻璃的短边一样长)。由于不需要行走玻璃的短边这样长的距离,所以当喷嘴回到原点后,清洁器直接升起,可以在很短的时间内(例如I秒内)完成清洁,能够缩短喷嘴清洁的时间。本专利技术的涂布机喷嘴清洁装置可以减少由涂布过程中产生的凝胶问题造成的缺陷,提高玻璃基板的品质,减少清洁喷嘴的时间,提高整个涂布的单件工时。在图5所示的实施例中,所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器200、去胶溶剂供应装置300、排液装置500。所述清洁器200具有与喷嘴100匹配的凹槽210。清洁时,喷嘴100的端部容纳在凹槽210内。所述凹槽210的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔202。所述去胶溶剂供应装置300与所述去胶溶剂供应孔202连接以供应去胶溶剂至所述凹槽210内。所述凹槽210的底壁上设置有排液孔206。所述排液装置500与所述排液孔206连接。上述的去胶溶剂例如为溶剂油和橙油。上述的去胶溶剂也可以为酒精。在图1所示的实施例中,所述凹槽210的两个侧壁上均设置有多个去胶溶剂供应孔。如图2至图4所示,所述凹槽210的一个侧壁设置有一排去胶溶剂供应孔202,另一侧壁设置有一排去胶溶剂供应孔204。如图6所示,在一个实施例中,所述去胶溶剂供应孔204沿所述清洁器200的长度方向设置有两排。如图2所示,所述排液孔206与喷嘴100的光刻胶喷出孔102在竖直方向上不重叠(不在一条直线上)。由此,能够良好地溶解喷嘴100的光刻胶喷出孔端部的光刻胶。其中,优选的是,所述清洁器200的长度与所述喷嘴100的长度相等,由此可以缩短清洁时间。所述清洁器200可以为橡胶清洁器。如图1所示,所述去胶溶剂供应装置300包括容纳去胶溶剂的压力罐302,所述压力罐302经管道与所述去胶溶剂供应孔202连接。所述压力罐302与所述去胶溶剂供应孔202之间设置有阀门304。所述排液装置500包括真空泵504。所述真空泵504经管道与所述排液孔206连接。所述真空泵504与所述排液孔206之间设置有阀门502。所述排液装置500还包括废液罐506,所述真空泵504与所述废液罐506连接。由此,可以迅速地将溶解了光刻胶的去胶溶剂排出至废液罐506。另外,所述去胶溶剂供应装置400包括容纳去胶溶剂的压力罐402,所述压力罐402经管道与所述去胶溶剂供应孔204连接。所述压力罐402与所述去胶溶剂供应孔204之间设置有阀门404。与图1所示实施例相比较,在图5所示的实施例中没有设置去胶溶剂供应装置400。所述去胶溶剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布机喷嘴清洁装置,其特征在于,所述涂布机喷嘴清洁装置包括清洁器(200)、去胶溶剂供应装置(300)、排液装置(500),所述清洁器(200)具有与喷嘴(100)匹配的凹槽(210),所述凹槽(210)的侧壁上设置有去胶溶剂供应孔(202),所述去胶溶剂供应装置(300)与所述去胶溶剂供应孔(202)连接以供应去胶溶剂至所述凹槽(210)内,所述凹槽(210)的底壁上设置有排液孔(206),所述排液装置(500)与所述排液孔(206)连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张岳妍
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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