涂料及其制备方法及涂料所形成的薄膜技术

一种涂料及其制备方法及涂料所形成的薄膜。涂料包含有机硅氧烷聚合物及与有机硅氧烷聚合物键结的中孔硅材料。有机硅氧烷聚合物的聚合单体为中孔硅材料的表面具有亲水基团。制备方法包含下列步骤：提供有机硅氧烷聚合物，该有机硅氧烷聚合物由多个有机硅氧烷聚合，每一有机硅氧烷具有末端官能基；提供中孔硅前驱物，该中孔硅前驱物具有表面官能基；在溶液中掺混有机硅氧烷聚合物及中孔硅前驱物，使表面官能基与末端官能基反应产生键结，且中孔硅前驱物形成中孔硅材料，该材料的表面具有亲水基团。薄膜由涂料形成，厚度为0.1μm至500μm。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种涂料及其制备方法及涂料所形成的薄膜。涂料包含有机硅氧烷聚合物及与有机硅氧烷聚合物键结的中孔硅材料。有机硅氧烷聚合物的聚合单体为中孔硅材料的表面具有亲水基团。制备方法包含下列步骤：提供有机硅氧烷聚合物，该有机硅氧烷聚合物由多个有机硅氧烷聚合，每一有机硅氧烷具有末端官能基；提供中孔硅前驱物，该中孔硅前驱物具有表面官能基；在溶液中掺混有机硅氧烷聚合物及中孔硅前驱物，使表面官能基与末端官能基反应产生键结，且中孔硅前驱物形成中孔硅材料，该材料的表面具有亲水基团。薄膜由涂料形成，厚度为0.1μm至500μm。【专利说明】涂料及其制备方法及涂料所形成的薄膜【
】本专利技术涉及一种涂料，特别是关于涂料的组成、其制备方法及其形成的薄膜。【
技术介绍
】近年来，为了增加植物的产量，常会将植物摆放于温室之内，并在温室内架设灯具，来控制植物的光照时间。然而，一般架设温室所使用的薄膜在隔热性上较差，这会导致温室内部的温度过高,而需要额外的空调系统来冷却,而增加了生产成本。一般而言，为了制造隔热系数较高的薄膜，常见的方法是在聚乙烯(polyethylene, PE)膜或者聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate, PET)膜上涂上一层涂料，借助涂料的高隔热性，而提高聚乙烯膜或者聚对苯二甲酸乙二酯膜整体的隔热能力。在隔热材料的选择上，中孔硅材料似乎可用以解决一般薄膜隔热效果不佳的问题。由于中孔硅材料的固体粒子之间的接触少，并且孔洞的大小小于分子之间碰撞的平均自由程。因此，中孔硅材料可以限制热传导的路径，进而降低气体的热传导。然而，由于中孔硅材料的成膜性不佳，因而如何将中孔硅材料应用于隔热薄膜已成为研究人员需要解决的问题。除此之外，一般常用的薄膜还有透光性不佳、容易凝结水滴的问题。这会导致植物的光照量不足，而需要额外的灯具，增加了生产成本。【
技术实现思路
】本专利技术涉及一种涂料及其制备方法及利用涂料所形成的薄膜，由此解决现有技术中中孔硅材料不易制成薄膜的问题，并且提供一种高隔热、高透光以及抗流滴的薄膜。根据上述本专利技术一实施例所公开的涂料，包含有机硅氧烷聚合物以及中孔硅材料。有机硅氧烷聚合物的聚合单体如公式I所示【权利要求】1.一种涂料，包含: 有机硅氧烷聚合物，该有机硅氧烷聚合物的聚合单体如公式I所示， 2.如权利要求1所述的涂料，其中该有机硅氧烷聚合物为包含一种具有公式I的单体作为组成的均聚物。3.如权利要求1所述的涂料，其中该有机硅氧烷聚合物为包含至少二种具有公式I的单体作为组成的共聚物。4.如权利要求1所述的涂料，其中该有机硅氧烷聚合物的重量百分比为50被％至80wt%,该中孔硅材料的重量百分比为20wt%至50wt%，其中该中孔硅材料的重量百分比以及该中孔硅材料的重量百分比以该有机硅氧烷聚合物与该中孔硅材料的总重为基准。5.如权利要求1所述的涂料，其中该中孔娃材料的粒径大小为IOnm至lOOOnm。6.如权利要求1所述的涂料，其中该中孔硅材料的比表面积>1000cm2/g。7.如权利要求1所述的涂料，其中该中孔硅材料的孔隙率>50%。8.如权利要求1所述的涂料，其中该中孔硅材料还包括中孔纳米硅粒子。9.如权利要求8所述的涂料,其中该中孔纳米娃粒子的重量百分比为10wt%至60wt%,该中孔纳米硅粒子的重量百分比以该中孔硅材料的总重为基准。10.如权利要求1所述的涂料，其中该亲水基团为醚基、酯基或磺酯基。11.一种涂料的制备方法，包含: 提供有机硅氧烷聚合物，该有机硅氧烷聚合物由多个有机硅氧烷聚合而成，每一该有机硅氧烷具有末端官能基； 提供中孔硅前驱物，该中孔硅前驱物具有表面官能基；以及 掺混该有机硅氧烷聚合物以及该中孔硅前驱物于溶液中，使该表面官能基与该末端官能基反应产生键结，并且使该中孔硅前驱物形成中孔硅材料，该中孔硅材料的表面具有亲水基团。12.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该末端官能基为硅氧烷基、甲基丙烯酸甲酯基、环氧基、乙烯基、氟烷或卤素。13.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该有机硅氧烷聚合物为一种该有机硅氧烷的均聚物。14.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该有机硅氧烷聚合物为至少二种该有机硅氧烷的共聚物。15.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该表面官能基为氢氧基。16.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该有机硅氧烷聚合物是经由溶胶凝胶法制备而成。17.如权利要求16所述的涂料的制备方法，其中制备该有机硅氧烷聚合物的反应的pH值为O至5。18.如权利要求16所述的涂料的制备方法，其中制备该有机硅氧烷聚合物的反应温度为 10°C至 40°C。19.如权利要求16所述的涂料的制备方法，其中制备该有机硅氧烷聚合物的反应时间为0.5小时至5小时。20.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中该中孔硅前驱物是经由溶剂萃取法制备而成。21.如权利要求20所述的涂料的制备方法，其中制备该中孔硅前驱物的反应的pH值为-1至5。22.如权利要求20所述的涂料的制备方法，其中制备该中孔硅前驱物的反应温度为10°C至 80°C。23.如权利要求20所述的涂料的制备方法，其中制备该中孔硅前驱物的反应时间为0.5小时至3小时。24.如权利要求11所述的涂料的制备方法，其中在掺混该有机硅氧烷聚合物以及该中孔硅前驱物于溶液，使该表面官能基与该末端官能基反应产生该键结前，还包括制备中孔纳米娃粒子。25.如权利要求24所述的涂料的制备方法，其中该有机硅氧烷聚合物及该中孔硅前驱物与该中孔纳米硅粒子混合并进行反应。26.如权利要求25所述的涂料的制备方法，其中该反应温度为100°C至200°C。27.如权利要求25所述的涂料的制备方法，其中该反应时间为I小时至5小时。28.一种薄膜，其中该薄膜由权利要求1所述的涂料所形成，该薄膜的厚度为0.Ιμm至500 μ m29.如权利要求28所述的薄膜，其中该薄膜的透光度>80%。30.如权利要求28所述的薄膜，其中该薄膜与水的接触角<40度。31.如权利要求28所述的薄膜，其中该薄膜与水的接触角<20度。32.如权利要求28所述的薄膜，其中该薄膜与水的接触角<10度。【文档编号】C09D7/12GK103834300SQ201210570706【公开日】2014年6月4日 申请日期:2012年12月25日 优先权日:2012年11月23日【专利技术者】苏育央, 温俊祥, 黄国栋, 吕奇明, 杨智仁 申请人:财团法人工业技术研究院本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂料，包含：有机硅氧烷聚合物，该有机硅氧烷聚合物的聚合单体如公式1所示，（公式1）；以及中孔硅材料，其与该有机硅氧烷聚合物键结；其中，R各自独立且为烷基，n为大于等于1的正整数，X为硅氧烷基、甲基丙烯酸甲酯基、环氧基、乙烯基、氟烷或卤素，该中孔硅材料的表面具有亲水基团。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：苏育央，温俊祥，黄国栋，吕奇明，杨智仁，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71